Сушка - слой
Cтраница 3
При подходе воздушного ракеля к правому краю цилиндра ватным тампоном снимают излишек светочувствительного раствора. Сушка слоя производится при вращении цилиндра в течение 3 - 5 мин. [31]
Толщина слоя должна быть такой, чтобы металл подложки не просвечивал сквозь покрытие. Сушку слоя производят обдуванием деталей очищенным от масел воздухом. [32]
Поверхности должны окрашиваться в два слоя. Время сушки слоя и время между нанесением должно быть указано в технологическом процессе. [33]
Поэтому при увеличении скорости воздуха в шахтных сушилках не только увеличивается скорость сушки, но благодаря разрыхлению слоя повышается активная поверхность влагоотдачи. Это особенно заметно при сушке зернового слоя значительной толщины, когда роль внешнего вла-гообмена в отношении равномерности сушки повышается. [34]
Клеевую пленку из растворов или дисперсий термопластичных клеев обычно наносят в один слой на каждую склеиваемую поверхность. Например, для клея ПВАД время сушки слоя клея составляет от 2 до 10 мин при комнатной температуре. Затем склеиваемые детали прижимают друг к другу под давлением до 0 3 МПа ( 3 кгс / см2) и выдерживают при 25 10 С от 1 до 1 5 сут. [35]
Все технологии получения стеклоэмалевого покрытия, на, металле можно разделить на мокрые и сухие. Первые предполагают приготовление шликера, его нанесение в виде пульпы на поверхность подготовленной трубы, сушку слоя шликера и последующий обжиг при температурах 850 - 950 градусов по Цельсию. Процесс повторяется столько раз, сколько нужно нанести слоев. Сухие способы предполагают напыление эмалевой пудры на поверхность подготовленной трубы - либо в электростатическом поле, либо на предварительно нагретую поверхность в атмосфере инертного газа или восстановительной атмосфере. В этом случае исключаются мокрые процессы, ускоряется процесс эмалирования, появляется возможность разработки и использования высокоэкономичных и высокопроизводительных технологий. [36]
Термически наиболее устойчивы покрытия из фоторезистов KPR. В литературе, касающейся фоторезиста AZ-1350, имеются указания на то, что нет необходимости проводить сушку слоя в том случае, если используются слабые химические реактивы. Преимуществом такого процесса является свободное удаление полимера после травления. Когда применяются более сильные травители, например, буферные растворы фтористоводородной или азотной кислот, все же окончательную сушку при температуре 150 С в течение 30 мин проводить необходимо. [37]
 |
Значения Rf стандартных красителей в тонком слое оксида алюминия. [38] |
Однако широко распространенные ионообменные синтетические смолы редко применяют в ТСХ, так как они способны к сильному набуханию, вызывающему при сушке слоя растрескивание. Для ионного обмена в тонких слоях применяют жидкие ионообменники, нанося их на поверхность зерненого носителя, смеси ионитов с порошками целлюлозы, специальные сорта целлюлозы, а также минерально-органические иониты. [39]
Перед покрытием эмульсией поверхность детали обезжиривают венской известью, промывают в воде, протирают и сушат Затем поверхность, где должна образоваться шкала, покрывают светочувствительной эмульсией, и детали устанавливают на диск центрифуги. При вращении диска на детали остается тонкий, ровный слой эмульсии, а излишки под действием центробежной силы стекают. Сушка слоя эмульсии производится при 45 - 50 С в течение 10 - 12 мин. [40]
 |
Отделение инфракрасной части спектра от экспонирующего светового потока.| Тест-платы ( миры для определения разрешающей способности. [41] |
При взаимодействии кислорода со свободными радикалами образуются перекис-ные соединения, расщепление которых отнимает значительную часть поглощаемой энергии света. Поэтому экспонирование в вакуумной раме необходимо проводить не только для плотного, беззазорного совмещения фотошаблона и слоя ФПК, но и для ослабления кислородного ингибирования. Сушку слоя целесообразно проводить с ограничением кислорода в атмосфере. [42]
Условия правильной сушки негативов были указаны в гл. Важно помещать пленку для просушки в такие условия, где она высыхала бы равномерно и по возможности быстро. При сушке незадубленного слоя во влажном помещении, особенно при высокой температуре, в слое могут быстро развиться колонии бактерий, в результате деятельности которых на негативе появляются прозрачные точки, напоминающие булавочные проколы. Слой, чрезмерно размягченный при обработке, может сморщиться и частично отстать от подложки. [43]
 |
Сравнение распределения влаги.| Распределение влаги. [44] |
Распределение влаги внутри плоского горизонтального слоя при односторонней сушке в случае, когда решающим фактором оказывается диффузия, имеет такой характер, как показано на рис. 16 - 41, а. Даже в начальной фазе процесса концентрация влаги не одинакова, она больше в нижней части слоя, где под действием силы тяжести собирается большее количество влаги. При односторонней сушке слоя распределение влаги также различно: рис. 16 - 42, а - преобладание диффузии, рис. 16 - 42, б и в - преобладание капиллярных сил. На рис. 16 - 42, б изображен случай сушки слоя сверху, а на рис. 16 - 42, в - случай сушки того же слоя снизу. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5