Электрохимическое травление

Cтраница 3

Электрохимическое травление металлов в кислотах с целью лолучения солей обычно оформляют в виде периодического процесса. Электролиз прекращают после практически полного лзрасходования кислоты, при этом со временем скорость растворения металла сильно падает, что невыгодно в технологическом отношении. [31]

Зависимость обратного тока диода от влажности окружающей среды для переходов, обработанных химическим ( / и электрохимическим ( 2 травлением. [32]

Электрохимическое травление кремния встречает ряд трудностей, вследствие чего в производстве его мало применяют. [33]

Электрохимическое травление германия может протекать как процесс катодного растворения и как процесс анодного растворения. На практике наиболее часто используется анодное растворение. [34]

Электрохимическое травление кремния применяется реже, чем германия. На поверхности кремния возникает прочная оксидная пленка. [35]

Схема установки струйного травления. [36]

Электрохимическое травление ПП основано на анодном растворении меди с последующим восстановлением ионов стравленного металла на катоде. [37]

Зависимость коэффициента травления от времени электролиза. [38]

Электрохимическое травление танталовой фольги приводит, как правило, к очистке ее поверхности. [39]

Электрохимическое травление тонких пленок на изоляционных подложках проводят, постепенно погружая их в электролит. В противном случае процесс травления локализуется непосредственно у контакта зажима электрода из-за повышенного электрического сопротивления тонкой пленки. Чтобы исключить влияние границы электролит - воздух, на поверхность электролита наливают слой несмешивающейся с ним диэлектрической жидкости, защищающей от действия кислорода воздуха. [40]

Электрохимическое травление поверхностных карбидов на сталях I2XI8HI0T и 08Х18Н12Б приводит к увеличению токов растворения. Это отвечает возрастанию вклада от торможения анодной реакции в общее снижение критического тока пассивации от 50 до 90 - уровня, характеризующего низкоуглеродистые стали. [41]

Проводя электрохимическое травление монокристалла WC в 10 % - ном растворе К2СО3, автор работы [114] обнаружил, что призматические плоскости склонны к образованию лунок травления, как и базисные плоскости. На призматической плоскости лунки травления располагаются только параллельно базисной плоскости. При большем увеличении установлено различие свойств симметрии обеих плоскостей по формам лунок травления: на базисной плоскости образуются лунки треугольной формы, на призматической - продолговатой. [42]

Однако электрохимическое травление позволяет регулировать подвод ионов хлора к поверхности алюминия изменением плотности тока и тем самым обеспечить легкое управление процессом травления. Другим фактором, регулирующим скорость травления, так же как и в случае химического травления, является температура травящего раствора. [43]

Однако электрохимическое травление позволяет регулировать подвод ионов хлора к поверхности алюминия изменением силы тока в травильной ванне и тем самым обеспечить легкое управление процессом травления. [44]

Чаще электрохимическое травление производят постоянным током в растворах кислот и щелочей. Обрабатываемая деталь может быть как катодом, так и анодом. При катодном травлении удаление окислов происходит за счет их восстановления водородом и механического отрыва от металла пузырьками-газа. При анодном травлении происходит отделение окислов от поверхности выделяющимся газом, чему одновременно способствует и растворение металла. [45]

Страницы: 1 2 3 4