Фотолиз - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 4
Хорошо не просто там, где нас нет, а где нас никогда и не было! Законы Мерфи (еще...)

Фотолиз

Cтраница 4


Фотолиз Од изучался при различных условиях [65, 141, 142], но полученные результаты не так полны и не так достоверны, как в случае пиролиза. При облучении красным светом [141] оказывается, что результаты соответствуют данному механизму, за исключением очень высоких отношений ( 03) / ( 02), для которых квантовый выход, по-видимому, медленно повышается. С другой стороны, довольно значительная темновая реакция при низких температурах вместе с гетерогенной реакцией и катализом делает эти измерения довольно сомнительными. Хейдт [65] нашел очень высокий квантовый выход ( около 6) в относительно концентрированном Оз при коротких длинах волн ( 2500А); это может быть доказательством цепи, обусловленной электронновозбужденными состояниями 02, которые могут образовываться при этих коротких длинах волн.  [46]

Фотолиз спиртов происходит при действии УФ-света с Я, ; [ 200 нм. Наиболее слабая С - Н - связь у а-атома углерода по отношению к ОН-группе.  [47]

Фотолиз о-хинондиазидов, прежде всего 1 2-нафтохинондиази-аов, имеет большое значение для получения рельефных изображений на поверхности ( см. гл.  [48]

Фотолиз днфенилдиазометанз в присутствии дифенилизоцианата [35] приводит к образованию 2 2-дифенилиндоксила. Авторы предполагают, что образовавшийся при фотолизе дифенилкарбен присоединяется KCN связи, а затем ot - лактам претерпевает [ l 7 ] - сигматрошшй супрафациальный сдвиг с образованием индоксила.  [49]

Фотолиз арилдиазониев в различных полимерах приводит к изменению их свойств, в большинстве случаев - к понижению растворимости. Это связывают со сшиванием полимеров. Полагают, что образовавшиеся из арилдиазониев радикалы могут инициировать цепную полимеризацию [ см. например, 5; пат. Такое дубление полимеров продуктами фотолиза солей диазония давно нашло применение при создании копировальных материалов. Для этого на какой-либо подложке создают из раствора тонкий слой соли арилдиазония и полимера; после фотолиза через шаблон экспонированные участки слоя чаще всего теряют растворимость, что позволяет при жидкостном проявлении получать рельеф, отвечающий негативу шаблона. В случае олеофильного и механически прочного рельефа гидрофильных незащищенных слоем участков подложки получают печатную форму для плоской ( офсетной) печати; если рельеф стоек к травлению, то он может служить резистом для изготовления форм высокой и глубокой печати на би - и триметал-ле, а также в радиоэлектронике при создании интегральных схем. Слой на подходящей подложке готовят вне производства, и готовые к экспонированию пластины ( предварительно очувствленные пластины) могут храниться до момента применения от нескольких месяцев до нескольких лет.  [50]

Фотолиз этилазидоформиата в ацетоне приводит в результате присоединения промежуточно образующегося нитрена к 3 3-диме-тил - 2-этоксикарбонилоксазиридину ( 13) ( схема 6); в циклогекса-ноне реакция протекает иным путем и оксазиридин не образуется.  [51]

Фотолиз 2-арилхиноксалин - Л / - оксидов приводит к 3 1 5-бензо-ксадиазепинам ( 131; R Н, Ph), которые при реакции с водой образуют диацил-о-фенилендиамины.  [52]



Страницы:      1    2    3    4