Щелочное травление
Cтраница 3
Для обработки деталей средних габаритов на подвесках при крупносерийном производстве применяется автомат типа АГ-5. В основу автомата положена усовершенствованная технология анодирования, характерной особенностью которой является замена операций щелочного травления и последующего осветления, применяемых обычно для деталей из алюминиевых сплавов, химическим обезжириванием в растворе тринатрИйфосфата с повышенной концентрацией эмульгатора. [31]
Эффективный метод - щелочное травление, применяемое на ряде металлургических заводов. Это травление в 2 - 3 раза производительнее, чем кислотное, а потери металла при щелочном травлении в 3 - 5 раз меньше, чем при кислотном. Этот процесс осуществляют в расплаве каустической соды ( 80 %) и селитры ( 20 %) часто с добавками 3 - 5 % NaCl при температуре 400 - 650 С с выдержкой от 5 до 20 мин. Окалина, находящаяся на поверхности металла, в этом расплаве разрыхляется и значительная часть ее легко удаляется при последующем погружении стали в холодную воду для промывки. [32]
Автомат химической очистки АГ-14 предназначен для очистки алюминиевых корпусов электролитических конденсаторов. Очистка производится с помощью механического программирования во вращающемся барабане, который в соответствии с заданной программой осуществляет последовательно щелочное травление, промежуточную промывку холодной водой, кислотное осветление, холодную и горячую промывку. Программа очистки задается командным устройством, состоящим из набора кулачков, профиль которых рассчитывается в соответствии с временем промывки на каждой позиции. Кулачки управляют однообо-ротными муфтами и дифференциалами. Такая конструкция отличается простотой и главное универсальностью, что в конечном итоге обеспечивает быстроту перестройки технологического процесса очистки. [33]
 |
Состав и режим работы электролитов для эматалирования. [34] |
Детали средних габаритов на подвесках при крупносерийном производстве обрабатывают на автомате типа АГ-5. В его основу положена усовершенствованная технология анодирования, характерная особенность которой состоит в том, что операции щелочного травления и последующего осветления, применяемые обычно для деталей из алюминиевых сплавов, заменены химическим обезжириванием в растворе тринатрийфосфата с повышенной концентрацией эмульгатора. [35]
Подложки в виде грибков из титана подвергали [109] различным видам химической обработки: травлению серной кислотой, смесью фтористоводородной и азотной кислот, анодированию, фосфатно-фторидной обработке, щелочному травлению. Оказалось, что адгезионная прочность образцов, подвергнутых щелочному травлению, почти в 2 раза выше прочности анодированных образцов, хотя шероховатость, степень пористости и химический состав поверхностного слоя ( ТЮ2) в обоих случаях одинаковы. У образцов, подвергнутых фосфатнофторидной обработке, адгезионная прочность также почти в 2 раза выше прочности образцов, обработанных серной кислотой, хотя и в данном случае и пористость, и степень шероховатости, и химический состав поверхностного слоя ( TiH) одинаковы. Удалось установить, что причина этих различий связана с тем, что на поверхности образцов, прошедших фосфатно-фторидную обработку, присутствуют фосфатные группы, а на поверхности образцов, подвергнутых щелочному травлению, - ОН-группы. Эти группы способны взаимодействовать с полярными группами эпоксидной смолы, что и обусловливает существенное повышение адгезионной прочности. [36]
Подложки в виде грибков из титана подвергали [109] различным видам химической обработки: травлению серной кислотой, смесью фтористоводородной и азотной кислот, анодированию, фосфатно-фторидной обработке, щелочному травлению. Оказалось, что адгезионная прочность образцов, подвергнутых щелочному травлению, почти в 2 раза выше прочности анодированных образцов, хотя шероховатость, степень пористости и химический состав поверхностного слоя ( ТЮ2) в обоих случаях одинаковы. У образцов, подвергнутых фосфатнофторидной обработке, адгезионная прочность также почти в 2 раза выше прочности образцов, обработанных серной кислотой, хотя и в данном случае и пористость, и степень шероховатости, и химический состав поверхностного слоя ( TiH) одинаковы. Удалось установить, что причина этих различий связана с тем, что на поверхности образцов, прошедших фосфатно-фторидную обработку, присутствуют фосфатные группы, а на поверхности образцов, подвергнутых щелочному травлению, - ОН-группы. Эти группы способны взаимодействовать с полярными группами эпоксидной смолы, что и обусловливает существенное повышение адгезионной прочности. [37]
Хорошая светлая поверхность изделий получается при травлении в растворе следующего состава: 1 вес. Температура раствора 20 С; время травления 5 мин. Этот состав также применяют для удаления с поверхности изделий пятен, остающихся после щелочного травления. [38]
Автомат эксплуатируется следующим образом. Детали вручную загружаются в перфорированный барабан через открывающуюся стенку. Затем нажимается кнопка пуска, расположенная на отдельно стоящем пульте управления, и барабан, начав вращаться, опускается в ванну щелочного травления. Через заданное время он поднимается, а затем опускается в ванну промежуточной промывки. Далее следуют погружения на заданные промежутки времени в ванны кислотного осветления, промывки в холодной и горячей воде. [39]
Правильная подготовка детали к сварке обеспечивает высокое качество наплавленного слоя и прочное сцепление его с основным металлом. Перед сваркой детали очищают и разделывают их кромки. Поверхность деталей очищают стальной щеткой, напильником, наждачным полотном, абразивным кругом, пескоструйным аппаратом, затем промывают бензином или керосином, а также подвергают щелочному травлению. Кромки листов свариваемых встык разделывают ( скашивают) под углом ( 60 - 70), а края изломов и пробоин выравнивают. [40]
Добавление щелочи к водным растворам GeO2 не дает осадка вследствие значительной растворимости германатов щелочных металлов. Нейтрализация аммиаком приводит к более полному выделению, однако и в этом случае в растворе остается 0 2 - 0 3 г / л Ge. Метод осаждения гер-маната аммония действием NH4C1 был предложен для выделения германия из растворов со сравнительно высоким его содержанием, например после щелочного травления элементарного германия. [41]
Добавление щелочи к водным растворам Ge02 не дает осадка вследствие значительной растворимости германатов щелочных металлов. Нейтрализация аммиаком приводит к более полному выделению, однако и в этом случае в растворе остается 0 2 - 0 3 г / л Ge. Метод осаждения гер-маната аммония действием NH4C1 был предложен для выделения германия из растворов со сравнительно высоким его содержанием, например после щелочного травления элементарного германия. [42]
Анодная плотность тока 40 - 60 А / дм2, температура раствора 18 - 25 С. Анодная плотность тока 40 - 60 А / дм2, температура раствора 18 - 25 С. Для химического травления алюминия применяют кислотные и щелочные растворы. Для щелочного травления применя-юу раствор, содержащий 650 г / л едкого натра, температура раствора 70 - 80 С. [43]
Композиции хинондиазидных фоторезистов состоят, как правило, из эфира полифенола с 5-сульфокислотой 2-диазо - 1-нафта-линона, низкомолекулярной фенольной или крезольной НС с Мп 500 - f - 900 или этилакрилат-стирол-метакрилатного сополимера ( фирма GAF, США) и растворителя. Кроме этих основных компонентов в состав композиции могут входить промоторы адгезии, красители, индикаторы, пластификаторы, наполнители и др. Фо-горезистные пленки толщиной до 10 мкм формируют из раствора на подложках SiO2 / Si, анодированного алюминия и других материалов. Под действием дозированного света ( экспонирование) нафтохинондиазидный остаток изомеризуется с выделением азота в замещенный кетен; последний быстро гидролизуется, превращаясь в производное инденкарбоновой кислоты. В отличие от исходного диазида, кислота растворима в водных щелочах, что делает возможным проявление фотолизованной пленки; при проявлении на фотолизованных участках с подложки удаляется инденовый и полимерный компонент пленки. Образующийся высокоразрешенный рельеф ( до 1000 линий на 1 мм) служит маской при кислотном и щелочном травлении подложки. [44]
Композиции хинондиазидных фоторезистов состоят, как правило, из эфира полифенола с 5-сульфокислотой 2-диазо - 1-нафта-линона, низкомолекулярной фенольной или крезольной НС с Мп 600 - Ь 900 или этилакрилат-стирол-метакрилатного сополимера ( фирма GAF, США) и растворителя. Кроме этих основных компонентов в состав композиции могут входить промоторы адгезии, красители, индикаторы, пластификаторы, наполнители и др. Фо-горезистные пленки толщиной до 10 мкм формируют из раствора на подложках SiO2 / Si, анодированного алюминия и других материалов. Под действием дозированного света ( экспонирование) нафтохинондиазидный остаток изомеризуется с выделением азота в замещенный кетен; последний быстро гидролизуется, превращаясь в производное инденкарбоновой кислоты. В отличие от исходного диазида, кислота растворима в водных щелочах, что делает возможным проявление фотолизованной пленки; при проявлении на фотолизованных участках с подложки удаляется инденовый и полимерный компонент пленки. Образующийся высокоразрешенный рельеф ( до 1000 линий на 1 мм) служит маской при кислотном и щелочном травлении подложки. [45]
Страницы: 1 2 3 4