Рост - оксидная пленка
Cтраница 3
Согласно ( 8), рост пленки настолько быстро замедляется с увеличением толщины оксида, что можно найти критическую толщину слоя б, выше которой практически невозможно заметить дальнейшее увеличение толщины слоя во времени. Обратно-логарифмический закон роста оксидных пленок на некоторых металлах при нормальных температурах был экспериментально подтвержден. [31]
Немаловажное значение для напряженного состояния окалины имеет и существование нескольких фаз оксидов внутри оксидной пленки. Так, например, при росте многослойной оксидной пленки на железе и наличии разделяющих друг друга поверхностей различных фаз разные механизмы роста оксидных слоев и их механические свойства способствуют повреждению сцеплений окалины с металлом. [32]
Однако литературные данные о химическом составе продуктов анодного окисления меди в щелочном растворе довольно противоречивы. До сих пор отсутствуют данные о механизме роста оксидных пленок на меди и строении пленки в зависимости от ее толщины. [33]
Твердые электроизоляционные оксидные пленки могут быть получены в двух - и трехкомпонентном сульфо-салициловом электролитах. При плотности тока 3 а / дм2 скорость роста оксидной пленки составляет около 1 мкм / мин. В течение 1 ч на алюминии марки АД1 при температуре 20 С формируются оксидные пленки с пробивным напряжением 550 - 750 в. Обработку сложнопро-филированных деталей рекомендуется вести при температуре электролита 20 С. [34]
Отношение pit / з выражает приращение толщины оксидного слоя. Если анодное оксидирование происходит при постоянстве силы наложенного тока, то в соответствии с ростом оксидной пленки должна возрастать величина падения потенциала в толще этой пленки. [35]
Отношение ftit / a выражает приращение толщины оксидного слоя. Если анодное оксидирование происходит при постоянстве силы наложенного тока, то в соответствии с ростом оксидной пленки должна возрастать величина падения потенциала в толще этой пленки. [36]
Участок / кривой характеризуется резким повышением напряжения. Такой резкий подъем напряжения, продолжающийся примерно 4 - 5 сек, объясняется образованием и ростом тонкой беспористой оксидной пленки, что влечет за собой значительное повышение омического сопротивления. В течение этого времени пленка может достичь толщины порядка 0 1 мк. [37]
Как видно, для всех металлов, за исключением элементов IA и НА групп ( кроме Be) таблицы Д. И. Менделеева, удовлетворяется условие сплошности. Однако существенное замедление скорости окисления металлов при выполнении условия ( 17) наблюдается для металлов, у которых рост оксидной пленки в основном обусловлен диффузией кислорода к поверхности металла, При УО S УМ. [38]
Продолжительность инкубационного периода связана с временем, необходимым для образования оксидных пленок критической толщины. Термоциклирование, связанное со снижением температуры до 20 С, приводит к появлению низкотемпературных пленок в местах дефектов, а также к обратимости водородной хрупкости. Рост оксидных пленок в концентраторах напряжений способствует возникновению в пленках контактных напряжений сжатия, исключающих появление трещин. [39]
Применение для оксидирования режима падающей мощности также позволяет значительно уменьшить количество выделяющегося джоулева тепла. Электролиз ведут в растворе, содержащем 170 г / л H2SO4, при начальной плотности тока 15 - 20 а / дм и температуре электролита 15 - 20 С. По мере роста оксидной пленки, увеличивается напряжение на ванне и одновременно падает плотность тока и мощность. Эти изменения происходят самопроизвольно и наиболее резко в первые 10 - 20 мин электролиза, после чего скорость изменения электрических параметров процесса замедляется. [40]
Вследствие значительного теплового сопротивления рыхлого слоя железооксидных отложений, находящихся между внутренней поверхностью металлической стенки трубы и охлаждающей водной средой сверхкритического давления, происходит рост температуры стенки с внутренней стороны. Температура металла под слоем наносных оксидов растет, и интенсифицируется процесс пароводяной коррозии на границе металл - наносные отложения. Коррозия в свою очередь вызывает рост оксидной пленки и способствует ускорению процесса повышения температуры металла стенки трубы. В результате повышения температуры снижается сопротивление ползучести металла стенки по лобовой образующей и увеличиваются коррозионные потери с наружной стороны - в среде топочных газов. Эти процессы могут вызвать преждевременное разрушение экранных труб. [41]
Аналогичного вида функциональные зависимости / и i от времени, правда, с другими коэффициентами, полу чаются и при диффузионном механизме роста оксида. Точное решение задачи в этом случае называют законом Крофта. Отметим, что оба механизма роста оксидных пленок, вытекающие из уравнения (4.109), характерны для металлов, на которых формируются весьма толстые слои оксида. [42]
 |
Схема ионно-электронного механизма высокотемпературного окисления. [43] |
Образование оксида может происходить на поверхности металла, на поверхности или внутри оксидной пленки. Первый случай имеет место, если превалирует скорость диффузии кислорода ( ионов или атомов), второй - если превалирует скорость диффузии ионов или атомов металла. В большинстве случаев скорости диффузии соизмеримы и зона роста оксидной пленки находится внутри, несколько ближе к ее внешней поверхности. [44]
Обработку алюминия и его сплавов ведут при плотности тока 1 - 2 А / дм2, напряжении на ванне 25 - 28 В в течение 40 - 60 мин. Использование переменного тока позволяет увеличить количество одновременно обрабатываемых деталей за счет монтажа их на всех электродных штангах, имеющихся на ванне. Следует, однако, учитывать, что в катодный полупериод рост оксидной пленки не происходит. Это обстоятельство приводит к необходимости увеличения продолжительности электролиза по сравнению с оксидированием постоянным током. При накоплении в электролите более 0 02 г / л примеси меди на оксидном покрытии появляются темные пятна. [45]
Страницы: 1 2 3 4