Cтраница 1
Возможность получения пленок или порошков фотохимическим путем при низких температурах представляется весьма заманчивой, так как открывает перснс ктивы выделения из МОС металлов наиболее высокой степени чистоты. [1]
Возможность получения пленки различной толщины с удовлетворительной разнотолщинностью зависит от количества и диаметра валков, установленных на каландре. [2]
В настоящее время доказана возможность получения пленок не только ферромагнитных металлов Fe, Ni, Co, Gd и их сплавов, но также и неметаллических ферритов, гранатов и халькогенидов Основная часть выполненных исследований, однако, посвящена плоским металлическим пленкам, но и среди них главное внимание уделено пленкам Ni - Fe ( пермаллоевых) сплавов. Причиной этого особого интереса, который отражен в содержании данной главы, является открытие того, что пермал-лоевые пленки могут успешно использоваться, как бистабильные элементы в памяти цифровых вычислительных машин. Однако выводы данной работы относятся не только к пленкам Ni - Fe-сплавов, они применимы, по-видимому, и к ферромагнитным пленкам других материалов. [3]
Таким образом, показана возможность получения пленок хрома термическим разложением в паровой фазе большого числа хроморгапических соединений разных типов. Для каждого соединения хрома предпочтительна своя температура разложения. Нижний предел температуры подложки обусловлен температурой разложения соединения и в общем случае выше ее на 100 - 150 С. Верхний предел температуры подложки определяется также свойствами хроморганического соединения. При слишком высоких температурах органическая часть молекулы соединения будет разлагаться с образованием углерода, метана, этана и способных к полимеризации углеводородов, таких, как этилен и ацетилен, которые загрязняют осаждаемый хром. Оптимальной температурой процесса следует, вероятно, считать температуру на 75 С выше, чем температура разложения соединения. [4]
Преимуществом метода ионно-плазменного распыления является возможность получения пленок того же состава, что и распыляемая мишень. [5]
В связи с этим имеется возможность получения высокочистых пленок металлов, полупроводников и диэлектриков не в дорогостоящих сверх-высоковакуумных установках с большой длительностью технологического цикла, а в обычных непрогреваемых высоковакуумных установках промышленного типа, откачиваемых до разрежения 10 - 6 - 10 - 7 мм рт. ст., в том случае, если их снабдить специальными устройствами, позволяющими снизить парциальные давления химически активных газов за счет их селективной откачки и обеспечить контроль остаточной среды в процессе конденсации пленки. [6]
Принципиальная схема высокочастотного ионного распыления. [7] |
Существенным достоинством ионного напыления является возможность получения пленок строго стехиометрического состава из сплавов и сложных химических соединений, а также высокая адгезия пленок к подложкам. Недостатком считаются относительно низкие скорости нанесения пленок, лежащие в интервале 5 - 300 нм / мин. [8]
Большим технологическим достоинством подобных композиций является возможность получения пленок и полых волокон путем переработки их расплавов. Эти достаточно высокие показатели открывают перспективу использования композиционных мембран для о кси-генации крови. [9]
Блок-схема установки для выращивания эпи-таксиальных пленок кремния. [10] |
Рассмотрим основные технологические факторы, определяющие возможность получения пленок высокого структурного совершенства, с равномерной и контролируемой толщиной и с гладкой поверхностью. [11]
Для улучшения свойств пожаробезопасной пленки была исследована возможность получения смешанных нитроацетатных пленок. Однако заметное повышение механических показателей таких пленок по сравнению с ацетатными наблюдалось лишь при наличии такого количества нитрата целлюлозы, при котором пленки не являются безопасными по скорости сгорания и воспламеняемости, а содержание азота в них превышает допустимое. [12]
Хотя в перечисленных выше источниках информации отмечается возможность получения однородных бездефектных пленок толщиной порядка десятых и даже сотых микрона, можно полагать, что при достаточно большой площади ленты, позволяющей изготовление конденсаторов намотанного типа, едва ли пока уверенно удается получать пленки тоньше 1 мкм. [13]
Антиоксиданты препятствуют окислительной полимеризации, а красящие вещества исключают возможность получения светлых пленок. [14]
При этом характеристики получаемой плазмы и стабильность разряда зависят от многочисленных параметров и определяют возможность получения ГФХО пленок с заданными характеристиками. [15]