Увеличение - потенциальный барьер
Cтраница 3
Положительная энергия отталкивания U3 ( h) с увеличением расстояния уменьшается по экспоненциальному закону, а отрицательная энергия притяжения UM ( h) обратно пропорциональна квадрату расстояния ( рис. VI. В результате на малых расстояниях ( при h - - О U3 - const, t / м - - - оо) и больших расстояниях ( экспонента убывает значительно быстрее, чем степенная функция) между частицами преобладает энергия притяжения, а на средних расстояниях - энергия электростатического отталкивания. Первичный минимум отвечает непосредственному слипанию частиц ( рис. VI. Максимум на средних расстояниях характеризует потенциальный барьер, препятствующий слипанию частиц. Силы взаимодействия могут распространяться на расстояния до сотен нанометров, максимальное значение энергии достигает 10 - 2 Дж / м2 и более. Увеличению потенциального барьера способствует рост потенциала рв ( VI. [31]
Положительная энергия отталкивания U3 ( h) с увеличением расстояния уменьшается по экспоненциальному закону, а отрицательная энергия притяжения UM ( h) обратно пропорциональна квадрату расстояния ( рис. VI. В результате на малых расстояниях ( при / i - 0 f / a - const, t / м - 1 - ) и больших расстояниях ( экспонента убывает значительно быстрее, чем степенная функция) между частицами преобладает энергия притяжения, а на средних расстояниях - энергия электростатического отталкивания. Первичный минимум I отвечает непосредственному слипанию частиц, а вторичный минимум II - их притяжению через прослойку среды. Максимум, соответствующий средним расстояниям, характеризует потенциальный барьер, препятствующий слипанию частиц. Силы взаимодействия могут распространяться на расстояния до сотен нанометров, максимальное значение энергии достигает 10 - 2 Дж / м2 и более. Увеличению потенциального барьера способствует рост потенциала на поверхности частиц фс ( VI. [33]
Страницы: 1 2 3