Получение - рельеф
Cтраница 3
В этих маленьких приборах обыкновенный снимок ландшафта или группы рассматривается через увеличительное стекло одним глазом. Этого уже достаточно для получения рельефа; иллюзию обыкновенно усиливают еще тем, что некоторые предметы переднего плана вырезаются отдельно и помещаются впереди фотографии; глаз наш очень чувствителен к рельефности ближайших предметов и не столь восприимчив к более далеким рельефам. [31]
Подкисленная перекись водорода, содержащая растворимые бромиды, оказывает восстанавливающее действие ( в фотографическом смысле этого слова) на серебряное изображение проявленной пластинки или отпечатка, а также размягчает и растворяет желатину на тех участках, где имеется изображение. Этот эффект используется для получения желатинового рельефа, который может найти применение для механического воспроизведения. Сама перекись водорода большим применением как общий фотовосстановитель не пользуется; для этой цели широко используется пероксодисульфат аммония. [32]
Различная твердость фаз часто может быть использована как дополнительное средство для их определения. Вообще при полировке следует избегать получения рельефа методами, указанными ниже, но этот эффект также может служить полезным методом исследования. При применении соответствующей техники полировки одна из фаз может стать рельефной, а другая нет. Иногда очень ценные данные о твердости различных фаз может дать наблюдение ширины царапины на травленом шлифе. Например, может случиться, что в сплаве, содержащем три фазы - А, В и С, полированном и протравленном для выявления микроструктуры, на протравленной поверхности остались слабые царапины. Если ширина царапины остается почти неизменной по ширине при переходе из Л в В, но царапины делаются заметно тоньше при переходе из Л в С или из В в С, то это указывает, что С намного тверже, чем Л и В. [33]
В чистых известняках или доломитах рекомендуют применять технологию кислотного гидроразрыва. Раствор кислоты или кислотной эмульсии закачивают в объеме 3 5 - 4 м3 на 1 м перфорации при максимально возможных дебитах для получения хорошо выраженного рельефа растворения и для образования путей фильтрации с максимальной проницаемостью, которые будут сохраняться открытыми за счет саморасклинивания. [34]
Высокий рельеф выполняют в виде накладных деталей, макетируемых отдельно и устанавливаемых затем либо на специально подготовленные площадки, либо на подходящие места фоновой поверхности. Низкий рельеф макетируют ( вытягивают) из материала фоновой поверхности. Если получение низкого рельефа связано с набором большого количества материала ( например, при значительном перепаде высот), его детали также можно макетировать отдельно. Затем их накладывают на фоновую, поверхность и стыки заглаживают. Способ формирования рельефа на макете выбирают в зависимости от реальной технологии изготовления. Высокий рельеф получают сборкой по отдельности изготовленных деталей, низкий - литьем, штамповкой. [35]
Травление представляет собой удаление поверхностного слоя не механическим, чаще всего химическим, путем. Его применяют для получения максимально ровной бездефектной поверхности пластин, не достижимой механическими способами обработки, удаления SiO2 и других слоев с поверхности. Локальное травление используется для получения необходимого рельефа поверхности, формирования рисунка тонкопленочных слоев, а также масок. [36]
При многослойном монтаже в производстве больших ИС резистный микрорельеф, полученный с помощью фотолитографии, может выполнять функцию межслойной изоляции. Однако по условиям технологии одновременно с этим он должен быть термостойким - выдерживать температуру до 500 С. Слои многих фоторезистов обладают электроизоляционными свойствами ( а. Однако для получения термостойкого рельефа необходимо применять специальные полимеры. Полиамидокислоты в растворах неустойчивы и склонны к гидролизу. Изучению их синтеза и свойств посвящено большое число работ. При нагревании они претерпевают внутримолекулярную циклизацию, приводящую к образованию имидных циклов в цепи полимера. Полиимиды отличаются высокой термостойкостью, отличными механическими, электроизоляционными, а также пленкообразующими свойствами. При реакции полиимидов с основными аминами ( этилендиамин, гидразин) происходит ре-циклизация, сопровождающаяся разрывом полимерной цепи, вследствие чего резко повышается растворимость полимера. [37]
Когда гравюра готова, матрицу закаливают и затем ею выдавливают рельефный рисунок на другом, отпущенном стальном валике-молете. Для этого матрицу и молету помещают в подшипники так называемого молетирного пресса и туго прижимают друг к другу. При вращении валиков на молете получается рельефный рисунок. Однако для получения хорошего рельефа одного давления недостаточно. Поэтому после нескольких оборотов в прессе выпуклые места рисунка покрывают специальной мастикой и молету обрабатывают азотной кислотой, которая действует лишь на углубленные участки, не защищенные покрытием. Обработка азотной кислотой и прессование повторяют несколько раз, затем молету закаливают и выдавливают ею гравюру на печатном валу. [38]
При многослойном монтаже в производстве больших ИС резистный микрорельеф, полученный с помощью фотолитографии, может выполнять функцию межслойной изоляции. Однако по условиям технологии одновременно с этим он должен быть термостойким - выдерживать температуру до 500 С. Слои многих фоторезистов обладают электроизоляционными свойствами ( а. Однако для получения термостойкого рельефа необходимо применять специальные полимеры. Полиамидокислоты в растворах неустойчивы и склонны к гидролизу. Изучению их синтеза и свойств посвящено большое число работ. При нагревании они претерпевают внутримолекулярную циклизацию, приводящую к образованию имидных циклов в цепи полимера. Полиимиды отличаются высокой термостойкостью, отличными механическими, электроизоляционными, а также пленкообразующими свойствами. При реакции полиимидов с основными аминами ( этилендиамин, гидразин) происходит ре-циклизация, сопровождающаяся разрывом полимерной цепи, вследствие чего резко повышается растворимость полимера. [39]
 |
Зависимость свойств алюминиевых пленок от температуры подложки. [40] |
Тонкопленочные интегральные схемы в чистом виде применяют очень редко, так как методами тонкопленочной технологии можно изготовить только пассивные элементы ограниченных номиналов. На схеме показаны этапы изготовления пленочных микросхем масочным способом. Наряду с этим методом все большее применение находят методы получения рельефа микросхемы с помощью фотолитографии. [41]
Страницы: 1 2 3