Cтраница 2
Окисный слой, образующийся на поверхности металла, не только обладает повышенной коррозионной стойкостью, но способен также хорошо удерживать тонкий слой смазки, чем достигается лучшая изоляция изделия от влаги и меньшая возможность коррозии. [16]
Окисный слой на никелевом оригинале при изготовлении никелевой матрицы наносится в растворах бихромата калия. Для сохранения этого слоя в технологическом процессе следует поддерживать рН электролита в определенных пределах и предохранять разделительный слой от механического повреждения. [17]
Окисные слои на алюминии обладают униполярной проводимостью для электронов и поэтому находят применение в качестве выпрямителей электрического тока, а также в качестве конденсаторов. Однако в этих случаях используются окисные пленки, толщина которых не превышает одного микрона, а пористость сведена к минимуму. [18]
Высококачественный окисный слой получается также путем эпитаксии в результате термического разложения тетраэтокси-силана ( T30C) Si ( OC2H5) 4 при низком давлении. Этот процесс протекает при довольно высокой температуре ( 650 - 750 С), поэтому его используют в основном для нанесения 5Ю2 - слоя поверх кремния или поликремния с целью сглаживания ступенек и канавок на лицевой поверхности. В полученных слоях окисла водород почти не содержится. [19]
Дополнительный окисный слой - выращивается перед фотогравировкой окон для диффузии эмиттера. [20]
Иногда окисные слои с крупногабаритного оборудования удаляют пастами на основе соляной кислоты. Так, в Институте органической химии АН СССР разработана паста целлогель112 ш, пригодная для удаления с поверхностей черных металлов ржавчины толщиной до 2 - 3 мм. [21]
Образующийся окисный слой способствует локализации структурных изменений в тончайших поверхностных слоях толщиной порядка 1 мкм и препятствует вовлечению в процесс деформирования более глубоких слоев металла. Окислы, являющиеся барьером для движущихся в процессе деформации дислокаций, способствуют созданию упрочненной подложки, на которой формируется медная пленка с малой прочностью адгезионной связи на срез. [22]
Все окисные слои, рассмотренные до сих пор, не служат достаточной защитой при повышенной агрессивности коррозионной среды. Их следует каким-либо способом защитить или уплотнить. Обычно это делается посредством электролиза. [23]
Образующийся окисный слой предохраняет никель от дальнейшего его окисления при работе его в атмосфере кислорода в щелочном растворе. Для уменьшения электрического сопротивления окисно-го слоя электрод перед окислением пропитывается раствором LiOH. При сушке и обжиге ионы лития внедряются в кристаллическую решетку окиси никеля, в результате чего образуется двойной окисел, обладающий полупроводниковыми свойствами. [24]
Маскирующий защитный окисный слой получают, нагревая пластины кремния в атмосфере сухого кислорода при температуре около 1250 С в течение нескольких часов. [25]
Образуется пористый окисный слой, служащий хорошим подслоем для гальванического покрытия. [26]
![]() |
Схема поверхностного слоя германия ( поверхность не пассивирована. [27] |
Толщина окисного слоя, измеренная электроннографичес-ким методом, имеет величину 1 - 2 ммк. [28]
![]() |
Изменение потенциала со временем при коротких импульсах ( 20 мксек ниже id и выше ( d порога активации. [29] |
Толщину окисного слоя, казалось бы, можно найти, определив количество электричества, необходимое для активации. [30]