Cтраница 2
Проявляющие вещества - восстанавливают серебро на экспонированных участках фотографич. При применении в качестве проявляющих веществ окси - и оксиаминопроизводных фотографически активны анионы, в случаях аминопроиз-водных - недиссоциированные молекулы проявляющего вещества. [16]
Разрешающая способность фоточувствительных пленок в случае кристаллизующихся под действием излучения стекол определяется размерами кристаллов, образующихся на экспонированных участках, в свою очередь зависящими от состава и толщины пленки, от времени и интенсивности облучения и других условии роста кристаллической фазы. [17]
Резист называют позитивным, если облученные участки растворяются и удаляются вместе с проявителем, или негативным, если экспонированные участки образуют нерастворимые мостики. Тип резиста подбирают в зависимости от конфигурации рисунка. [18]
Щается в растворяющийся в основаниях гидрофильный продукт ( например, карбонивую кислоту), в результате чего в экспонированных участках ингибирование снимается; экспонированные и защищенные от света шаблоном участки оказываются резко различающимися по растворимости в основаниях, что позволяет создавать рельеф при проявлении. В качестве пленкообразующего полимера чаще всего применяются новолачные смолы ( НС), их растворимость в щелочах в большинстве случаев ингибируют эфи-рами или амидами 5-сульфокислоты 2-диазо - 1-нафталинона. Поскольку эти композиции наиболее привлекательны для практики фотолитографии, их получению, свойствам и применению посвящено наибольшее число работ. Среди других вводимых в композиции позитивных резитов и растворимых в основаниях полимеров необходимо отметить гидроксиалкилцеллюлозу, сополимеры акриловой кислоты, полиамидокислоты ( см - гл. [19]
Рельефная структура возникает на этапе обработки, когда поверхность резиста подвергается воздействию потока кислотного растворителя, который растворяет фоторезист на экспонированных участках. [20]
Для получения позитивных изображений основа должна иметь черный цвет, который хорошо заметен через неэкспонированные прозрачные участки термопластичного слоя, в то время как экспонированные участки приобретают белый цвет. [21]
ПОГРАНИЧНЫЕ ЭФФЕКТЫ проявления ( м и к р о э ф ф о к т ы проявления) - аномалии фотографий, проявления на границе между сильно и слабо экспонированными участками и на очень малых по размерам элементах фотографич. Эти аномалии обусловлены ограниченной скоростью диффузии компонентов проявителя ( см. Проявление фотографическое) в желатиновый эмульсионный слой и продуктов реакции восстановления из этого слоя в окружающий проявитель. Медленность процесса подачи восстанавливающего раствора в слой по сравнению с хим. реакцией восстановления галоидного серебра приводит к тому, что сильно экспонированные протяженные поля, где восстанавливается много галоидного серебра, проявляются более истощенным проявителем, чем слабо экспонированные поля тех же размеров: при одинаковой степени засветки слоя относительно большие поля проявляются менее энергично, чем маленькие. На краю изображения - на границе между слабо и сильно экспонированными полями - происходит диффузия компонентов проявителя, находящегося в эмульсионном слое, вдоль поверхности слоя. В ре-нультате проявление темного поля близ границы происходит усиленно, а светлого поля - ослабленно. [22]
Методом электронной микроскопии показано, что там они так плотно упакованы ( 10000 - 30000 связывающих центров / мкм2), что едва ли найдется место для других белков; наибольшее количество таких центров расположено на экспонированных участках впяченной мембраны. Вне синапса плотность рецепторов составляет всего лишь 1 % их плотности в субсинаптической области. [23]
Далее следует фотополимеризующийся клеящий слой, содержащий ненасыщенный мономер и инициатор фотополимеризации. Экспонированные участки клеящего слоя прилипают к слою си-локсана, а незасвеченные участки клеящего слоя удаляют, в результате чего обнажается слой силоксана. Участки фотополимерного слоя принимают типографскую краску, участки слоя силок-сана отталкивают краску, служат пробелами [ яп. [24]
Далее следует фотополимеризующийся клеящий слон, содержащий ненасыщенный мономер и инициатор фотополимеризации. Экспонированные участки клеящего слоя прилипают к слою си-локсана, а незасвеченные участки клеящего слоя удаляют, в результате чего обнажается слой силоксана. Участки фотополимерного слоя принимают типографскую краску, участки слоя силок-сана отталкивают краску, служат пробелами [ яп. [25]
Ее наносят из органического растворителя на кремниевую подложку, сушат, получают слой толщиной примерно 1 мкм, экспонируют светом с длиной волны 250 - 300 нм, выдерживают при 140 - 160 С в течение 20 - 30 мин. В экспонированных участках диазид, переходя в динитрен, сшивает полимер ( см. гл. IV), при термолизе диазид возгоняется из неэкспонированных частей слоя. Проявляют рельеф кислородной плазмой в течение нескольких минут. [26]
ВЕЗИКУЛЯРНЫЙ ПРОЦЕСС ( пузырьковый проце Кальвар-процесс), один из видов иесерсбряпом фоготрафи Регистрирующий материал - бумага, полимерная плен ( обычно полиэтнлснтерефталатпая) с покрытием, чувств тельным к действию УФ лучей. На экспонированных участках сцсточувстпит. Скрытое изображение, состоящее из пузырьков ( везикул) газа, проявляют кратковременным ( 0 01 - 10 с) нагреванием при 80 - 150 С ( обычно при 100 С, напр. Пузырьки, диффундируя в раз-мягчсппом связующем к нов сти свсточупствит. Проявленную пленку равномерно засвечивают и длительно нагревают ( при подготовке копий к хранению более одного года - в течение 4 ч), обычно не выше 43 С. Пузырьковое изображение проецируют па зкран, а изображение на везикулярной бумаге считывают глазом. [27]
Ее наносят из органического растворителя на кремниевую подложку, сушат, получают слой толщиной примерно 1 мкм, экспонируют светом с длиной волны 250 - 300 нм, выдерживают при 140 - 160 С в течение 20 - 30 мин. В экспонированных участках диазид, переходя в динитрен, сшивает полимер ( см. гл. IV), при термолизе диазид возгоняется из неэкспонированных частей слоя. Проявляют рельеф кислородной плазмой в течение нескольких минут. [28]
Образующийся при фотолизе на воздухе питреп пришивает остаток индепкарбоновой кислоты к специально вводимому в композицию гидрофобному и нерастворимому в основаниях полимеру - смеси эфира полиола и ненасыщенных кислот [ канад. Благодаря этому экспонированные участки полностью растворяются в основаниях, проявление не сопровождается потерей массы рельефа. [29]
Образующийся при фотолизе на воздухе нитрен пришивает; остаток инденкарбоновой кислоты к специально вводимому в ком позицию гидрофобному и нерастворимому в основаниях поли меру - смеси эфира полиола и ненасыщенных кислот [ канад. Благодаря этому экспонированные участки полностьк растворяются в основаниях, проявление не сопровождается потере. [30]