Получаемый слой
Cтраница 3
В методах химического осаждения из газовой фазы благородный газ-носитель может присутствовать, а может и отсутствовать. В этих методах обычно протекают необратимые химические реакции: разложение какого-либо соединения при активации образующихся ионов или радикалов, что позволяет значительно ускорять процесс роста в потоках малой плотности и управлять структурой получаемого слоя; реакции гидролиза, окисления, восстановления. [31]
Вейсберг и Стоддарт2 утверждают, что сплав никеля с кобальтом может быть осажден в виде блестящего и нехрупкого покрытия из сульфатхлоридной ванны, содержащей аммониевую соль, соль муравьиной кислоты и формальдегид; в отсутствии кобальта получаемый слой никеля несколько менее блестящий. Никелирование алюминиевых сплавов также представляет собой специальную проблему, так как в данном случае трудно получить хорошее сцепление, вероятно, благодаря невозможности полного удаления окисной пленки. Тем не менее даже, где непосредственно сцепление с гладкой поверхностью недостижимо, можно получить механическое сцепление, если поверхность сделана шероховатой. Часто для этой цели применяется пескоструйная обработка, однако обычно предпочитают применять травление в подкисленном растворе хлористого никеля или хлорного железа. Фотографии Уорка4 ясно показывают, как покрытия стремятся заполнить создавшиеся углубления. Никелирование цинкового литья также требует изменения процесса, так как стандартные ванны склонны давать черные покрытия никеля простым замещением, как только богатые цинком сплавы погружаются в электролит. Это явление обычно устраняется введением в ванну сернокислого или лимоннокислого натрия, которые, вероятно, служат для уменьшения концентрации никелевых катионов, связывая никель до некоторой степени в комплексные анионы. [32]
 |
Влияние различных параметров на процесс осаждения пленок Cu2S, получаемых посредством окунания. [33] |
Поскольку реакция происходит в приповерхностной области, слой Cu2S имеет такую же микроструктуру, как и исходный слой CdS. Сульфид меди может существовать в виде нескольких фаз с различным составом. Состав получаемого слоя зависит, от скорости реакции и степени окисления ионов меди в растворе. Электрические и оптические свойства сульфида меди определяются главным образом его составом. [34]
В некоторых случаях битумной мастикой поливают поверхность цилиндрического аппарата, поворачивая аппарат на роликах, на которые его устанавливают для этой цели. При поливке мастику разравнивают металлическим шпателем. Толщина получаемого слоя должна быть 1 5 - 2 мм. [35]
Активную смесь окислов получают нанесением на предварительно протравленные титановые листы пасты, содержащей легко разлагаемые соли титана и рутения. Слой пасты предварительно сушат, а затем подвергают термической обработке при 350 - 400 С. Пасту наносят 5 - 10 раз, так что получаемый слой окислов имеет толщину несколько микрон. [36]
Испарение металлов в вакууме основано на том. Этим способом можно осаждать почти все наиболее распространенные металлы - алюминий, железо, хром, медь. Толщина получаемого слоя обычно равна 0 5 - 0 7 мкм. [37]
Испарение металлов в вакууме основано на том, что в условиях глубокого вакуума, 0 133 - 0 0013 н / ж2, металл нагревают до температуры, при которой он интенсивно испаряется и, осаждаясь на поверхности изделий и стенках вакуум-камеры, образует топкую пленку. Этим способом можно осаждать почти все наиболее распространенные металлы - алюминий, железо, хром, медь. Толщина получаемого слоя обычно равна 0 5 - 0 7 мкм. [38]
Отсадке обычно подвергают предварительно обесшламлен-ные широко - или узкоклассифицированные материалы оптимальной крупности 0 5 - 100 мм для нерудных и 0 2 - 40 мм для рудных материалов. При отсадке крупного материала находящийся на решете его слой толщиной в 5 - 10 диаметров наибольших частиц в подаваемом на переработку материале ( питании) называют постелью. При отсадке мелкого материала ( до 3 - 5 мм) на решете укладывают искусственную постель из крупных тяжелых частиц материала, размер которых в 3 - 4 раза превышает размер наиболее крупных частиц питания. В процессе отсадки материал расслаивается: в нижнем слое концентрируются тяжелые частицы, в самом верхнем - легкие мелкие. Получаемые слои разгружают раздельно. [39]
Страницы: 1 2 3