Поверхностное сопротивление - пленка - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Ценный совет: НИКОГДА не разворачивайте подарок сразу, а дождитесь ухода гостей. Если развернете его при гостях, то никому из присутствующих его уже не подаришь... Законы Мерфи (еще...)

Поверхностное сопротивление - пленка

Cтраница 1


1 Зависимость удельного сопротивления пленки от ее толщины. [1]

Поверхностное сопротивление пленки из этого сплава достигает 300 Ом / квадрат при малом температурном коэффициенте сопротивления. Температура испарения сплава значительная ( 1600 С), причем для получения высококачественного пленочного резистора подложка должна подогреваться до 300 - 350 С.  [2]

Не случайно с уменьшением поверхностного сопротивления пленки ( см. рис. 3.14) затухание возрастает.  [3]

Применение керметоа позволяет значительно повысить поверхностное сопротивление пленок без уменьшения толщины. Обычно используются пленки с сопротивлением 500 - 1000 Ом / квадрат. Пленки с более высоким сопротивлением часто имеют малую толщину ( около 0 01 мкм) и поэтому могут разрушаться при подсоединении выводов.  [4]

5 Схематическое изображение пленочных резисторов. [5]

По сравнению с диффузионными тонкопленочные резисторы обладают следующими преимуществами: поверхностное сопротивление пленок может быть значительно больше, чем у диффузионнных слоев, и может регулироваться независимо от параметров активных компонентов схем; температурный коэффициент сопротивления меньше; легче контролировать номинал резистора при одновременной подстройке абсолютной величины сопротивления; меньшие значения паразитных параметров.  [6]

7 Характеристики затухания волны Ню. [7]

Результаты решения уравнения (3.22) для волны Н10 при различных значениях поверхностного сопротивления пленки представлены на рис. 3.11, 3.12. На рис. 3.11 приведены зависимости фазовой постоянной ( 5, на рис. 3.12 - коэффициента затухания р от частоты.  [8]

9 Зависимость ТКС от поверхностного сопротивления для пленок различных кррметов. [9]

Было найдено, что при исходном содержании SiO порядка 20 % поверхностное сопротивление пленок Cr - SiO ( с применением стабилизирующей термообработки) воспроизводилось с точностью 2 % от напыления к напылению.  [10]

11 Характеристики волны EOI при. 5. п / г20 5. [11]

На рис. 4.3 представлены результаты решения дисперсионного уравнения (4.8) для волны E0i при различных значениях поверхностного сопротивления пленки. Численные расчеты подтверждают отсутствие у симметричной Е - волны критических частот. При достаточно больших поверхностных сопротивлениях пленки, как видно из рис. 4.3, дисперсионные характеристики, начиная с некоторой частоты, проходят вблизи диспер-синной характеристики обычного двухслойного волновода с теми же параметрами. На рис. 4.3 она изображена штриховой линией. Сближение характеристик, как правило, начинается на частотах, немного превышающих критическую частоту волны E0i обычного двухслойного волновода.  [12]

Результаты расчета коэффициента отражения основной волны от согласованной нагрузки в диапазоне частот, соответствующем одноволновому режиму полого волновода, при / 3а и различных значениях поверхностного сопротивления пленки приведены на рис. 3.38. Из рисунков видно, что качество согласования волновода с резистивной пленкой зависит от частоты и в значительной мере определяется поверхностным сопротивлением пленки. В табл. 3.3 приведены результаты сравнения вычисленных значений коэффициента отражения с экспериментально измеренными.  [13]

14 Характеристики волны НЕп для различных значений поверхностного сопротивления пленки. [14]

НЕП приведены на рис. 3.21, 3.22, где Р Р7 & о - На рис. 3.21 представлены зависимости фазовой постоянной и коэффициента затухания от частоты при различных значениях поверхностного сопротивления пленки. Как видно из рисунка, на низких частотах с увеличением поверхностного сопротивления пленки затухание уменьшается. Это говорит о преобладании в пленке поперечных токов. На высоких частотах наблюдается противоположная зависимость, свидетельствующая о том, что в верхнем участке частотного диапазона в пленке происходит перераспределение продольных и поперечных токов.  [15]



Страницы:      1    2    3