Cтраница 4
Формулы ( 1) 4 ( 3) отличаются друг от друга только входящими в них постоянными коэффициентами, херактеривую дими природу атомов металла, а вввисимостьсз мот величины работы выхода - линейная. [46]
Анализ экспериментальных данных, которые были рассмотрены в разделе IV, приводит к выводу, что характер и степень электронного взаимодействия между поверхностью металла и адсорбированной молекулой зависят от следующих факторов: величины работы выхода с поверхности металла, структуры адсорбирующей плоскости кристалла, энергии диссоциации в случае молекул, содержащих два одинаковых атома, сродства к электрону адсорбирующихся молекул, асимметрии электронной конфигурации адсорбирующихся молекул, наличия неспаренных и я-электронов и стерическими эффектами. [47]
Выше шла речь о средних покрытиях, однако при неполных покрытиях, как это явствует из рис. 16, в - и, имеет место резко выраженная неоднородность поверхности острия в отношении величин работы выхода. [48]
Оксидными называются катоды, которые становятся активными лри нанесении на поверхность их металлических оснований ( кернов) окислов различных металлов, частично восстанавливаемых При откачке и приобретающих свойства полупроводников с характерной для них М алой величиной работы выхода. [49]
Величина работы выхода зависит от химической природы металла и состояния его поверхности. [50]
Различия в работе выхода наблюдаются не только для различных граней чистого металлического кристалла; они обусловлены также наличием адсорбированных пленок или монослоев газов. Поскольку величина работы выхода в степени 3 / 2 фигурирует в экспоненте уравнения Фаулера - Нордгейма ( уравнение 4), изменения % всего лишь на сотые доли электрон-вольта вызывают заметные различия в величине эмиссионного тока. [51]
![]() |
К определению работы выхода.| Потенциальный порог на границе проводник - вакуум. [52] |
Таким образом, при выходе с поверхности проводника электрон теряет энергию, равную работе выхода, что равносильно движению этого электрона в тормозящем электрическом поле. Зная величину работы выхода, можно определить эквивалентный этой работе скачок потенциала, приходящийся на тот участок приповерхностного пространства, на котором действуют силы, возвращающие электрон в проводник. [53]
Необходимо сделать некоторые замечания по этим интересным опытам. Во-первых, величина работы выхода ср для твердых слоев, найденная экспериментально, может близко совпадать со значением электронного сродства % только в случае, когда примесные донор-ные уровни будут расположены вблизи зоны проводимости. Величины х, определенные Вилесовым [25], для пленок красителя методом фотоэлектронной эмиссии, на 0.5 - 1.0 эв больше найденных Нельсоном значений 3.2 - 3.4 эв. Определенные здесь положения возбужденных уровней красителей оказываются ниже зон проводимости AgBr и CdS. Во-вторых, величина электронного сродства % твердых пленок красителей совершенно не определяет положения возбужденных уровней молекулы красителя, адсорбированной на полупроводнике. Сравнение величин, измеренных Нельсоном, применимо только для случая сенсибилизации агрегированными, а не мономолекулярными слоями адсорбированных красителей. [54]
Сильно возросло количество работ, в которых работа выхода использовалась для исследования поверхности твердого тела, так как она очень чувствительна к условиям на поверхности. Всякое изменение величины работы выхода связано с изменениями условий на поверхности и полностью обусловлено соответствующими нарушениями равновесия в двойном поверхностном слое. В случае адсорбции разница значений работы выхода до и после адсорбции, называемая поверхностным потенциалом, непосредственно связана с дипольным моментом адсорбируемых молекул. В случае термической обработки появление или исчезновение кристаллических плоскостей, образующих структуру поверхности, или укрупнение отдельных пятен может быть точно прослежено по изменениям величины работы выхода поверхности. По изменению эмиссии электронов может наблюдаться и измеряться в функции температуры поверхностная диффузия включений при распространении их по поверхности. Обсуждение подобных экспериментов выходит за рамки этой главы, но необходимо отметить, что при их проведении были получены многие точные значения работы выхода для чистых поверхностей твердых тел - иногда как побочный результат, иногда как необходимое опорное значение. [55]
На границе раздела металл - полупроводник создается потенциальный барьер, называемый барьером Шоттки. Высота потенциального барьера определяется величиной работы выхода металла Фш, сродством к электрону полупроводника % и плотностью состояний на границе раздела. В случае, если плотность состояний на границе раздела равна нулю и % 0м, потенциальный барьер оказывается отрицательным по отношению к электронам полупроводника и контакт становится омическим. Однако на практике на границе раздела с полупроводником почти всегда существует отличная от нуля плотность состояний. [56]
Согласно Брюеру, то обстоятельство, что в для химического действия меньше, чем в для термоионной эмиссии, указывает, что реакция может возникнуть, если ион не отдален на значительное расстояние от поверхности. Исследования Бревера показывают, что величины работы выхода находятся в соответствии с предположением, что химическая активность зависит от образования иона. [57]