Cтраница 3
Этот процесс может продолжаться непрерывно до тех пор, пока не будет удалено 90 4 % первоначального содержания поверхностных гидроксильных групп. Оставшиеся 9 6 % изолированных гидроксильных групп могут быть удалены миграцией по поверхности при высоких температурах, поскольку для реакции с выделением молекул воды гидроксильные группы должны занимать соседние положения в решетке. [31]
Можно привести много примеров, в которых низкочастотная полоса поглощения, обусловленная связанными гидроксильными группами, удалялась из спектра вакуумированием при повышенных температурах раньше, чем высокочастотная полоса поглощения, принадлежащая изолированным гидроксильным группам. Например, Макдональд показал, что изолированные гидроксильные группы труднее удаляются в процессе вакуумирования. [32]
О молекулярной адсорбции воды на поверхности свидетельствуют результаты всех работ по исследованию спектров молекул воды, адсорбированных окисью алюминия. Однако в работах [11, 15, 16] принимается, что молекулярной адсорбции воды на дегидроксилированной окиси алюминия предшествует диссоциативная адсорбция молекул воды с образованием поверхностных гидроксильных групп. В работе [1] отмечается, что не все изолированные гидроксильные группы окиси алюминия вступают во взаимодействие с адсорбированными молекулами воды. [33]
После деалюминирования цеолитов интенсивности полос 3650 и 3550 см - уменьшаются. В спектрах деалюминированных цеолитов появляется также полоса 3745 см -, которая типична для валентных колебаний изолированных гидроксильных групп Si-ОН. [34]
В работе [ 86а ] сделан вывод о том, что связанные гидроксильные группы полностью удаляются при повышении температуры обработки кремнезема до 500 С. Концентрация же свободных гидроксильных групп остается постоянной при обработке до 600 С. На основании результатов исследования теплот ад-еорбции на аэ-росиле делается вывод [866], что при температурах обработки аэросила выше 800 С на поверхности остаются только изолированные гидроксильные группы. [35]
Было установлено, что силикагель отличается от цеолита прежде всего наличием развитого гидроксильного покрова. Обезвоженный цеолит дает слабый сигнал протонного резонанса, а силикагель - довольно интенсивный сигнал. Ширина этого сигнала не зависит от температуры и определяется существованием ОН-групп и геометрией их расположения на поверхности силикагеля. На основании анализа формы линии сделан вывод о том, что она состоит из трех гауссовых компонент. Расчеты вторых моментов и сравнение с данными эксперимента привели к заключению о существовании на поверхности силикагеля трех типов силанольных участков: изолированных гидроксильных групп, изолированных парных гидро-ксильных групп, наконец, ОН-групп, имеющих два или большее число соседей. [36]