Жидкостный процесс

Cтраница 2

Реакционная, аппаратура непрерывного действия для газовых и жидкостных процессов, не требующих постоянного обслуживания: реакторы процессов дегидрирования, гидрирования ( в открытых кабинах), реакторы синтеза углеводородов из окиси углерода и водо рода, реакторы трубчатые процессов разложения гидроперекисей, реакторы окислительные тарельчатые и типа барботажных кОлонн, реакторы термохлорирования, реакторы термического дегидрирования, реакторы фотохимического и темнового хлорирования и сульфохлорирования, алкилаторы, ацетиленовые реакторы, реакторы-нейтрализаторы, реакторы с электрообогревом для прямого синтеза хлорсиланов. В зависимости от рабочих условий и тепловой инерции аппаратов допускается размещение в зданиях, в отдельных закрытых кабинах, в специальных неотапливаемых укрытиях. [16]

Для очистки газа от кислых компонентов применяют жидкостные процессы, процессы адсорбционной очистки и прямого окисления. [17]

Для очистки газа от кислых компонентов применяют жидкостные процессы и процессы адсорбционной очистки. [18]

Для очистки газа от кислых компонентов применяют жидкостные процессы, процессы адсорбционной очистки и прямого окисления. [19]

Используется в системах с природным газом и в газовых и жидкостных процессах. [20]

Активная составляющая нагрузки среды создается в технологических процессах ультразвуковой обработки, а также в части жидкостных процессов. [21]

Схема горелки печи для синтеза хлороводорода.| Камерный реактор с центробежным перемешиванием газовой смеси. [22]

Поэтому процессы в жидкой фазе чаще проходят в диффузионной области, чем газовые, и именно для интенсификации жидкостных процессов решающее значение имеет перемешивание. Перемешивание обеспечивает также получение однородных физических смесей и интенсификацию теплообмена. [23]

В настоящее время нет адекватных моделей для описания подобных гидродинамических систем [4], поэтому основой проработок выделения включений на ограничивающую поверхность э жидкостных процессах является теоретико-экспериментальный подход. [24]

Следует отметить, что процессам сухого травления присущи определенные недостатки, к числу которых относится сложность и высокая стоимость оборудования по сравнению с жидкостным процессом, подтравливание при плазмохимическом травлении и нарушение поверхности при ионном травлении, снижение технологичности процесса из-за неконтролируемого травления у границы резист-полупроводник вследствие искажения потенциала и трудностей фиксации момента окончания процесса травления слоя. Однако эти недостатки не перекрывают тех преимуществ, которые обеспечивают методы сухого травления: высокое разрешение, хорошая воспроизводимость результатов травления элементов с субмикронными размерами. [25]

Схема установки метанирования. [26]

Типичным примером применения этого процесса может быть удаление небольших количеств остаточных окиси и двуокиси углерода из водорода после конверсии СО и абсорбции двуокиси углерода жидкостными процессами. Процесс пригоден для очистки газовых потоков, содержащих не более 2 % мол. При надлежащих условиях реакция протекает почти нацело и выходящие газы содержат лишь несколько десятитысячных долей процента кислородных соединений углерода. Особенно важна реакция метанирования как ступень процесса Фишера-Тропша; значение этой реакции применительно к процессам очистки газа гораздо меньше. Тем не менее метанирование играет важную роль как метод получения газовых потоков, содержащих весьма низкие концентрации кислорода, окиси и двуокиси углерода. [27]

Жидкостные процессы не вытеснили сухие способы, которые продолжают развиваться, так как им свойственны многие преимущества, среди которых, например, более высокая степень очистки. [28]

Абсорбция С02 в растворах гидроокиси, коэффициент аб-натрия - карбоната натрия. сорбции возрастает с уве. [29]

Сиборд-процесс [12] разработан фирмой Копперс в 1920 г. и основан на абсорбции сероводорода разбавленным раствором карбоната натрия с последующей регенерацией этого раствора воздухом. Это первый регенеративный жидкостный процесс очистки от H2S, нашедший широкое промышленное применение. [30]

Страницы: 1 2 3 4