Рекомбинация - неосновной носитель - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Прошу послать меня на курсы повышения зарплаты. Законы Мерфи (еще...)

Рекомбинация - неосновной носитель

Cтраница 1


1 Распределение неравновесных носителей вблизи перехода. [1]

Рекомбинация неосновных носителей ( рис. 12.35, б), происходящая рассмотренным выше способом, будет сопровождаться излучением в зоне, близко расположенной к р-п-переходу. При соответствующей величине плотности тока в диоде вблизи перехода образуется область с инверсной населенностью носителей заряда. В том случае, когда плотность тока окажется достаточной для компенсации потерь в системе, в последней возможно усиление оптических колебаний. Введение в систему обратной связи в виде оптического резонатора дает возможность получить в диоде генерацию электромагнитных колебаний.  [2]

Энергия при рекомбинации неосновных носителей в p - n - переходе выделяется в виде фотонов, а частота светового излучения пропорциональна ширине запрещенной зоны полупроводникового материала.  [3]

Оценим влияние рекомбинации неосновных носителей на поверхности базы на коэффициент переноса. Число рекомбинирующих на поверхности дырок можно записать равным sSsps, где s - скорость поверхностной рекомбинации, Ss - площадь поверхности, на которой происходит рекомбинация, ир8 - концентрация инжектированных дырок у поверхности.  [4]

5 Схема замещения транзи-стора с основными источниками шу. [5]

Рекомбинационный шум определяется беспорядочной рекомбинацией неосновных носителей в объеме базы и в ее приповерхностных слоях.  [6]

Принято считать, что рекомбинация неосновных носителей тока в объеме монокристалла германия связана с переходами на промежуточные энергетические уровни, расположенные в запрещенной зоне.  [7]

С увеличением скорости движения рекомбинация неосновных носителей заряда в базе становится меньше.  [8]

9 Распределение концентрации избыточных носителей заряда в базе длинного 1 и тонкого 2 вентилей при прямом смещении.| Распределение токов в базе длинного ( а и тонкого ( б вентилей при низких уровнях инжекции. [9]

При этом можно считать, что рекомбинация неосновных носителей практически проис-ходит в области базы. Поэтому для длинных вентилей, например с л-базой, ток неосновных носителей ( дырок) на расстоянии Зч-4 диффузионных длин от перехода падает до нуля.  [10]

11 Импульсы тока в полупроводниковом диоде. [11]

Однако с повышением концентрации ускоряется процесс рекомбинации неосновных носителей, поэтому накопление неосновных носителей будет происходить только до определенного значения неравновесной концентрации, при которой интенсивность процесса рекомбинации уравновесит интенсивность процесса диффузии.  [12]

Во время работы транзистора за счет рекомбинации неосновных носителей заряда в области базы возникает постоянная составляющая тока базы.  [13]

Как показано в части I, постоянная времени, определяющая рекомбинацию захваченных неосновных носителей на глубоких ловушках в кремнии / - типа, пропорциональна квадрату концентрации основных носителей. Тот же самый закон получен и для ( 3-ловушек в кремнии п-тппа.  [14]

Эффективное время жизни неосновных носителей заряда 4ф - время, определяющее процесс рекомбинации неосновных носителей заряда в базе диода.  [15]



Страницы:      1    2    3    4