Применение - маска
Cтраница 1
Применение масок и фильтра не снижает точности измерений и дает возможность с короткого расстояния измерить величину радиационного потока как от всей поверхности пламени, так и от отдельных его локальных участков. [1]
Применение масок не очень эффективно при наличии сферической аберрации, так как геометрическая тень точечного предмета имеет вид радиальной линии, являющейся проекцией аксиальной каустики. Она становится малой лишь в том случае, если предмет расположен на оси, но в электронной оптике нельзя, пользуясь прозрачной подложкой, помещать малые предметы в середине поля. [2]
Применение масок и фильтра не снижает точности измерений и дает возможность с короткого расстояния измерить величину радиационного потока как от всей поверхности пламени, так и от отдельных его локальных участков. [3]
Применение маски дает возможность проверять не весь байт, а только его часть. Один блок сравнения на 8 разрядов обеспечивает 256 х 256 64 386 видов проверок путем задания любых из возможных кодов и масок. Этот метод не ограничен какой-либо системой команд или конкретными алгоритмами микропрограмм. Он может быть рекомендован для широкого использования в системах, для которых микропрограммы разрабатываются самими пользователями. Его применение позволяет также значительно экономить ячейки памяти, так как в данном случае всегда имеет место ветвление только на 2 направления: либо по найденному искомому коду, либо по всем остальным кодовым комбинациям, в результате чего занимаются всего 2 ячейки памяти. Применение других методов, например, метода функционального перехода, используемого в моделях IBM / 360, ведет к большому расходу ячеек, так как в этом случае в одном из них кодируется реакция на искомый код, а во всех других - одно и то же противоположное действие. Пусть, например, необходимо выполнить одно действие при состоянии счетчика 0101 и другое при всех прочих его состояниях. Если ветвление производится путем модификации адреса присвоением значения счетчика некоторым четырем разрядам кода адреса БОП, то занимается 16 ячеек, из которых 15 служат для организации выполнения одного и того же действия, и только ячейка с адресом 0101 предназначена для запланированного. [4]
Применение масок целесообразно в тех случаях, когда условия напыления требуют высокой температуры, а указанная точность удовлетворяет требованиям, необходимым для работы микросхем. [5]
Применение плоских и вращающихся масок возможно в больших автоматических системах, где маска размещается между флюсом и рабочей частью, изолируя площадки, на которые флюс не должен попадать. Однако количество флюса, скапливающегося на этих масках, и необходимость непрерывной их очистки делают такое использование дор огостоящим. [6]
Идея применения маски состоит в том, что если при монтаже использоиать маску для межкадрового перехода, то через черные места маски будет видно изображение расположенное на дорожке Видео IA. [7]
 |
Комбинационная схема, реализующая метод V-считывания.| Развертка кодовой маски для циклического кода. [8] |
В случае применения маски обычного двоичного кода преобразование углового перемещения в код может сопровождаться недопустимо большими ошибками. [9]
Цифры, характеризующие применение маски в одной из современных ЭВМ, таковы: самая короткая команда занимает 1 цикл ЗУ, средняя команда - 4 цикла, команды маскирования и снятия маски - от 3 до 5 циклов, самая длинная непрерываемая команда - 22 цикла. В этой машине программа может установить маску, выполнить 16 команд, снять маску и все еще оставаться непрерываемой в течение времени, которое меньше времени, связанного с выполнением одной команды. Представляется разумным, чтобы ОС не маскировала прерывания на всех уровнях больше, чем на время выполнения самой длинной непрерываемой команды. [10]
 |
Схема механизированного нанизывания сердечников на провод. / - бункер. 2 - провод. 3 - сердечники. 4 - стол. 5 - шестерня. [11] |
Таким образом, применение масок ( трафаретов) позволяет прошивать коврики как с параллельным, так и с взаимно перпендикулярным расположением сердечников. Однако присутствие масок затрудняет механизацию процесса прошивки. [12]
Дополнительные затраты, связанные с применением маски, окупаются тем, что для пайки требуется меньше припоя и можно использовать медные печатные проводники без оловянисто-свинцового или какого-либо другого покрытия. [13]
Проводят селективное травление пластины с применением фоторезистивной маски, после чего пластину оксидируют ( рис. 3.9 6) и на оксидной пленке наращивают эпитаксиальный слой поликристаллического кремния ( рис. 3.9 г), который применяют в качестве подложки ИМС. В образовавшейся структуре монокристаллические области гг-типа оказываются изолированными друг от друга оксидной пленкой. С помощью планарной технологии в этих участках формируют области базы и эмиттера БТ. [14]
Повышение допуска до 10 % значительно удорожает процесс вследствие необходимости применения прецизионных масок. [15]
Страницы: 1 2 3 4