Процесс - химическое растворение
Cтраница 2
 |
Обобщенная схема анод ной поляризационной кривой. [16] |
Скорость процесса не зависит от потенциала в довольно широком диапазоне, определяясь скоростью процесса химического растворения пленки в электролите. [17]
Имеются некоторые данные по кинетике роста трещин в ртути ( см. рис. 62), для которой были отмечены области I и II роста трещин. Возможно, что по аналогии с другими средами в области I роста трещин происходит процесс химического растворения, ускоряемого напряжением. Такое поведение может быть объяснено при использовании анализа, предложенного в работе [221], после получения данных по кинетике процесса. [18]
Результаты расчетов показывают, что величина OS / TO может принимать, в зависимости от условий, весьма разнообразные значения: в некоторых случаях она близка единице, а в некоторых достигает десятков тысяч. При анализе зависимостей, приведенных на рис. 5.13, нужно иметь в виду две группы процессов - процессы химического растворения относительно чистых продуктов, для которых время полного растворения измеряется минутами и процессы выщелачивания рудного сырья, для которых время полного растворения дости-тает нескольких часов. Для процессов первой группы допустимы отношения 6S / T порядка 100, для процессов второй группы эти отношения не должны превышать нескольких единиц. Горизонтальные линии на рис. 5.13 соответствуют этим предельно допустимым значениям GS / TO: сплошная линия ( 65 / т0 5) относится к процессам второй группы, пунктирная ( 65 / т 100) - к процессам первой группы. Несмотря на очевидную условность положения этих линий, они облегчают анализ результатов расчета и могут помочь в ориентировочном выборе диапазона приемлемых значений некоторых технологических параметров. [19]
При напылении на поверхность алюминиевой или титановой фольги последнюю подвергают обезжириванию и осветляющей химической обработке, имеющей целью полное или частичное растворение слоя окислов, неизменно присутствующих на поверхности фольги. В некоторых случаях для лучшего растворения окисной пленки целесообразно предварительно подвергнуть поверхность фольги пескоструйной обработке или механической чистке металлической щеткой; такая обработка приводит к механическому разрушению окисной пленки и облегчает процесс химического растворения ее. Следует отметить, что удаление окисной пленки с поверхности фольги не только повышает прочность связи ее с напыляемым слоем, но и значительно облегчает последующий процесс диффузионной сварки. [20]
 |
Структура оксидной пленки из алюминия, полученной анодированием.| Схема формирования анодной оксидной пленки. [21] |
Электролит должен иметь хорошую электропроводность и должен растворять слабые места пленки для обеспечения контакта с алюминием. В пленке должны образовываться каналы. Вместе с тем процесс побочного химического растворения в электролите основной массы пленки должен быть незначительным. [22]
Общий объем пустотного пространства в породе-коллекторе называется пористостью. Пустотное пространство горных пород составляют поры, мелкие каналы, каверны и трещины. Пористость пород может быть обусловлена как процессами седиментации, так и процессами химического растворения. [23]
Чем она меньше, тем сильнее торможение и тем при меньших предельных толщинах наступает полная пассивность и прекращение роста барьерной пленки. При химическом растворении внешней поверхности пассивной пленки может установиться равновесие между процессом химического растворения пассивной пленки с ее поверхности и анодным процессом ее роста. [24]
Торможение этого процесса будет зависеть от ионной проводимости ( катион-ной и анионной) в пассивной пленке. Чем меньше ионная проводимость в пленке, тем сильнее торможение и тем при меньших предельных толщинах пленки наступает полная пассивность и прекращение роста пленки. При наличии химического растворения внешней поверхности пассивной пленки может установиться равновесие между процессом химического растворения пассивной пленки с ее поверхности и анодным процессом ее роста. Соотношение в скоростях прямого перехода ионов металла в раствор или через последующее химическое растворение анодно образующегося оксида, может сильно изменяться в зависимости от характера проводимости пленок, электрического поля и химической устойчивости пленки в данных условиях. [25]
При поляризации положительное точек в3 и е4 достигается область, в которой, так же как и для предыдущих растворов, наблюдается линейная зависимость логарифма плотности тока от потенциала. Поэтому можно полагать, что на этом участке анодное растворение идет не путем непосредственного образования ионов металла низшей валентности, а через промежуточный процесс образования окисной пленки и последующего ее химического растворения. Однако в отличие от вертикальных участков пассивного состояния основной тормозящей ступенью на участках в-с является не процесс химического растворения окисной пленки в кислоте, а электрохимический процесс анодного образования окисной пленки. Таким образом, при значительном содержании хлор-ионов наступление окисной пассивности не приводит к устойчивому пассивному состоянию, но фиксируется лишь как увеличение анодной поляризуемости по достижении потенциалов, соответствующих потенциалу полного пассивирования. [26]
Кинетика и механизм процессов растворения и выщелачивания определяются структурой и составом растворяемого минерала, характером химических связей в его кристалле, а также целым комплексом физико-химических свойств растворителя. Растворение минералов состоит из стадий подвода частиц растворителя к поверхности минерала, собственно взаимодействия растворителя и минерала и отвода продуктов реакции от поверхности раздела фаз. По характеру взаимодействия минерала и растворителя процессы растворения и выщелачивания грубо классифицируют: 1) процессы так называемого простого или физического растворения и 2) процессы химического растворения, обусловленные химическим взаимодействием между растворяемым веществом и растворителем при протекании реакций: а) обмена, б) окисления - восстановления, в) нейтрализации, г) комплексообразова-ния. Эта классификация довольно условна, так как процессы растворения и выщелачивания представляют собой сложные явления. [27]
Температура электролита при электроизвлечении сурьмы в основном зависит от нагрузки на ванну и тепловых потерь в окружающую среду. Колебания ее довольно резкие: 327 - 329 К в зимние месяцы, 338 - 343 К - в летние. А между тем, было установлено, что при повышении температуры электролита на 1 его электропроводность увеличивается на 3 %, но одновременно с этим ускоряется процесс обратного химического растворения сурьмы и ухудшаются условия труда. [28]
Таким образом, процесс химического растворения соответствует DLA-модели. В данном случае волна разрушения распространяется под действием давления воды. Флуктуации давления вызывают образование фрактальной структуры на фронте волны разрушения. Этот процесс имеет то же математическое описание, что и процесс роста фрактального кластера на нити в DLA-режиме. [29]
Однако существует следующее условное разграничение. Растворение, происходящее при химическом взаимодействии растворителя с растворимым веществом, принято называть химическим. Их принципиальное различие состоит в том, что процесс физического растворения является обратимым ( поскольку возможна обратная кристаллизация твердого вещества из раствора), а процесс химического растворения необратим. [30]
Страницы: 1 2 3