Cтраница 2
При этом исчезают центры окраски и ЭПР. [16]
Такой отжиг разрушает нестабильные центры окраски, которые вызывают первоначальное обесцвечивание, но не затрагивает устойчивые. У этого типа дозиметров показания не пропорциональны дозе во всем интервале измерений; уже выше доз 105 рад изменения оптической плотности становятся меньше. Кроме того, наблюдается сильная зависимость от энергии излучения при энергиях менее 200 кэв. [17]
![]() |
Спектры поглощения аддитивно окрашенного кристалла КС.. 1 - до обесцвечивания. 2 - после освещения / - светом при 25 С. 3 - после освещения. F-светом при 200 С. [18] |
Осуществление способа создания центров окраски светом [3.22] требует затраты больших энергий, а это является серьезным препятствием для широкого применения. Поэтому в настоящее время наибольший интерес представляют изотропный и анизотропный фотохромный эффекты. [19]
Для выяснения роли центров окраски в явлениях люминесценции окрашенных кристаллов щелочно-галоидных соединений автором была исследована [ 73, 1201 зависимость световых сумм ультрафиолетовой люминесценции фотохимически окрашенных кристаллов NaCI и КС1 от концентрации F-центров. Измерения были произведены при помощи счетчика фотонов. [20]
![]() |
Изменение интегрального светопропускания ( в % некоторых промышленных стекол, вызванное V -облучением. [21] |
Для предотвращения образования центров окраски в видимой области спектра в состав стекла обычно вводят элементы с активными донорно-акцепторными свойствами. Такими свойствами обладают поливалентные элементы - сурьма, висмут, церий и др. Наиболее эффективными, с точки зрения уменьшения образования центров окраски при воздействии излучений, являются ионы церия. В настоящее время в состав почти всех типов оптических стекол, к которым предъявляются требования неизменности светопропускания в видимой области спектра при воздействии излучений, вводят добавки окиси церия. [22]
Кинетическая зависимость концентрации центров окраски описывается уравнением n ( Np / a) ( l - e - ai), где Nun - концентрация точечных дефектов, способных образовывать центры окраски, и концентрация образовавшихся центров; р - вероятность образования; а - сумма вероятностей образования и разрушения центров в процессе облучения; t - время облучения при постоянной интенсивности. Показано, что величины р та а характеризуют взаимодействие со стеклом данного вида радиации, а величина N является структурной характеристикой стекла. [23]
![]() |
Лазеры на центрах окраски в ионных кристаллах. [24] |
Твердотельные лазеры на центрах окраски в ионных кристаллах обладают: широкой областью длин волн генерации 0 7 - 3 3 мкм, высокой стабильностью частоты и малой шириной генерируемого спектра, возможностью работы в импульсно-периодическом и непрерывном режимах, высоким КПД. [25]
В лазерах на центрах окраски активной средой являются ионные кристаллы. Накачка осуществляется оптическим способом - лазерным излучением. Такие лазеры применяются в научных исследованиях. [26]
![]() |
S. Кривые поглощения КС. - Sn и KBr - Sn. [27] |
Авторы полагают, что центры окраски представляют собой центры захвата электронов, включающие два ионаТ1, расположенные в соседних катионных узлах. [28]
В результате поглощения света центры окраски превращаются в коллоидные частицы щелочного металла. Этот процесс проходит через промежуточные стадии образования агрегатов и нуждается в достаточно высокой температуре, чтобы могла происходить диффузия вещества ( фиг. [29]
Из группы кристаллов с центрами окраски используются, с одной стороны, галогениды щелочных металлов, в которых под действием ультрафиолетового света или рентгеновских лучей образуются так называемые центры поглощения, с другой стороны, кристаллы типа флюорита и титаната стронция с примесями разных элементов, главным образом редкоземельных металлов. Эти кристаллы при нормальных условиях являются почти прозрачными, а под действием излучения вблизи границы видимого и ультрафиолетового света их поглощение увеличивается. [30]