Окисный слой
Cтраница 3
Растрескивание окисного слоя при переменном нагреве главным образом относится за счет разницы в коэфициентах термического расширения между металлом и окисью, и следовало бы поэтому попытаться сделать их одинаковыми. [31]
Образование изолирующего окисного слоя на алюминии имеет еще одно своеобразное применение. [32]
В подобном окисном слое могут поэтому находиться наряду с окислами FeO и Fe2O3 также высшие окислы, например FeO2, которым отвечают более положительные потенциалы. Аналогично объясняется, например, и пассивация никеля. [33]
Образование второго окисного слоя - р-окисла происходит при потенциалах 2 4 - 2 4 В при сохранении на его поверхности а-окисла. Стехиометрический состав р-окисла близок к соединению PtO, степень окисления а-окисла примерно в 1 3 раза больше, чем - окисла. [34]
Образование второго окисного слоя - р-окисла происходит при потенциалах 2 4 - 2 4 В при сохранении на его поверхности а-окисла. Стехиометрический состав р-окисла близок к соединению PtO, степень окисления а-окисла примерно в 1 3 раза больше, чем 3-окисла. [35]
 |
Структура анодного оксидного ( неуплотненного покрытия на алюминии. [36] |
Толщина получаемого окисного слоя зависит от скорости протекания обеих рассмотренных реакций, которые можно регулировать подбором состава электролита, концентрации его компонентов, а также температуры и плотности тока. [37]
 |
Индуктивный диод. 1 - модулированная область базы. г - немодулированная область базы. [38] |
При толщине окисного слоя 1 мкм удельная паразитная емкость равна 32 пФ / мма. [39]
Отсутствие сплошности окисного слоя приводит к прирастанию копии к форме, а избыточная толщина - к местным отслаиваниям. Толщина окисных слоев колеблется в пределах 5 - 10 А. [40]
Изменение свойств окисного слоя при поляризации электрода было обнаружено при изучении пассивации никеля в кислых растворах потенциостатическим и эллипсометрическим методами ( Дж. В активной области на поверхности электрода образуется предпасси-вирующий окисный слой толщиной в несколько десятков ангстрем. [41]
 |
Конструкция силового вентиля ( о и тиристора ( б. [42] |
После удаления окисного слоя участок р-области, к которому присоединяется управляющий электрод, защищают слоем специального лака, а остальную поверхность структуры никелируют. В результате эмиттерный переход в местах выхода на поверхность покрывается тонким слоем никеля. [43]
Пластины с защитным окисным слоем поступают на фотолитографическую обработку, при которой в окисной пленке со стороны высокоомной части пластинок создают базовые окна диаметром 240 мк. [44]
При достижении окисным слоем предельной толщины эмиссия прекращается. Степень эмиссии зависит от природы самого металла, обработки его поверхности и температуры. [45]
Страницы: 1 2 3 4