След - примесь
Cтраница 1
Следы примесей, содержащиеся в бутадиеновой фракции после обеих стадий экстрактивной ректификации, удаляются затем на двухколонной системе ректификации. В первой ректификационной колонне 7 удаляются низкокипящие примеси ( такие, как метил-ацетилен), отходящие с верху этой колонны. Кубовые продукты перекачиваются на вторую ректификационную колонну 8, где производится очистка от высококипящих компонентов, в частности следов углеводородов GS и ч с-бутилена-2, которые отбираются в виде кубовых остатков и используются в качестве топлива. Сверху ректификационной колонны 8 отбирается конечный продукт - бутадиен с чистотой 99 5 объемн. Этот бутадиен не требует какой-либо дополнительной очистки и направляется для использования в производстве стереорегулярного цис-полибутацнена. Часть рециркулирующей в скруббере 6 воды вместе с отбираемой из колонны 5 частью циркулирующего потока ДМФА подается в систему очистки растворителя. Здесь ДМФА очищается и вновь возвращается в поток р астворителя. [1]
Следы примесей оказывают значительное влияние и на макросвойства ферромагнитных материалов. [2]
Следы примесей концентрируют либо испарением воды, либо на ионообменной колонке. Определение следов элементов в этом случае проводят обычными методами. [3]
Следы примесей, определяющих свойства полупроводников, существенно влияют и на скорость окисления металлов, покрытых полупроводниковыми пленками. С другой стороны, легирующие компоненты, присутствующие в больших количествах ( например, более 10 % Сг - Ni), оказывают влияние на скорость окисления не только изменяя полупроводниковые свойства пленок, но и путем изменения их состава и структуры. [4]
 |
Влияние фторидного ион & на время гелеобразования золей кремневой кислоты. линия Н представляет влияние гидроксильнога иона ( Айлер. [5] |
Следы примесей фторидов в реагентах понижают время гелеобразования. [6]
Следы примеси олефина удаляли, обрабатывая бромной водой ( в течение 5 мин. Бромистый метил - С13 и избыток брома удаляли встряхиванием с этаноламином при комнатной температуре, а затем в течение 3 час. [7]
Следы примесей атомов тяжелых металлов в присутствии кислорода вызывают постепенное окисление тиосульфата в тетратионат-ион. [8]
Даже следы примесей в растворе, в основном органических, могут влиять на общую кинетику. Разногласия, которые существуют в литературе относительно реакции ( двух - или четырехэлектронные процессы На платине при ионизации кислорода, казалось бы, в одних и тех же экспериментальных условиях), по крайней мере частично, обусловлены разной степенью загрязнений. [9]
Термин следы примесей в данном случае, вероятно, нуждается в небольшом обсуждении; вообще говоря, термин не относится к основным примесям в твердом катализаторе, определяющим его каталитическую активность, хотя их можно рассматривать отчасти и с этой точки зрения в случае катализаторов, являющихся полупроводниками. Поскольку каталитическая активность является поверхностным явлением, термин относится скорее к поверхностным загрязнениям, которые являются очень важными примесями ( как и при выращивании кристаллов); эти загрязнения могут занимать основную долю поверхности или по крайней мере активных центров поверхности. Источником загрязнений, или яда, обычно являются примеси, вносимые реагирующими веществами, и поскольку количества реагирующих веществ намного превышают количество катализатора ( особенно по сравнению с доступной площадью поверхности катализатора), даже малые следы примесей в реагирующих веществах могут оказывать сильное влияние на катализатор. Так, например, большое значение могут иметь следы металлов во фракциях нефти. [10]
Определяя следы примесей в уране, в качестве маскирующего реагента можно применять карбонат натрия, который выделяет большинство следов элементов в осадок, уран при этом образует растворимый карбонатный комплекс. [11]
 |
Влияние контакта тантала [ IMAGE ] Гальванический элемент Pt. [12] |
Поэтому следы примесей, которые существенно влияют на полупроводниковые свойства, также заметно меняют скорости окисления металлов, защищенных полупроводниковыми пленками. С другой стороны, добавление легирующих элементов в больших количествах, например 10 % Сг-Ni, изменяет скорость окисления не только из-за влияния на полупроводниковые свойства пленки, но и вследствие существенного изменения состава и структуры пленки. [13]
Определение следов примесей в алюминии производят путем химического обогащения и спектрального анализа концентрата. Полученный концентрат упаривают в кварцевой посуде до объема 1 - 2 мл, наносят на угольный порошок, смесь высушивают и вводят в разряд по методу вдувания. [14]
Анализ следов примесей в веществах высокой чистоты и сложных по составу объектах, анализ изоляторов, порошков, радиоактивных веществ, газов в твердых образцах, определение поверхностных загрязнений - далеко не полный перечень практических применений метода, рассматриваемых в книге. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5