Скорость - напыление
Cтраница 2
Зависимость переменной составляющей переменного тока от скорости напыления для алюминия, никеля и хрома. [16]
Если напыление происходит в сверхвысоком вакууме, то скорость напыления должна увеличиваться, чтобы при прочих равных условиях опыта добиться ориентированного осаждения. [17]
Рассмотрение методов и приборов, предназначенных для контроля скорости напыления и толщины тонких пленок, показывает, что в настоящее время не существует универсального прибора, который в равной степени удовлетворял бы всем специфическим требованиям, предъявляемым к подобного рода приборам. [18]
Для получения стабильных пленок при вакуумном напылении необходимо повышать скорость напыления, а размеры зерен пленки увеличивать за счет повышения температуры подложки при напылении и отжиге. [19]
Температура источника паров РЬТе составляла 550 - 600 С скорость напыления - 0 1 - 0 3 нм / с. Пленка становилась сплошной уже на ранних стадиях роста ( при толщине около 20 нм), очевидно, предшествовавших автокоалес-ценции. [20]
В настоящее время разработанные промышленностью приборы для измерения толщины и скорости напыления в той или иной степени отвечают указанным требованиям. В основу этих приборов положены различные методы контроля. Рассмотрим основные из них. [21]
Контроль сопротивления резистивных слоев осуществляют прибором КС-2, а толщину и скорость напыления - прибором МЭК. [22]
Электроннолучевое испарение тантала в высоком вакууме позволяет приблизительно на порядок повысить скорость напыления пленки по сравнению с катодным распылением. Если учесть, что давление остаточных газов при вакуумном напылении на 3 - 5 порядков ниже, то становится очевидной меньшая степень загрязнения получаемых таким образом пленок. [24]
Структура напыленной пленки зависит от материала, состояния поверхности, температуры подложек и скорости напыления: она может быть аморфной, поликристаллической и монокристаллической. Размер зерна металлических пленок зависит от температуры плавления металла. Металлы с высокой температурой плавления ( вольфрам, молибден, тантал и др.) образуют пленки с малыми размерами зерен. Металлы с низкой температурой плавления образуют крупнозернистые пленки, Такие пленки имеют большую стабильность их электрофизических свойств, чем мелкозернистые. [25]
 |
Насадочньй аппарат. 1-неподвижная насадка. 2 - опорные решетки. 3, 4-соответст-венно распределители и перераспределители жидкости. [26] |
Структура напыленных пленок зависит от св-в материала, состояния и т-ры пов-сти, скорости напыления. [27]
В книге рассматриваются способы получения и, обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные средства получения и измерения вакуума, а также оборудование и аппаратура, используемые при получении тонких пленок. [28]
 |
Зависимость ТКС и ДЛ / Л пленок. [29] |
Критическая величина толщины пленки составляет 10 нм и зависит от температуры и материала подложки и скорости напыления. Состав пленки практически не влияет на критическую толщину. Более тонкие пленки отличаются крайней нестабильностью. Электронно-микроскопические исследования нихромовых пленок, изготовленных в самых разных условиях, показывают, что пленки представляют структуру, в которой изолированные зерна никеля распределены внутри кристаллической решетки окиси хрома. [30]
Страницы: 1 2 3 4