Внешняя поверхность - пленка
Cтраница 3
ЛДИф - коэффициент диффузии; kc - постоянная скорости химической реакции образования пленки ( соединения металла с действующим реагентом); с0 - концентрация действующего реагента на внешней поверхности пленки; t - время. [31]
Но так как изменение скорости в шлаковой пленке по выражению ( 68) носит параболический характер, то в нижней части стены горячий шлак, расположенный непосредственно у внешней поверхности пленки преобладает в общей массе шлака. [32]
 |
Изменение профильных потерь и углов выхода потока в зависимости. [33] |
Повышение степени дисперсности жидкой фазы приводит к снижению потерь, обусловленных взаимодействием фаз, а также потерь на трение в пограничных слоях в связи со снижением интенсивности волнового движения на внешней поверхности пленок под влиянием ОДА. [34]
Предполагается, что непосредственного реагирования свободного кислорода с углеродом не происходит, а имеет место восстановительная реакция углекислоты с раскаленной поверхностью углерода, с образованием окиси углерода, диффундирующей к внешней поверхности застойной пленки и догорающей за счет поступающего из среды кислорода. [35]
Re / ( x) / p, не отличается от комплекса PW & / H, где ш - средняя скорость жидкости в пленке, б - толщина пленки, если пренебречь потоком испарения с внешней поверхности пленки. [36]
Эти предпосылки таковы: течение пленки имеет ламинарный характер; силы инерции, возникающие в пленке, пренебрежимо малы по сравнению с силами вязкости и веса; конвективный перенос тепла в пленке, а также теплопроводность вдоль нее малы по сравнению с теплопроводностью поперек пленки; трение конденсата о пар отсутствует; температура внешней поверхности пленки равна температуре насыщенного пара; плотность и коэффициент теплопроводности н вязкости конденсата от температуры не зависят. [38]
Ход потенциала на схемах I, в и II, в объясняется тем, что электроны ( схема /, в) из объема окисной пленки переходят как на внешнюю ее поверхность, так и в металл; в другом случае ( схема / /, в) электроны, наоборот, переходят из металла в окис-ную пленку, а оттуда уже в большем количестве - на внешнюю поверхность пленки. [39]
 |
Изменение я и tc по длине вертикаль-ной трубы в области ухудшения теплоотдачи. [40] |
ЖИДКОСТРГ ( представляющей основное тепловое сопротивление, как и при конвекции однофазной жидкости) имеет малую толщину, а в ядре потока движется пар с большой скоростью. Внешняя поверхность пленки имеет волнистый характер. Вследствие этого капли жидкости срываются паром и уносятся в ядро потока. По мере увеличения х пленка утончается, волнообразование и, следовательно, срыв капель прекращаются. [41]
Модель Васана и Алювалья [63] как бы развивает идею Левеншпиля и Уолтона. Тепло от внешней поверхности пленки передается элементам газового потока, подходящим к ней из ядра слоя и уходящим через некоторое время обратно. При этом задача нестационарной теплопроводности через элемент объема газа решается аналитически. Среднее время контактирования последнего с пленкой прини - - мается исходя из расстояния между частицами и скорости фильтрации газа. Как и в [73], сделано, допущение о неподвижности частиц, причем принято идеализированное кубическое размещение их в слое. Расстояние между частицами берется как функция порочности псевдоожи-женного слоя. [42]
 |
Схематическое изображение поликристаллической пленки, напыленной. [43] |
Часто оказывается, что отношение реальной величины поверхности металла ( например, измеренной по адсорбции газа) R к геометрической поверхности пленки больше единицы. Объясняется это тем, что внешняя поверхность пленки и в атомном, и в более крупном масштабе не гладкая и что из-за наличия щелей между кристаллитами в пленке имеются поры. Ширина таких щелей обычно может достигать примерно 2 нм. Однако при толщине пленки более 50 нм кристаллиты не изолированы полностью друг от друга и почти вся подложка практически покрыта металлом. [44]
 |
Атомные и ионные радиусы ( по Паулингу. [45] |
Страницы: 1 2 3 4 5