Cтраница 1
Скорость химического растворения может контролироваться энергетическим барьером для анодного процесса, барьером для катодного процесса или обоими барьерами одновременно; она может также определяться скоростью подвода катодного компонента к поверхности путем диффузии и ( или) конвекции. [1]
Коррозия титана определяется скоростью химического растворения окисной пленки. В условиях анодирования толщина образующегося окисного покрытия зависит от соотношения скоростей образования окисной пленки и ее растворения. [2]
![]() |
Зависимость стационарной плотности тока ( i анодного растворения титана и сплавов при 1 0 В и времени ( та их самоактивации от содержания легирующих добавок. [3] |
Приближенное суждение о влиянии легирующих элементов на скорость химического растворения пассивных пленок может быть сделано по времени самоактивации га электродов в тех же условиях после прекращения анодной поляризации. [4]
Наклон прямых рис. 36 характеризует влияние-концентрации анионов на скорость химического растворения пассивирующего слоя. [5]
![]() |
Полюсная фигура крупнозер - И Н3 ДИфракТОМетрв С ПО. [6] |
Оптический метод анализа текстур основан на использовании кристаллографической анизотропии скорости химического растворения. При правильном подборе режима травления на поверхности кристаллитов можно получить фигуры травления, хорошо наблюдаемые в световом микроскопе. Форма этих фигур травления и их ориентировка в плоскости шлифа зависят от того, какой кристаллографической плоскостью й / Ыг ориентирован соответствующий кристаллит параллельно плоскости шлифа и как эта плоскость hikik повернута вокруг нормали к плоскости шлифа. [7]
Такая физическая картина явлений не противоречит экспериментально установленной независимости скорости химического растворения металлов от потенциала. [8]
![]() |
Влияние температуры хромирования на скорость рас - та при 35 B течение 10 мин. творения осадков хрома в Тт. [9] |
Для проверки этого предположения были поставлены опыты по определению скорости химического растворения образцов хрома, злектро-осажденных при различных температурах. Такие образцы, как известно, обладают резко отличающейся друг от друга сеткой трещин. [10]
![]() |
Зависимости скорости растворения металла от потенциала по электрохимическому ( i и химическому ( х механизмам. - - - - суммарные скорости растворения по обоим механизмам. [11] |
Скорость растворения по электрохимическому механизму экспоненциально зависит от потенциала, скорость химического растворения от потенциала не зависит. На рис. 187, в скорости обоих процессов сравнимы и при достаточно анодных потенциалах преобладает растворение по электрохимическому механизму, а при менее анодных - по химическому механизму. [12]
![]() |
Скорость коррозии р - функция концентрации ( н. растворов H2SO4 и НС1, взятых для травления КСт. О без ингибитора-для H2SO4. [13] |
Длительность т удаления окалины с поверхности металла зависит в основном от скорости химического растворения окислов. [14]
![]() |
Влияние температуры на продолжительность травления. [15] |