Регулирование - температура - реакция
Cтраница 1
Регулирование температуры реакций, протекающих с большим экзотермическим эффектом, осуществляется путем рецикла галогенсодержащих продуктов, что позволяет также получить высокую селективность и конверсию. [1]
Регулированием температуры реакции можно получать орто - или ара-изомеры: при более высокой, температуре получается / г-фено-локислота, а при менее сильном нагревании - 0-фенолокислота. [2]
 |
Схема получения тетрахлорэтана. [3] |
Для регулирования температуры реакции часть жидкости циркулирует через выносной оросительный холодильник. Перед подачей газов в реактор содержимое реактора ( тетра-хлорэтан) подогревается до указанной температуры. Газы, содержащие увлеченный Тетрахлорэтан, из реактора через сепаратор поступают в абсорбер для отделения тетрахлорэтана и непосредственно или после промывки водой выводятся из системы. Тетрахлорэтан из реактора непрерывно поступает в сборник. [4]
Для легкого регулирования температуры реакции часть цикле-гексана возвращают из сепаратора в реактор. Для удаления легких углеводородов циклогексан подвергают стабилизации. [5]
Образование аце-тальдегида понижают регулированием температуры реакции. [6]
При проведении процессов оксихлорирования регулирование температуры реакции связано с определенными трудностями, так как в процессе реакции выделяется значительное количество тепла. [7]
Цель применения растворителей - регулирование температуры реакции, с одной стороны, и облегчение отделения продуктов реакции от остатков цинка - с другой. Растворитель влияет иногда и на направление реакции. [8]
При рабочем ходе поддержание и регулирование температуры реакции в интервале 315 - 530 К осуществляется холодной водой. Начальная стадия про - jecca проводится в верхней части аппарата по принципу идеаль-юго смешения при 330 К и завершается в условиях, близких с вытеснению в его нижней части при 315 - 320 К. [9]
При заданной величине поверхности теплообмена регулирование температуры реакции достигается главным образом путем изменения температуры теплоносителя, его расхода или давления испарения. [10]
Аппарат имеет рубашку 4 для регулирования температуры реакции. [11]
При заданной величине поверхности теплообмена регулирование температуры реакции достигается главным образом путем изменения температуры теплоносителя, его расхода или давления испарения. [12]
Особенно важным для контактных процессов является теплообмен и регулирование температуры реакций. Контактные процессы протекают с большой скоростью и сопровождаются выделением или поглощением значительных количеств тепла. Очевидно, что большая скорость протекания процесса предусматривает большие скорости отвода и подвода тепла и делает теплотехнические данные аппаратов фактором, лимитирующим их мощность. [13]
Особенно большое значение в контактных процессах имеет теплообмен и регулирование температуры реакций. Контактные процессы протекают с большой скоростью и часто сопровождаются выделением или поглощением значительного количества тепла. При высокой скорости процесса необходима большая скорость отвода или подвода тепла, вследствие этого производительность контактных аппаратов определяется их теплотехническими характеристиками. [14]
В современных системах, работающих по способу Дорра-Оливера, регулирование температуры реакции осуществляется продуванием воздуха в поверхностный слой пульпы в реакторах с одновременной циркуляцией пульпы. [15]
Страницы: 1 2 3