Параболический закон - рост
Cтраница 3
Как правило, приводятся решения для параболического закона роста слоя. В тех же случаях, когда в эксперименте наблюдается отличный от параболического закон роста, обычно ограничиваются изысканием причин, вызывающих такое отклонение. [31]
Линейный ход этих зависимостей свидетельствует о применимости для описания кинетики твердофазовых реакций уравнения Яндера. Это является, по-видимому, следствием формального перенесения закономерностей, описывающих твердофазовые реакции в плоских слоях ( параболический закон роста слоя продукта) на случай сферической диффузии. [32]
Начальная стадия возникновения прослойки химического соединения на границе Т - Ж изучена слабо. Практически в результате шероховатости поверхности паяемого металла, несовершенств кристаллической решетки, зерен и других дефектов химическое соединение образуется сначала в отдельных центрах контакта, вдоль межфазной границы с последующим образованием сплошной прослойки, которая затем растет по толщине. Параболический закон роста прослоек химических соединений при фронтальном их продвижении во многих случаях является первым приближением, так как часто по фронту роста прослойки наблюдаются отдельные ее выступы, растущие со скоростью выше средней. [33]
Изучая реакцию между никелем и окисью алюминия, Меган и Харрис [23] отжигали образцы на воздухе. Насколько важно условие насыщения матрицы для выполнения параболического закона роста, показано в работе [35], которая уже обсуждалась в разд. [34]
Закон роста пленки в этом случае зависит от скорости наиболее медленной стадии. Для тонких пленок скорость окисления тормозит, как правило, перенос ионов в электрическом поле пленки, чему соответствует и логарифмический закон роста толщины пленки во времени. При диффузионном контроле и подводе окислителя к фронту реакции характерен параболический закон роста толщины пленки. [35]
Окисел CrsO3 считается нестехиометрическим по металлу. При толщине окисной пленки 0 5 - 4 2 мкм имеет место параболический закон роста. При большой толщине пленка утрачивает свои защитные свойства из-за слабой связи с металлом. [36]
Реакция Си8 е чьСи протекает очень легко, а потому присутствие этих двух катионов в закиси меди способствует беспрепятственному прохождению электронов. Поэтому данный окисел обладает также и высокой электронной проводимостью. Так как уже было показано, что проводимость окисла Q является важным определяющим фактором для параболического закона роста, то слой закиси меди растет быстрее, чем слой окисла с составом, более близким к стехиометрическому. [37]
В интервале температур 1033 - 1311 К эта зависимость линейна; она подчиняется уравнению Аррениуса k Лехр ( - QIRT), где А и Q - постоянные величины. При пониженных температурах экспериментальная величина k оказывается меньше, чем следует из уравнения Аррениуса. Можно предположить, что это указывает на некоторое изменение граничных условий, которое сопровождается отклонениями от параболического закона роста. Этот эффект обсуждается в разделе, посвященном механизму роста слоя диборида. [38]
 |
Кинетика газово коррозии при линейном ( /, параболическом ( 2 и логарифмическом ( 3 законах окисления. [39] |
Если пленка очень тонкая ( л - - 0), то первый член уравнения значительно меньше второго. Поэтому, пренебрегая первым членом уравнения, мы приходим к линейному закону роста пленки. Если же толщина пленки велика, то, пренебрегая вторым членом уравнения, мы приходим к параболическому закону роста пленки. [40]
Образцы, каждый из которых содержал по два волокна, были изготовлены диффузионной сваркой в течение от 20 до 40 с. Диффузионный отжиг был проведен при температурах 923, 973, 1023, 1073, 1123, 1273 и 1323 К. После-отжига выбранной продолжительности толщина реакционной зоньк составляла 1 - 10 мкм и зависимость ее от корня из времени отвечала параболическому закону роста. Результаты [2] были представлены в координатах Аррениуса. Несмотря на разброс данных, была построена прямая по методу наименьших квадратов. [41]
Цирконий до 600 С имеет параболический закон роста. При 600 - 985 С рост окисла происходит только по кубическому закону. Однако с увеличением выдержки более 15 мин при 985 С имеет место линейный закрн роста, вероятно, вследствие интенсивного растворения кислорода в цирконии, при 1100 С снова имеет место параболический закон роста окисиой пленки. [42]
Особенности вакуумного силицирования тугоплавких металлов - тантала, молибдена и вольфрама исследованы также в работах [ 12, с. Насыщение вели в насыщенных парах кргмния ( контакт частиц кремния с металлом был исключен) при остаточном давлении в реакционной камере 1 10 - 5 мм рт. ст. и температурах 1200, 1250 и 1350 С. Рентгенографическим и металлографическим анализами было установлено, что внешние толстые слои диффузионной зоны представляют дисилициды соответствующих металлов, а глубже расположены тонкие слои низших силицидов. При температурах 1200 и 1250 С для всех металлов наблюдался параболический закон роста диффузионных слоев со временем, причем скорость доставки кремния к поверхности металла влияла только на абсолютные толщины слоев, но не на закон их роста. Слои диси-лицидов и низших силицидов на молибдене и вольфраме были компактными и толщина их равномерна по всей поверхности. В фазе TaSi2 наблюдались включения силицида Ta5Si3, кристаллы которого были вытянуты перпендикулярно к слою дисилицида в направлении диффузии кремния. Такое расположение Ta5Si3 позволило предположить, что эта фаза не возникает внутри TaSi2 вследствие выделения, а образуется при диффузии кремния на границе раздела Ta5Si3 - TaSi2 - Был сделан вывод, что при насыщении тантала ( и других металлов) кремнием вначале появляются низшие силициды, а затем они переходят в высшие. [43]
Ни одно из этих упрощений не выполняется в композитном материале, хотя предположение о неизменности граничных условий необходимо при выводе параболического закона роста. Могут появиться и другие осложнения, вызванные многофазностью продукта реакции. Для математического описания процесса были рассмотрены два допущения. Предполагалось, что первоначально металл насыщен неметаллом в одном случае и не насыщен в другом. Ожидаемый параболический закон роста реакционного слоя получается при первом допущении, а при втором закон роста оказывается сложнее. [44]
Страницы: 1 2 3