Экспонированная участка

Cтраница 3

Магнитная головка с амплитудной модуляцией вспомогательного потока регистрируемым сигналам.| Схема устройства электрофотографической реги -., стращш. [31]

Порошку предварительно сообщается заряд, одинаковый с зарядом материала. Порошок оседает на экспонированных участках, создавая видимое изображение, которое может быть перенесено на обыкновенную бумагу. [32]

Например, на слон полиамидокислоты толщиной около 12 мкм, формируемый из раствора в N-метилпирролидоне или ДМАА, наносят слой обычного позитивного хинондиазидного фоторезиста толщиной около 5 мкм и проводят стандартную литографию [ пат. При проявлении щелочью удаляют экспонированные участки фоторезиста и полиамидокислоту, находящуюся под ними. Фоторезист удаляют ацетоном, а полиамидокислоту в рельефном слое циклизуют в термостойкий полиимид. По-лиамидокислота ( ПДДЭ) в этом случае - продукт поликонденсации пиромеллитового диангидрида и диаминодифенилового эфира, соответствующий полиимид выдерживает нагревание до 400 С. Поскольку N-метилпирролидон и ДМАА неполностью удаляются при образовании слоев полиамидокислоты и резиста, то эти растворители деформируют рельеф при высокотемпературной имиди-зации. В результате не удается получить высокоразрешенный микрорельеф. [33]

Знак линейной погрешности на каждой из стадий процесса получения рисунка определяется тем, какой из двух основных типов процессов используется: негативный или позитивный. Так, при использовании негативных фоторезистов экспонированные участки, соответствующие неудаляемой части покрытия, получаются несколько больше, чем соответствующие им светлые поля фотошаблона и, следовательно, на этом этапе линейная погрешность положительна. При использовании негативных фоторезистов наблюдается обратная картина, соответствующая отрицательным значениям линейной погрешности. [34]

Фотохимическая перегруппировка Вольфа реализуется при использовании фоторезистов - светочувствительных составов для получения рельефных изображений [1239], В состав пленкообразующего полимера, обычно новолачной смолы, вводят гидрофобный 1 2-нафтохинондиазид - 2, например ( 35; R5 - SOsOAlk), который при действии света переходит в производное инденкарбоновой-I кислоты. При последующей обработке слабощелочным раствором на экспонированных участках полимер растворяется тогда как на остальной поверхности неизменившийся хинондиазид ингибирует растворение. Возникает рельефное изображение, которое может быть усилено травлением подложки. Фоторезисты обладают высокой разрешающей способностью и имеют большое значение в радиоэлектронике и полиграфии. [35]

Экспонирование фоторезистов производят через фотомаску ( фотошаблон) с изображением элементов прибора или схемы. После обработки фоторезиста в растворе, удаляющем экспонированные участки ( проявителе), на поверхности пластины образуется рельефное изображение, устойчивое к воздействию агрессивных сред, таких, как кислоты и щелочи, даже при нагревании. Соответственно процессы литографирования в этих случаях называются электронолитография или рентгенолитография. [36]

Темные и светлые полосы типичны для проявления в баке, которое проводится без покачивания. Они вызываются различным действием проявителя на сильно экспонированные участки пленки. Потеки проявителя идут от сильно экспонированных к слабо экспонированным деталям изображения. [37]

Подтразливание как результат плохой адгезии слоя фоторезиста следует отличать от перетравлпвания. Перетравливание происходит при продолжительном боковом растравливании, после того как экспонированные участки пленки были уже растворены. Это может произойти при травлении пленок металла, когда не установлены толщина пленки и скорость травления. Перетравливанне проявляется в виде глубоко и неровно растравленных краев линий и в большинстве случаев происходит по-видимому, при использовании очень быстрых травителей. В этом случае очень трудно точно установить продолжительность травления. Увеличение продолжительности бокового растравливания обусловлено тем, что молекулы травящего раствора сцепляются с поверхностью образца; ограничить продолжительность растравливания можно быстрым исключением воздействия травителя помещением подложки в стоп-ванну. Раствор в этой ванне должен иметь такой состав, который немедленно бы остановил химическую реакцию, возбужденную травителем. Примером может служить прекращение действия кислотного травителя алюминия при погружении образца в ванну с разбавленным щелочным раствором. Одним из других методов является уменьшение скорости травления разбавлением травителя, лучше всего вязкими жидкостями, подобными полиспиртам. В этом случае следует резко уменьшить обмен свежего и отработанного раствора травителя на краях линий. Этот метод иногда целесообразно применять и при травлении распылением, потому что экспонированные участки пленки более эффективно обрабатываются травителем, и промывочным раствором, чем края линяй. [38]

Многослойный материал для переноса изображения до экспонирования ( а и после разделения ( б. [39]

Светочувствительный слой 2 наносят на прозрачную пленку /, затем наносят слой 3, состоящий из спирторастворимого полиамида, черного красителя, наф-талата железа со смесью толуол - изопропиловый спирт ( 1: 1); на подложку 5 наносят слой акрилового адге-знва 4, после чего обе основные части материала прикатывают друг к другу. При облучении из-за выделения газов резко изменяется адгезия слоев / и 2 на экспонированных участках, и оба слоя разделяются. [40]

Многослойный материал для переноса изображения до экспонирования ( а и после разделения ( 6 -. [41]

Светочувствительный слой 2 наносят на прозрачную пленку /, затем наносят слой 3, состоящий из спирторастворимого полиамида, черного красителя, наф-талата железа со смесью толуол - изопропиловый спирт ( 1: 1); на подложку 5 наносят слой акрилового адге-зива 4, после чего обе основные части материала прикатывают друг к другу. При облучении из-за выделения газов резко изменяется адгезия слоев 1 и 2 на экспонированных участках, и оба слоя разделяются. [42]

Окись цинка, обеспечивая белизну и прочность бумаги, существенным образом замедляет скорость стекания зарядов. Контрастность репродукции зависит от различия в потенциалах между заряженными - неэкспонированными и разряженными - экспонированными участками изображения. При небольшой скорости стекания зарядов можно более просто получить хорошее, достаточно контрастное изображение. Необходимая величина разности потенциалов зависит от материалов, используемых в качестве проявителя. [43]

В освещенных участках диазониевое соединение разлагается. Оставшуюся соль подвергают сочетанию с фенолом, причем получается цветное изображение, которое в экспонированных участках практически не окрашено. [44]

Наиболее типичными представителями фотополимерных материалов являются мономеры, которые при экспонировании подвергаются фотополимеризации. В результате фотополимеризации свойства исходного мономерного слоя, как известно, существенно изменяются и на экспонированных участках может наблюдаться изменение растворимости, изменение степени гидрофильности, появление ( или исчезновение) окраски слоя, изменение адгезии к подложке. [45]

Страницы: 1 2 3 4