Воздействие - электронный луч
Cтраница 1
Воздействие электронного луча на жидкий металл приводит к микровзрывам в вакууме, в результате чего часть металла сварочной ванны разбрызгивается, поверхность шва становится неровной, в шве могут возникнуть дефекты. [1]
 |
Общая схема автоколебательной системы при нагреве материала КПЗ. [2] |
Рассмотрим воздействие электронного луча, сформированного электронной пушкой, на металл. Естественно, что физические характеристики воздействия зависят от параметров электронного луча, которые, в свою очередь, определяются параметрами электронной пушки и процессом распространения электронного луча от электронной пушки к обрабатываемому материалу. [3]
Под воздействием электронного луча потенциал внутренней поверхности мишени доводится до потенциала катода. Если на сигнальную пластину, расположенную с другой стороны мишени, подан небольшой положительный ( относительно катода) потенциал, то под действием электрического поля происходит стекание отрицательного заряда, нанесенного электронным лучом, сквозь мишень на сигнальную пластину. Скорость стекания заряда на различных участках мишени неодинакова и определяется проводимостью, а следовательно, и освещенностью. [4]
После прекращения воздействия электронного луча в момент tz яркость начинает постепенно опадать по закону, близкому к экспоненциальному. Время послесвечения обычных ( сульфидных) люминофоров значительно превосходит время разгорания. На практике длительностью послесвечения считают время, в течение которого яркость уменьшается до 0.05 от своего максимального значения. [5]
 |
Схема принципа действия установки для размерной обработки материалов с помощью электронного луча. [6] |
В месте воздействия электронного луча материал может быть разогрет до 6000, и любой материал, на который будет направлен такой луч, мгновенно испарится. [7]
 |
Устройство электроннолучевой трубки с электростатическим управлением. [8] |
После прекращения воздействия электронного луча фосфорисци-рующий слой перестает светиться не сразу, а спустя некоторое время которое называется временем послесвечения. Это явление учитывается при выооре трубок. [9]
 |
Схематическое изображение устройства электростатической электронно-лучевой трубки. [10] |
После прекращения воздействия электронного луча на экран последний продолжает светиться в течение некоторого времени. Это явление называется послесвечением экрана или фосфоресценцией. Время послесвечения обычных осциллографических трубок составляет несколько десятков или сотен микросекунд, однако в некоторых случаях оно может достигать нескольких десятков секунд и более. Такие трубки применяются для наблюдения медленно изменяющихся или апериодических процессов. [11]
Представим схему воздействия электронного луча на металл следующим образом. Вторичный пучок, естественно, гораздо сильнее размыт по скоростям электронов, их энергия в среднем существенно меньше энергии первичных электронов. Приповерхностная плазма образуется в основном за счет испарения металла или за счет процессов ионизации атомов остаточного газа и десорбированных с поверхности материала атомов, если испарение материала сравнительно невелико. [12]
В экспериментальных условиях воздействия электронного луча на металл наиболее часто встречается ситуация, когда электронный пучок сравнительно малой плотности распространяется через сравнительно плотную приповерхностную плазму. [13]
Итак, при воздействии электронного луча на металл могут возникать колебательные неустойчивости, обусловленные взаимодействием исходного электронного пучка ( плотность электронов щ, скорость электронов ui, разброс по скростям AUI, плотность электрического тока, энергия электронов Wi) с приповерхностной плазмой ( плотность электронов пе, тепловая скорость электронов ve, температура электронов Те, температура ионов 7) - Для оцено к примем, что приповерхностная плазма находится в основном в объеме, представляющем собой цилиндр радиусом основания R и высотой S, где S - ЮЛ. Влияние вторичных электронов в зависимости от их энергии и распределения по скоростям может проявляться двояко. Те их них, которые имеют температуру, близкую к температуре электронов плазмы, и косинусоидальный закон распределения по скоростям, будут давать вклад в генерацию электронов приповерхностной плазмы, а другие, которые можно представить как поток электронов с выделенной скоростью U2, будут составлять вторичный пучок электронов. Совершенно четкой границы между этими двумя группами электронов, конечно, не существует. [14]
Фотошаблон может быть изготовлен путем воздействия электронного луча на стеклянную заготовку, покрытую хромом и фоторезистом. При этом методе изготовления фотошаблонов обычные процессы экспонирования светом ( например, процессы, применяемые при изготовлении оригиналов, копировании оригинала на пленку, уменьшении и мультиплицровании) заменяются процессом экспонирования электронным лучом. [15]
Страницы: 1 2 3 4