Время - экспонирование
Cтраница 4
Рассмотрим влияние этих коэффициентов на время экспонирования на следующем примере. Фотографирование препарата проводится с помощью стандартной микрофотонасадки, входящей в комплект микроскопа МБИ-6, в проходящем свете. На пути световых лучей установлен светофильтр БС-8, кратность которого равна 1 при использовании негативной пленки Изопанхром-18. Объектив планахроматический 9X0 2; время экспонирования 4 с. Напряжение нити накала источника света и диаметр отверстия диафрагмы постоянны. Не меняя аппаратуры и препарата, изменим увеличение объектива, оптическую плотность светофильтра и чувствительность пленки. Для этого объектив 9X0 2 Заменим на объектив 20X0 40 той же системы. [46]
Положение переключателей Коэффициент пересчета, определяющее время экспонирования, зависит от типа пленки, срока ее хранения, способа зарядки кассеты. Поэтому перед началом работы с новой партией пленки или после ее длительного хранения должна быть проведена градуировка гам-ма-зкспонометра. Ее проводят при замене газоразрядного счетчика в детекторе, при изменении режимов фотообработки. [47]
При большой толщине регистрирующего слоя во время экспонирования происходит существенное поглощение света. Поэтому интенсивность как опорного, так и объектного пучков снижается по мере прохождения через толщу слоя. [48]
А / см2; t - время экспонирования, с; h - толщина экспонированного слоя рез иста, нм. [49]
Для обработки цветных отпечатков реле обеспечивает время экспонирования от 0 5 до 150 с и время обработки отпечатков в растворах 3 - 5 мин. [50]
Изменение давления воздуха в помещении во время экспонирования спектра также приводит к смещению интерференционных колен - к размазыванию, расширению регистрируемых спектральных линий. [51]
Механизм применяется для изменения выдержки ( времени экспонирования) в фотозатворах. [52]
Механизм применяется в фотозатворах для изменения времени экспонирования. [53]
Экспонометры для фотографии позволяют определять по освещенности время экспонирования ( выдержку), необходимое для получения световой экспозиции, обеспечивающей желательное почернение пленки. [54]
С-число треков от частицы, t - время экспонирования; К - постоянная для данного радиоактивного вещества. [55]
 |
Относительное распределение интенсивностей в спектре паров ртути и ксенона. [56] |
Основная цель повышения интенсивности освещения - сокращение времени экспонирования. Однако при постоянном значении общей дозы энергии H-Et результаты изменения Е и t, сточки зрения воспроизведения геометрии элементов, далеко неоднозначны. Так, на рис. Рис 5.3 зависимость Et от Е 5 - 3 необходимая доза энер - для негативных фоторезистов. [57]
Так как полимеры являются диэлектриками, то во время экспонирования на поверхности резиста образуется электрический заряд, осложняющий экспонирование. [58]
Контактное печатание - печатание, при котором во время экспонирования фотослои негатива и фотобумаги находятся в механическом контакте, а конечное позитивное изображение полу-яается по размеру равным негативному. [59]
Рассмотрим образование скрытого изображения при комнатной температуре во время экспонирования с весьма низкой освещенностью, когда скорость поглощения лучистой энергии такова, что каждый акт поглощения приводит к образованию электрона и дырки, захвату этих зарядов и движению иона серебра, нейтрализующему результирующий объемный заряд и восстанавливающему ловушки в их исходное состояние. В таких условиях можно принять, что электрон с наибольшей вероятностью захватывается на центре светочувствительности, расположенном либо на поверхности, либо внутри кристалла, и что, хотя дырка может быть захвачена тем же центром, она может также быть захвачена в другом месте. Две возможные причины низкой эффективности образования скрытого изображения заключаются в диффузии атомов серебра и брома после их образования. Диффузия атомов серебра была однозначно доказана в серии опытов Хед-жеса и автора. [60]
Страницы: 1 2 3 4