Приложенное магнитное поле - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 3
Лучшее средство от тараканов - плотный поток быстрых нейтронов... Законы Мерфи (еще...)

Приложенное магнитное поле

Cтраница 3


Например, если неоднородность приложенного магнитного поля в пределах образца превышает естественную ширину линии I / YJ. Другим источником неоднородного уширения является неразрешенная тонкая структура, сверхтонкая структура, а также дипольное взаимодействие между спинами с различными ларморовскими частотами.  [31]

Взаимодействие химических веществ с приложенным магнитным полем является существенной частью в четырех основных методах: измерение магнитной восприимчивости, спектроскопия ядерного магнитного резонанса, спектроскопия электронного парамагнитного резонанса и масс-спектрометрия. В настоящее время эти методы используются главным образом для структурных исследований, но каждый из них можно применять для количественных определений.  [32]

Для контроля деталей в приложенном магнитном поле может быть применен ток любой формы, так как при этом на магнитный порошок будет действовать стабильное магнитное поле, соответствующее амплитудному значению намагничивающего тока.  [33]

Контроль лопаток проводят в приложенном магнитном поле, но отдельные зоны на пере лопатки проверяют способом остаточной намагниченности.  [34]

Согласно кривым рис. 8, небольшое приложенное магнитное поле оказывает значительно большее воздействие на величину затухания для феррита с небольшим отношением остаточной индукции к индукции насыщения. Как видно из этих кривых, отношение обратного затухания к прямому значительно увеличивается при наличии небольшого приложенного поля. При напряженности поля 35 эрст отношение обратного затухания к прямому достигает величины 100: 1, которая может считаться необычайно большой, учитывая, что не принималось особых мер, ставящих своей целью получение оптимального вентиля. При увеличении напряженности приложенного поля максимум характеристики обратного затухания перемещается в направлении более высоких частот, что находится в полном соответствии с приведенным выше уравнением для вычисления частоты ферромагнитного резонанса.  [35]

Зависимость снимаемого сигнала от величины приложенного магнитного поля характеризуется пороговым значением Нц и максимальным значением Нмакс, которые зависят от параметров датчика и выбираются соответственно рабочей области.  [36]

Зависимость намагниченности ферромагнетиков / от приложенного магнитного поля Н имеет нелинейный и неоднозначный характер. Такое поведение ферромагнетиков в магнитном поле обусловлено существованием в них доменов - областей спонтанной ( самопроизвольной) намагниченности, объем и ориентация намагниченности которых изменяются под действием внешнего поля. Этот процесс называют техническим намагничиванием. Равновесная магнитная структура ферромагнетика определяется из условия минимума энергии тела в целом, с учетом его формы и размеров.  [37]

38 Ориентация доменных границ и. [38]

Способ формирования доменных структур в приложенном магнитном поле был использован в тонких магнитных пленках с толщиной менее 1 мкм. Их фундаментальным свойством является магнитная анизотропия, определяющая тип магнитной структуры. В пленках с перпендикулярной к поверхности магнитной анизотропией возможно образование круглых ЦМД путем приложения поля вдоль оси легкого намагничивания.  [39]

Комбинированное намагничивание осуществляется только в приложенном магнитном поле, циркулярное и полюсное можно применять как в приложенном магнитном поле, так и на остаточной намагниченности.  [40]

Осаждение происходит при контроле в приложенном магнитном поле, а иногда и на остаточной намагниченности. Интенсивность осаждения порошка зависит не только от марки стали, но и от номера плавки. Это осаждение отличается характерной направленностью по волокнам.  [41]

Контроль содержания остаточного аустенита осуществляется в приложенном магнитном поле по величине намагниченности насыщения. Кольца с различным содержанием аустенита, помещенные в соленоид, магнитное поле которого приводит их в состояние, близкое к магнитному насыщению, соответственно вызывают различные поля рассеяния.  [42]

Контроль дефектов магнитной суспензией проводят в приложенном магнитном поле или при остаточном намагничивании детали.  [43]

44 Положение электромагнита при.| Положение электромагнита при. [44]

Контроль шлицев вала винта проводят в приложенном магнитном поле электромагнита, входящего в комплект переносного дефектоскопа 77ПМД - ЗМ.  [45]



Страницы:      1    2    3    4    5