Поле - дефект
Cтраница 1
Поле дефекта Яд ( см. рис. 42) возникает над сварным швом на фоне ослабленного внешнего поля Нш и, суммируясь с ним, создает местное приращение напряженности ЯШ ЯД, которое фиксируется на магнитной ленте, прижатой к поверхности контролируемого сварного шва. [1]
Поле дефекта зависит от его параметров: ширины 2Ь, глубины h и координат точек наблюдения. Увеличение 2Ь и h приводит к усилению поля дефекта, причем ширина раскрытия оказывает значительно большее влияние, чем глубина. В [32] отмечается, что нормальная компонента поля прямо пропорциональна ширине и глубине дефекта и обратно пропорциональна квадрату рабочего зазора. Для дефекта с сильно сжатыми стенками увеличение зазора приводит к резкому снижению поля рассеяния на расстоянии 3 - 10 мм. [2]
Поле дефектов существенно зависит от характера распределения и величины приложенного намагничивающего поля Н0 и индукции по толщине стенки трубы. При неоднородном намагничивании изделий наружные и внутренние дефекты имеют поле рассеяния значительно меньшей величины, чем при однородном. [3]
Поле дефекта Яд, как и любого другого потенциального поля, может быть представлено в виде градиента скалярного потенциала: Яд - - qrad ср. [4]
Причем поле дефекта обусловлено составляющими тока, протекающего параллельно граням дефекта. [6]
Наличие поля дефекта четко фиксировалось появлением интерференционной картины. Однако количественные данные о величине поля дефекта по смещению интерференционных полос получить не удалось, так как наблюдаемая интерференционная картина была неустойчива, с течением времени вспучивания магнитной жидкости, обусловленные действием поля дефекта, вырождались в практически ровную поверхность. [7]
Напряженность поля дефектов определяется не только его размерами, формой и расположением, но и магнитными характеристиками материала, а именно индукцией дифференциальной и нормальной магнитными проницае-мостями в магнитном состоянии соответствующем режиму контроля. [8]
Топография поля зубчатого дефекта по сравнению с полем дефекта, аппроксимированного ленточным диполем, имеет ряд характерных особенностей. Нормальная - компонента поля слабо зависит от изменения параметров дефекта - его глубины и ширины раскрытия. Вблизи поверхности на расстоянии 0 05 - 0 1 мм составляющие поля имеют дополнительные экстремумы в окрестностях углов, образованных зубцами и впадинами. [9]
Яд ( поле дефекта), но и внешнее намагничивающее поле, подмагничивающее ленту. [11]
Для регистрации поля дефекта применяется также эластичная ферромагнитная масса, которая выполнена в виде ролика. Эластичные магнитные ленты разработаны в СССР [52, 53], однако промышленный выпуск их не был освоен. [12]
Под действием поля дефекта ферромагнитные частицы, намагничиваясь, поворачиваются вдоль потока магнитной индукции и приобретают ускорение, сообщаемое им затягивающей силой. Частицы концентрируются на тех участках, где интенсивность магнитных силовых линий вблизи поверхности изделия максимальна. На перемещение частиц влияет также вязкость жидкости, что вызывает торможение и замедление движения частиц. [13]
Выражение (5.47) связывает поле дефекта с параметрами электрического сигнала, снимаемого с м-агнитной головки при магнитографической дефектоскопии. [14]
Установлено, что поле дефекта зависит от того, под каким углом намагничивающее поле направлено к дефекту. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5