Cтраница 1
![]() |
Зависимость скорости радиацион -, r г. [1] |
Скорость радиационной полимеризации фтористого винилидена в газовой фазе при мощности дозы 6 рд / сек растет с температурой в пределах от 40 до 50 С, после чего наблюдается снижение скорости. При температуре 50 С имеет место изменение энергии активации от 8 до - 9 ккал / молъ. [2]
Скорость радиационной полимеризации на поверхности глинистых минералов увеличивается, как и в ранее рассмотренных случаях, в несколько раз [ 1521 по сравнению с полимеризацией в объеме. [3]
Скорость радиационной полимеризации увеличивается также при проведении процесса в среде осадителя или в эмульсии. [4]
Скорость радиационной полимеризации по ионному механизму, как правило, пропорциональна мощности дозы. [5]
Скорость радиационной полимеризации по тройным связям ацетонитрила, пропаргилового спирта, пропаргилбромида и фе-нилацетилена пропорциональна мощности дозы в 1 - й степени. [6]
Скорость радиационной полимеризации ТФХЭ ( до степени превращения 10 %) прямо пропорциональна корню квадратному из интенсивности излучения. [7]
Скорость радиационной полимеризации ТФХЭ ( до степени превращения 10 %) прямо пропорциональна корню квадратному из интенсивности излучения. ТФХЭ также отличается низкой скоростью по сравнению со скоростью полимеризации других фторзаме-щенных этилена [ 1, с. Радиационные полимеры ТФХЭ получены с молекулярной массой ( 5 - f - 9) - 104 и показателем ТПП ( см. стр. [8]
Скорость радиационной полимеризации ТФХЭ ( до степени превращения 10 %) прямо пропорциональна корню квадратному из интенсивности излучения. [9]
Скорость радиационной полимеризации акролеина повышается при проведении процесса в растворах, особенно водных. [10]
Скорость раздельной и совместной радиационной полимеризации метилметакрилата и акрилонитрила в присутствии окиси магния [112], а также в присутствии других [113] полупроводниковых окислов / 7-типа ( Cu20, NiO, литерованной закиси никеля) при низких температурах ( - 50 С) примерно на порядок выше, чем без указанных окислов, а при 0 С - лишь в 2 раза. Судя по константам сшолимериза-ции метилметакрилата и акрилонитрила [112], в присутствии этих окислов процесс радиационной полимеризации протекает, в основном, по анионному механизму, тогда как в случае ZnO, TiO2, Сг2Оз [ И4 ] значительных кинетических эффектов не наблюдается, и химический состав сополимера близок к составу сополимера, полученного по радикальному механизму. [11]
![]() |
Эффективность инициирования (. ин для некоторых мономеров. [12] |
Зависимость скорости радиационной полимеризации от ] / / означает, что полимерные радикалы равномерно распределены в облучаемом объеме и обрыв реакционных цепей преимущественно происходит при взаимодействии полимерных радикалов, образованных в разных треках. Если бы обрыв цепей происходил при взаимодействии радикалов одного трека, то скорость полимеризации была бы пропорциональна первой степени интенсивности облучения, даже при бимолекулярном обрыве цепей. В этом случае увеличение / означало бы увеличение числа изолированных элементарных объемов, в каждом из которых протекает полимеризация. Все эти соображения справедливы для легких частиц, они могут быть не верны для механизма действия тяжелых частиц, например а-частиц. [13]
![]() |
Гель-хроматограммы ПММА, полученного при различных концентрациях адсорбированного ММА на аэросиле ( 50 С, мощность дозы 0 4 Гр / с, конверсия 0 2 ммоль / г. [14] |
Соотношение скоростей радиационной полимеризации на поверхности при различных айв массе иллюстрируется данными табл. 3.12 для ММА и БМА на аэросиле. Из таблицы видно, в частности, что в области максимума ( 4 монослоя) приведенная скорость полимеризации на поверхности в 30 - 50 раз выше, чем в массе в сравнимых условиях. Существенно, что при увеличении мощности дозы это различие должно увеличиваться из-за различной зависимости скорости от мощности дозы. Эти результаты типичны для достаточно широкого круга систем мономер-подложка. Одной из причин такой сенсибилизации ( характерной для радиационного инициирования) является увеличение скорости инициирования полимеризации из-за подпитки адсорбционного слоя активными центрами, образующимися за счет энергии излучения, поглощаемой частицами твердого тела; эта подпитка особенно существенна в тех системах, в которых имеет место эффективная передача энергии из объема к поверхности частиц ( см. разд. [15]