Применение - маска
Cтраница 2
 |
Пассивные элементы пленочных микросхем. с - резистор. б - конденсатор.| Схема подкол-пачного устройства установки вакуумного напыления. [16] |
Геометрия элементов в плане ( размеры а и 0 обеспечивается применением масок и слабо зависит от физической природы процесса. [17]
Получение заданных размеров и формы р - rt - перехода достигается применением масок. Рассмотренные методы применяют также для получения в кристалле областей с различной величиной удельной проводимости. [18]
Текст, выштампованный на пластинке, может быть использован в различных комбинациях путем применения различных масок; аакрывающих ту часть текста, которая не должна быть напечатана. [19]
 |
Маско - и подложкочержатели, предназначенные для использования прямоугольных стеклянных подложек [ 41. [20] |
Некоторые затруднения при изготовлении масок из стекла или металла легко преодолеваются с помощью применения масок из проволочной сетки. Этот метод, разработанный Ваймером [14] основан на применении тонкой нихромовой проволоки ( диаметром около 0 04 мм), которая крепится в непосредственной близости у поверхности подложки. Ширина полосы, закрываемой проволокой от потока осаждающихся частиц, соответствует диаметру этой проволоки, рис. 6, а. Проволока должна находиться от поверхности подложки на расстоянии менее 0 025 мм. На направление потока испаряющегося вещества не должны оказывать воздействия высокое остаточное давление в вакуумной системе и близость расстояния между источником испарения и подложкой. Кроме того, не должно иметь места явление рассеяния, обусловленное коэффициентом сцепления, меньшим единицы, или повышение температуры подложки. [21]
В процессоре применяется еще один эффективный метод выполнения проверок - анализы путем сравнения с эталоном с применением маски [ а. Эталон и маска задаются микропрограммно полями РКС и РМС в такте выполнения анализа. Регистр микрокоманд показан условно в виде операционного поля и поля константы. В операционном поле выделены поля ПРВ и Б последнее содержит коды анализов. В поле константы выделены поля РКС и РМС. [22]
Однооперационные установки осуществляют однослойное напыление как сплошных слоев, так и пленок с рисунком заданной конфигурации в случае применения масок ( гл. Напыление на этих установках называется напылением с разрывным циклом. После операции напыления одного материала необходима разгерметизация установки и смена маски в случае масочного напыления. [23]
Средством предупреждения этого дефекта является такой выбор направления пайки, чтобы на его пути было наименьшее число поперечин, или же применение паяльной маски. Можно, конечно, изменить конструкцию платы. [24]
Основным методом получения металлических пленок является вакуумное осаждение ( термическое испарение в вакууме) различных металлов ( алюминий, золото и др.), так как оно обладает рядом преимуществ: чистотой и воспроизводимостью процессов напыления, высокой производительностью, возможностью напыления на полупроводниковые пластины одного или нескольких металлов за одну операцию, и сплавления напыленной пленки металла в вакууме для предохранения ее от окисления, легкостью контролирования процесса напыления и возможностью получения пленок металла различной толщины и конфигурации при напылении металлов с применением масок. [25]
Применение масок и фильтра не снижает точности измерений и дает возможность с короткого расстояния измерить величину радиационного потока как от всей поверхности пламени, так и от отдельных его локальных участков. [26]
Галлий не замещает кремния, так как энергия его связи с кислородом меньше, чем кремния, меньшим является также его ионный радиус. Применение масок из SiO2 составляет основу современной приборной пла-нарной технологии. [27]
При сварке этим автоматом сварщик наблюдает за процессом через смотровое стекло защитной камеры. При этом применение маски не требуется. Настроенный на автоматический режим сварки методом СК автомат работает следующим образом: при включении механизма колебаний электрод начинает совершать колебательные движения поперек шва. Одновременно включаются механизмы подачи электродной проволоки и передвижения электрода по глубине разделки. Сложение двух движений ( колебательных и передвижения по глубине разделки) обеспечивает сложные колебания электрода соответственно профилю разделки кромок. В момент достижения электродом положения у корня шва или раскрытия разделки подается автоматическая команда на реверсирование механизма перемещения электрода и включение привода тележки для передвижения автомата на толщину наплавляемого слоя. Команда подается с помощью конечных выключателей, которые включаются в зависимости от установленного хода электрода по глубине разделки в соответствии с толщиной свариваемого металла. [28]
Жалюзийная решетка закладывается в откидывающуюся переднюю крышку прожектора. Другой прием - применение масок - наиболее пригоден при освещении небольших объектов или фрагментов зданий. Отверстие в непрозрачной маске вырезается так, чтобы ограничить световой пучок прожектора контурами освещаемого объекта. [29]
Один из способов обеспечить соответствие вводимых данных - это создать маску ввода, которая служит в качестве шаблона для ввода данных. Хорошими кандидатами на применение маски ввода являются поля, которые должны иметь определенную длину ( пятизначные ID-идентификаторы, например) или тип данных, либо поля, которые включают обязательные символы, такие как наклонная черта, запятая или тире. Когда вы переходите к полю, чтобы ввести в него данные, отображается маска ввода, указывающая, какие данные необходимо вводить. Ниже показано, как использовать маску ввода, которая помогает вам вспомнить, какие данные должно содержать поле. [30]
Страницы: 1 2 3 4