Cтраница 2
На рис. 3 - 78 схематически изображен другой вариант подколпачного устройства. [16]
![]() |
Схема подколпачно. [17] |
К установкам этого типа относится установка УВН-2М-2, упрощенная схема подколпачного устройства которой представлена на рис. 2.34. В данном случае карусель подложек и масок имеет 8 позиций и может непрерывно вращаться со скоростью 40 - 150 об / мин. Это обеспечивает идентичность свойств пленки на всех подложках. На базовой плите смонтирована 5-позиционная карусель резистивных испарителей таким образом, что питание подается только на тот испаритель, который выведен на рабочую позицию. [18]
Перемещение подложек, масок и смена напыляемого материала осуществляются механизмами подколпачного устройства. Подложки из кассеты ( вмещающей 33 подложки) поочередно попадают с помощью механизма транспортировки на позиции напыления. Карусельное устройство, снабженное шестью - различными масками, дает возможность производить напыление слоев на подложку из любого испарителя и в любой последовательности. Подложка, прошедшая полный технологический цикл, возвращается в кассету и вместе с ней перемещается на один шаг. [19]
![]() |
Схема подколпачно. [20] |
К установкам этого типа относится установка УВН-2М-2, упрощенная схема подколпачного устройства которой представлена на рис. 2.34. В данном случае карусель подложек и масок имеет 8 позиций и может непрерывно вращаться со скоростью 40 - 150 об / мин. Это обеспечивает идентичность свойств пленки на всех подложках. На базовой плите смонтирована 5-позиционная карусель резистивных испарителей таким образом, что питание подается только на тот испаритель, который выведен на рабочую позицию. [21]
При количестве компонентов свыше 2 - 3 метод становится слишком сложным, а подколпачное устройство - громоздким. [22]
Так как при производстве пленарных приборов металлы напыляют преимущественно сверху вниз, рассмотрим подколпачное устройство для этого варианта напыления. При этом варианте напыления на плите имеется три нагревателя, которые можно включать параллельно или последовательно, пользуясь переключателем, расположенным на верхней панели блока управления. Распыление происходит при испарении металлов за счет тепла, выделяемого спиральными молибденовыми нагревателями. Контролируют температуру нагревателей тремя термопарами. Для прогрева колпака с целью улучшения вакуума в подколпачном устройстве имеется специальный нагреватель. Для удаления загрязнений, имеющихся на испаряемом металле, в первый момент напыление производят на заслонку, закрывающую полупроводниковые пластины, а затем заслонку откидывают. [23]
При количестве компонентов свыше 2 - 3 метод становится слишком сложным, а подколпачное устройство - громоздким. [24]
При получении давления 2 - 10 - 5 мм рт. ст. обезгаживают элементы подколпачного устройства и изделия. [25]
Схема внутри камер но го устройства термовакуумного напыления приведена на рис. 2.9. Стационарная и съемная оснастки подколпачного устройства периодически очищаются от наслоений предыдущих напылений. Навески напыляемого вещества обезжириваются, травятся для удаления оксидных пленок и загрязнений. Непосредственно перед напылением производятся отжиг испарителей и навесок и очистка подложек. После этого ведут напыление на подложки различных материалов, поворачивая карусель с подложками на соответствующие позиции над испарителями. [26]
Установка ЖК 43.05 предназначена для напыления различных металлов на пластины полупроводниковых материалов и последующего вплавления напыленных металлов в высоком вакууме, состоит из колпака с подколпачным устройством и механизмом подъема, вакуумной системы и пульта управления. [27]
В термоэлектрических приборах в качестве задающей величины используется зависимость теплопроводности газа от давления в объеме лампы ( термопарная лампа ЛТ-2 или ЛТ-4М), равного давлению в подколпачном устройстве. [28]
Термическим испарением в вакууме получают пленки на установках типа УВН, которые состоят из трех основных узлов: пульта управления процессом ( электрическая часть), системы откачки с вакуумными агрегатами, рабочей камеры с подколпачным устройством для крепления и перемещения подложек и масок, а также для нагрева подложек и исходного вещества. Па, затем, подавая напряжение от пульта управления, нагревают подложки и вещество, подлежащее напылению, до температуры его испарения. Образующийся поток пара конденсируется на подложке, температура которой значительно ниже температуры испарения материала. [29]
Установки периодического действия колпакового типа наиболее распространены в промышленности. Однако контактирование довольно сложного подколпачного устройства установки с атмосферным воздухом после подъема колпака, а также невозможность прогрева колпака затрудняют получение давления меньше 1 - 10 - 4 Па. Производительность таких установок также невелика из-за значительного вспомогательного времени, необходимого для получения рабочего давления. [30]