Время - экспонирование
Cтраница 3
Для уменьшения времени экспонирования вплотную к пленке, с одной или двух сторон, прижимают усиливающие флюоресцирующие или свинцовые экраны. Усиливающие экраны несколько снижают четкость снимка. [31]
 |
Принцип оптического клина. [32] |
При увеличении времени экспонирования растет число ступеней, обнаруживающихся при проявлении, и таким образом можно визуально определять время экспонирования. [33]
 |
Изменения ширины ли-иий в зависимости от времени экспонирования фоторезиста SCR-5. А - область допустимых отклонений. [34] |
Для определения времени экспонирования можно использовать тест на разрешающую способность, в котором используется маска с серией клинообразно уменьшающихся по ширине линий и промежутков между ними. При проведении нескольких экспозиционных испытаний определяется время экспонирования, при котором достигается наибольшее разрешение. [35]
Для определения времени экспонирования в микроэлектронике используется мира, метод измерения ширины линий и клин оптических плотностей. [36]
С ростом зазора время экспонирования должно увеличиваться. [37]
Однако с уменьшением времени экспонирования эта задача усложняется. [38]
Этот метод позволяет корректировать время экспонирования в процессе каждодневной работы, если приблизительное время экспонирования известно из предыдущего измерения. [39]
Поэтому для определения величин времени экспонирования был взят новый вид номограмм со следующими данными: толщина просвечиваемого материала, интенсивность источника и расстояние от источника до фотопленки. [40]
 |
Зависимость дифракционной эффективности пространственной частоты для устройств типа Ruti-kon. [41] |
Дифракционная эффективность зависит от времени экспонирования, и характер зависимости различен для положительного и отрицательного зарядов поверхности эластомера. [42]
Малейшее движение регистрирующего материала во время экспонирования может заметно снизить дифракционную эффективность или даже привести к появлению темных полос поперек голограммы. Таким образом, главным требованием является устойчивое крепление материала во время экспозиции и стабильное изменение положения в случае интерферометрии. Методы крепления регистрирующих материалов с жесткой основой ( стекло) и регистрирующих материалов на гибкой основе ( пластиковая пленка) развивались независимо друг от друга. [43]
Если же давление производится во время экспонирования, то наблюдается уменьшение проявленной плотности ( фиг. [44]
 |
Примерные Значения кратности светофильтров. [45] |
Страницы: 1 2 3 4