Cтраница 1
Производство интегральных микросхем наиболее эффективно при изготовлении большими партиями и объемами выпуска. [1]
Интегральные схемы СВЧ. а гибридные. б полупроводниковая. [2] |
Производство СВЧ интегральных микросхем: и их применение неразрывно между собой связаны. Налаживание серийного выпуска СВЧ микросхем с большим набором различных функциональных характеристик зависит от их широкого внедрения в комплексах радиоаппаратуры. [3]
В производстве интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, получаемых приемами планарной технологии, особое место занимают процессы фотолитографии, включающие такие операции, как химическая обработка пластин, нанесение и сушка фоторезиста, совмещение рисунка фотошаблона и экспонирование, проявление фоторезиста, травление окислов и металлов, удаление фоторезиста и контроль. [4]
В производстве интегральных микросхем для бытовой радиоаппаратуры используют первые два вида электронной технологии: полупроводниковые и гибридные микросхемы. [5]
Конструктивно-технологические процессы производства интегральных микросхем разделяют на толстопленочные, тонкопленочные и полупроводниковые. В соответствии с этим микросхемы подразделяются на пленочные интегральные микросхемы и полупроводниковые. [6]
Способы получения тонких пленок и области их применения. [7] |
Рассмотрим технологию производства интегральных микросхем и аппаратуру, изготовляемую на их базе. [8]
Прогресс в области технологии производства интегральных микросхем неуклонно продолжается - на очереди переход микроэлектроники в наноэлектронику, в которой размер отдельного элемента интегральной схемы исчисляется уже не микрометрами, а нанометрами. При этом функциональные возможности микропроцессоров и построенных на них микро - ЭВМ возрастут не в тысячу раз, а гораздо больше, поскольку закон возрастания этих возможностей нелинеен по отношению к увеличению плотности монтажа электронных компонентов в кристалле полупроводника. [9]
По мере перехода к производству интегральных микросхем с большой степенью интеграции ( БИС) каждая интегральная микросхема может заменять один или более схемных модулей, применявшихся в ранее созданных вычислительных машинах, и обладает потенциально более высокой безотказностью при условии, что качество производства достаточно высоко, а логические функции и электрические свойства конструкции корректны во всех ситуациях. [10]
Ряд технологических процессов в производстве интегральных микросхем основан на непосредственном соприкосновении различных фаз и переходе при этом соответствующих компонентов из одной фазы в другую или перемещении компонентов в пределах одной фазы. [11]
Химический состав свинца различных марок. [12] |
ЛО мкм, которая применяется в производстве интегральных микросхем, и фольгу толщиной до 0 08 мкм. Такая фольга используется в болометрах. [13]
Схема иодидного метода эпитаксиального наращивания монокристаллических пленок германия с заданным типом проводимости и график температурного перепада. [14] |
Особое значение эпитаксиальное наращивание имеет в производстве интегральных микросхем, когда необходимо получать монокристаллические пленки из полупроводникового материала с заданным типом проводимости на зародышевом кристалле, оказывающем ориентирующее влияние на рост пленки. [15]