Рост - оксидная пленка
Cтраница 2
При глубоком оксидировании по мере роста оксидной пленки напряжение на ванне повышается и достигает 70 - 110 в. [16]
Обработка монокристаллов германия различными хранителями стимулирует рост поверхностной оксидной пленки толщиной от нескольких единиц до нескольких десятков им в зависимости от технологии травления и последующего хранения пластин. [17]
После начальной стадии окисления на поверхности металла продолжается рост оксидной пленки. От свойств непрерывно нарастающей оксидной пленки в ходе коррозии во многом зависят характер и скорость окисления металла, так как пленка является слоем, защищающим металлическую поверхность от непосредственного контакта с окружающей средой. [18]
 |
Глубина поверхностной коррозии сплавов сопротивления в уг-леродсодержащей атмосфере при 1150 С в зависимости от времени. [19] |
Полученные графики свидетельствуют о том, что скорость роста оксидной пленки во времени описывается степенной зависимостью, близкой к параболической, что определяется диффузионным контролем процесса. [20]
 |
Поляризационные кривые для трех металлов в нейтральных растворах. [21] |
Подробно разработаны теоретические вопросы, связанные с кинетикой роста оксидных пленок при пассивации металла. Рассмотрим основные из них. [22]
 |
Критерий Пиллинга - Бедуорта и оценка защитных свойств. [23] |
При введении отношения R ( критерий Пиллинга - Бедуорта), предполагается, что рост оксидной пленки происходит с миграцией кислорода внутрь через окалину. [24]
Математическое описание окисления металла по Вагнеру не зависит от типа образующегося на поверхности металла оксида, поскольку рост оксидной пленки контролируется лишь диффузией реагирующих компонентов - независимо от того, являются ли этими компонентами ионы металла либо кислорода. Важно только сохранение целости оксидной пленки в ходе окисления. [25]
В рамках точечного приближения этой модели получены условия существования различных типов тепловой динамики газовзвеси, определены кинетические константы в эмпирическом законе роста оксидной пленки, что позволило описать экспериментальную кривую зависимости предельной температуры среды от средней плотности дисперсной фазы в облаке. [26]
Ввиду специфики процесса окисления, связанной с образованием твердой фазы - окалины ( тело II), в некоторый момент времени, по мере роста оксидной пленки, возникает дополнительное диффузионное сопротивление окалины, которое газовому восстановителю необходимо преодолеть, чтобы вступить в химическое взаимодействие с металлом. [27]
В области сухой коррозии, как указывалось выше, реализуется химический механизм процесса и скорость разрушения металлов невелика. Рост оксидной пленки происходит в первые секунды и минуты. После двух-трех часов дальнейшее утолщение пленки прекращается. [28]
Химические свойства, поверхностный рельеф и температура подложки, химические свойства и концентрация распыляемого раствора и входящих в него компонентов, а также условия процесса пульверизации - все эти параметры оказывают значительное влияние на скорость роста пленки. Скорость роста оксидных пленок может достигать 100 нм / мин, а пленок сульфидов - 50 нм / мин. На рис. 2.5 показана зависимость скорости осаждения пленок CdS от температуры подложки при различных условиях процесса распыления. [29]
В растворе № 1 в течение 2 - 6 мин при указанной плотности тока напряжение повышается до 90 - НО В. При росте оксидной пленки плотность тока снижается до 0 2 А / дм2, а напряжение повышается до 100 - 120 В. [30]
Страницы: 1 2 3 4