Плазменная головка
Cтраница 3
На рис. 64 показан разрез плазменной головки для ручной резки. Головка снабжается сменными медными каналами и соплами с различными размерами выходных отверстий. К головке по трубке 4 подводится газ, а по трубкам 5 охлаждающая вода. [31]
Легкая самоходная тележка, оснащенная плазменной головкой ИМЕТ-105: / - головка; 2 - лист; 3 - самоходная тележка. [32]
Схемы подключения плазменной головки: ИГ - плазменная головка; И - изделие; Af - манометр; Vp и Vd - ротаметры рабочего газа и газа дополнительной защиты; Лб - балластный реостат; А и V - амперметр и вольтметр; Е - источник питания; С С % и Сз - конденсаторы К - контактор; РП - реле промежуточное; Ос - осциллятор; LI и 1 2 -катушки колебательного контура осциллятора; Тр - трансформатор осциллятора; 1 и 3 - кнопки гашения и зажигания; Яр - предохранитель; Р - рубильник; В и Вг - вентили. [33]
Дуговой разряд возбуждается в узких выходных каналах плазменных головок - плазмотронах. Первая схема соответствует сварочной дуге прямого действия, возбуждаемой между электродом и обрабатываемым изделием. В этом случае изделие является токоведущим электродом. По второй схеме дуга возбуждается между независимыми электродами ( дуга косвенного действия), а обрабатываемое изделие в электрическую цепь не включено. Сжатую дугу, полученную по первой схеме, принято называть плазменной дугой, а по второй схеме - плазменной струей. Плазменно-дуговая резка заключается в проплавлении металла плазменной дугой по линии реза и удаления расплавленного металла струей плазмы, образующейся в дуге. [34]
Плазменная установка состоит из следующих основных узлов: плазменной головки, источника тока, пульта управления и контроля, системы циркуляции воды, системы питания порошков. Отечественная промышленность выпускает несколько типов плазменных установок, из которых наиболее пригодна для напыления порошковым методом установка УПУ-ЗМ. Особое значение для высокопроизводительной работы установок и получения качественных покрытий имеет конструкция плазменной головки, надежность системы питания порошком и, разумеется, выбор оптимального энергетического режима плазменного потока. [35]
Факторами, связанными с подачей материала в сопло плазменной головки, являются: тип питателя, скорость подачи порошка в транспортирующий газ, тип и расход транспортирующего газа, место и угол входа порошка в плазменный поток. [36]
 |
Схема сжатой дуги. [37] |
В обеих схемах дуговой-разряд возбуждается в узких каналах плазменных головок ( плазмотронов), которые позволяют при сравнительно небольших расходах плазмообразующей среды получать весьма значительные скорости потоков плазмы. [38]
Скорость резки зависит от толщины разрезаемого металла, параметров плазменной головки и режима резки. [39]
Скорость резки зависит от толщины разрезаемого металла, параметров плазменной головки, тока и напряжения. [40]
 |
Схема плазменной головки. [41] |
В общем виде установка для плазменного напыления состоит из плазменной головки, блока электрического питания, блока газового питания, водоохлаждающего устройства и устройства, обеспечивающего дозировку и подачу материалов для покрытия в потоке плазмы. [42]
Скорость резки зависит от толщины разрезаемого металла, параметров плазменной головки и режима резки ( фиг. [43]
Энергетические характеристики плазменного потока определяются мощностью, подводимой к плазменной головке, видом плазмообразующего газа, его расходом, геометрическими размерами факела плазмы. Температура плазмы и ее теплосодержание взаимосвязанны, но более важной характеристикой является теплосодержание, так как температура плазмы всегда выше точки плавления используемых для напыления материалов. Теоретический расчет теплосодержания может быть проведен, исходя из подводимой к горелке мощности и расхода плазмообразующего газа. Однако практическая величина теплосодержания всегда ниже и зависит от расхода рабочего газа и мощности потерь на охлаждение сопла. [44]
Пятно может передвигаться по поверхности электродов вследствие нестабильности работы питающих плазменную головку устройств: источника тока и систем питания плазмо-образующим газом. Этой нестабильности часто бывает достаточно для движения пятна и значительного снижения эрозии электродов. В тех случаях, когда электроды находятся в особо сложных температурных условиях, необходимо искусственно создать вращение шнура разряда, а вместе с ним анодного и катодного пятен. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5