Cтраница 2
Величина работы выхода твердых тел зависит от их структуры и является физической характеристикой тела. Чем меньше у данного проводника работа выхода, тем меньшей должна быть затрата энергии для получения свободных электронов вне этого проводника. [16]
![]() |
Электроположительные и электроотрицательные атомы образуют на поверхности проводника положительно ( а и отрицательно ( б заряженные слои. [17] |
Величина работы выхода твердых тел зависит от их структуры и является физической характеристикой тела. В табл. 1 - 1 приведены значения работы выхода для некоторых проводников. [18]
Значит, величину работы выхода можно найти, измеряя зависимость фототока от частоты и экстраполируя график к нулевому значению силы тока. Однако пересечение кривой на этом графике с осью / четко определяется только при ОК, так что при более высоких температурах можно получить лишь приближенное значение порога. [19]
Тем не менее если величины работы выхода для участков, обнаруживающих высокую начальную эмиссию, стали бы сравнимы, например, с работой выхода плоскостей ( 110), то эти последние плоскости заметно участвовали бы в общей эмиссии и можно было бы отметить некоторое ее дальнейшее уменьшение. К счастью, эмиссия с плоскостей ( 100) начинается при достаточно малом заполнении, что делает их пригодными для наблюдения во время адсорбции. По-видимому, плоскости ( 211) и ( НО) не проявляют подобной тенденции вследствие более высоких величин работы выхода по сравнению с величиной 4.65 эв. [20]
В табл. 2 - 1 даны величины работ выхода металлов, используемых в электронной технике. [21]
В таблице XVI дается несколько примеров величины работы выхода. [22]
![]() |
Зависимости работ выхода электронов на различных кристаллографических гранях от температуры нагревания для системы кислород - вольфрам. [23] |
Константы этого уравнения находятся путем подстановки в него величины работы выхода грани ( 111) обычного чистого вольфрама, равной 4 4 эв. [24]
Даже малые изменения этих энергий, вызываемые колебанием величины работы выхода катода или значений контактных потенциалов, связанных с изолирующими отложениями, могут оказывать очень сильное влияние на результаты исследования смесей. [25]
Таким образом, с точки зрения воздействия на величину работы выхода фэ, растворенные в воде кислоты и окислители подобны акцепторным примесям в полупроводниках, а основания и восстановители выполняют роль донорных примесей. При этом раствор нейтральных солей оказывается аналогичным скомпенсированному полупроводнику. Заметим, однако, что такая аналогия справедлива только при сравнении термодинамических свойств полупроводников и водных растворов. Влияние же примесей на электропроводность этих веществ совершенно различно. Действительно, в отличие от полупроводников, все ионизованные примеси в водных растворах являются носителями заряда. Поэтому концентрация носителей противоположного знака в таких растворах одинакова и, как правило, увеличивается при введении любой из ионизирующихся примесей. [26]
Такая зависимость указывает на регулирование поверхностной концентрации 02 величиной работы выхода. [28]
При нагревании твердых тел электроны, энергия которых превышает величину работы выхода, начинают переходить в вакуум и образуют поток электронов. Этот поток называется током термоэлектронной эмиссии, так как его величина зависит от температуры. Ток термоэлектронной эмиссии зависит от величины термодинамической работы выхода. С умельшением работы выхода увеличивается ток термоэлектронной эмиссии. [29]
Основное влияние на плотность тока термоэлектронной эмиссии при заданной температуре оказывает величина работы выхода, которая очень сильно зависит от типа металла. Наибольшей эмиссионной способностью обладают металлы с малой работой выхода. [30]