Генерирование - радикал
Cтраница 1
Генерирование радикала с помощью одноэлектронного переноса имеет место в некоторых реакциях ароматических диазосоедине-ний, идущих с выделением азота, нашедших широкое применение в препаративной органической химии. [1]
Генерирование радикала в ходе окислительного процесса, возможно, происходит при инициировании автоокисления бенз-альдегида ( см. разд. [2]
Генерирование радикала с помощью одноэлектронного переноса имеет место в некоторых реакциях ароматических диазосоедине-ний, идущих с выделением азота, нашедших широкое применение в препаративной органической химии. [3]
Генерирование радикалов происходит за счет свободных валентностей, присутствующих па поверхности катализатора или возникающих на поверхности в процессе реакции. [4]
Генерирование радикалов происходит за счет свободных валентностей, присутствующих а поверхности катализатора или возникающих на поверхности в процессе реакции. Согласно развиваемой точке зрения, в гетерогенном катализе мы имеем дело, как и в обычных цепных реакциях, с последовательностью элементарных актов, каждый из которых сопровождается разрывом лишь одной только связи и протекает при непосредственном участии свободных валентностей катализатора. [5]
 |
Групповые вклады для расчета энтальпии образования и энтальпии испарения органических пероксидов ( кДж / моль. [6] |
Генерирование радикалов с помощью пероксидов при термолизе тесно связано с проблемой прочности их О-О - и О - Н ( О-К) - связей. [7]
Для генерирования радикалов под действием УФ-света в композицию вводят различные добавки: карбонильные ( бензо-фенон) и сероорганические ( дибутилсульфид) соединения, пе-роксиды ( ди-грет-бутилпероксид), галогенсодержащие продукты ( СС14, СВг4, 2-нафталинсульфонилхлорид), карбонилы металлов ( марганца), различные фотовосстанавливаемые красители и восстановители ( акрифлавин, эозин, флуоресцеин с аскорбиновой кислотой) и др. Клеи предназначены для склеивания стекол и работоспособны до 150 С. [8]
Для генерирования радикалов под действием УФ-света в клеи вводят различные добавки, например карбонильные соединения, серусодержащие органические соединения и др. Отверждение под действием УФ-лучей проводят при более низких температурах, чем обычное термическое отверждение. Это является существенным преимуществом данного метода перед другими традиционными способами отверждения, поскольку, во-первых, снижаются энергетические затраты, а, во-вторых, устраняются проблемы, связанные с чувствительностью некоторых склеиваемых материалов к температуре. Кроме того, пропускная способность различных материалов по отношению к УФ-лучам различна, что приводит к неравномерному отверждению. Состав побочных продуктов, образующихся при УФ-отверждении клеев, а также степень их опасности пока не выяснены. [9]
Для генерирования необходимых радикалов было применено несколько методов, многие из них связаны с первоначальным образованием гидрокси - или метил-радикалов, которые затем отщепляют атом водорода или иода от подходящих субстратов. [10]
Для генерирования фосфорорганических радикалов применяют разнообразные химические и физические методы. Фотолиз особенно удобен для получения нестабильных радикалов в твердых матрицах. [11]
Примером генерирования радикалов при участии молекул 02 может служить процесс 02 Н2 2ОН, обладающий тепловым эффектом - 18 ккал и являющийся наименее эндотермическим из всех возможных процессов взаимодействия молекул Н2 и 02, включая процесс 02 Н2 Н02 - f - H, тепловой эффект которого составляет - 56 ккал. [12]
Механизм генерирования радикалов довольно основательно изучен на примере системы № [ Р ( ОС2Н5) з ] 4 - СС14, другие каталитические композиции этого типа нужно еще детально исследовать. [13]
Общая скорость генерирования радикалов определяется скоростью восстановления Ре3 в Ре2, поэтому в пром. [14]
Предложен механизм генерирования радикалов путем разложения гидроперекиси на поверхности твердого контакта с участием в этой стадии молекулы этилбензола. [15]
Страницы: 1 2 3 4