Cтраница 1
Создание рельефа или водоотталкивающих компонентов изображения на форме или цилиндре основано на методе ксерографии или аналогичных ей методах. [1]
Для создания рельефа на форме могут служить ручные инструменты, цинкографы и ножи. Для создания водоотталкивающих участков на литографической форме могут использоваться литографические карандаши. Этот метод обычно применяется в небольшом производстве или для специальных печатных работ. [2]
Для создания рельефа используются токарные станки, штриховочная машина и аналогичные виды механического оборудования. Для создания водоотталкивающих участков на литографических формах могут служить другие виды оборудования. [3]
Для создания рельефа на формах или цилиндрах используются электронные цинкографы. [4]
Для создания рельефа используются: испарение, термообработка, в результате к-рой происходят структурные превращения в материале; окислитслыю-вос-становптелыше реакции и реакции разложения, вызванные нагреванием; термостимулированные диффузионные процессы. [5]
Для создания рельефа подчеркивают козырьки при входах в здание, а у автомобильных или железнодорожных платформ устраивают на фоне фасада выносные тамбуры, вестибюли и другие функциональные элементы. Архитектурная композиция производственных зданий, построенных в последние годы, многообразна, особенно по объемно-пространственному построению. Все же общей чертой архитектуры большинства промышленных зданий является тенденция к созданию единого нерасчлененного внутреннего пространства. [6]
Это обеспечивает создание высокоразрешенного рельефа, стойкого к травлению [ пат. [7]
Этот принцип создания рельефа может быть распространен и на другие высокомолекулярные вещества, превращающиеся в термостойкие полимеры. В молекулы этих веществ могут быть введены группировки, способные к фотополимеризации; замещены могут быть атомы водорода ацилированных дикарбоновыми кислотами ароматических тетраминов и других полимеров, замыкающих при термолизе входящие в цепь полимера конденсированные гетероциклы [ европ. [8]
Этот принцип создания рельефа может быть распространен и на другие высокомолекулярные вещества, превращающиеся в термостойкие полимеры. В молекулы этих веществ могут быть введены группировки, способные к фотополимеризации; замещены могут быть атомы водорода ацилированных дикарбоновыми кислотами ароматических тетраминов и других полимеров, замыкающих при термолизе входящие в цепь полимера конденсированные гетероциклы [ европ пат. [9]
Простейшим способом создания защитного негативного рельефа является использование для этой цели фоторезиста. [10]
Будем считать, что в тектоническом процессе создания рельефа участвует вся земная кора. Скорость w оценим двумя способами. Первый - делением высоты подъема 2 км на 1 5 108 лет 4 5 1015 сек. Первый способ дает W - 2 10 - 4 Вт / м2, второй - вдвое меньше. [11]
Будем считать, что в тектоническом процессе создания рельефа участвует вся земная кора. [12]
Тот рельеф, что мы видим, есть результат динамического равновесия между процессами создания рельефа и его эрозии на временах порядка десятков и сотен миллионов лет. Региональные процессы могут быть гораздо более быстрыми. [13]
Один из выпускаемых в США позитивных фоторезистов ( табл. 5) AZ-1350 подходит для создания рельефов с тонкими линиями в тонких слоях. AZ - 135OH подобен AZ - 135O, но имеет более высокое содержание сухого вещества и дает более толстые слои; пригоден для создания рельефа с элементами 2 5 мкм, рельеф отличается минимальным подтравли-ванием. Резист Micro-Image Isofine и растворы для его обработки фильтрованы через поры 0 2 мкм, при проекционной технике - до 2 мкм; имеет хорошую адгезию к S1O2, А1, Сг, Си и другим металлам; устойчив к травителям. Резист Microline, PR-102 перед нанесением фильтруется через поры 0 25 мкм; пригоден для создания рельефов с размерами элементов 2.5 мкм. [14]
Один из выпускаемых в США позитивных фоторезистов ( табл. 5) AZ-I350 подходит для создания рельефов с тонкими линиями в тонких слоях. AZ - I35OH подобен AZ - I35O, но имеет более высокое содержание сухого вещества и дает более толстые слои; пригоден Для создания рельефа с элементами 2 5 мкм, рельеф отличается минимальным подтравли-ваиием. Резист Micro-Image Isofine и растворы для его обработки фильтрованы через поры 0 2 мкм, при проекционной технике - до 2 мкм; имеет хорошую адгезию к 81ОЙ, AI, Сг, Си и другим металлам; устойчив к травителям. Резист Microftne, PR-102 перед иаиесеиием фильтруется через поры 0 25 мкм; пригоден для создания рельефов с размерами элементов 2 5 мкм. [15]