Водородный комплекс
Cтраница 2
Предположение о структуре с четырехчленными циклами позволяет объяснить не только причину существования и устойчивости водородных комплексов, но и другие особенности комплексо-образования фосфорорганических комплексонов. Так, повышенная устойчивость комплексов фосфорсодержащих комплексонов с Си2 и редкоземельными элементами, возможно, связана именно с образованием таких упрочненных дополнительными циклами структур. [16]
 |
Зависимость устойчивости комплексов ( lg К кислот от порядкового номера редкоземельных элементов. [17] |
Для комплексона с гетероатомами азота характерно образование с элементами иттриевой подгруппы, начиная с гольмия водородных комплексов разной степени протонизации. [18]
ЭДТА образует с кальцием нормальные комплексы CaY2 - ( Jg / fcaY - 10 96), водородные комплексы CaHY, гидроксокомплек-сы CaY ( OH) 3 и смешанные комплексы типа CaYX -, где X - одновалентный лигаид. Образование высших комплексов не наблюдается. [19]
Подобно тому как ранее был введен коэффициент распределения, характеризующий, согласно уравнению ( 17а), водородные комплексы хелатообразующего вещества Zx -, в данном случае можно ввести коэффициент распределения РА, описывающий комплексы иона металла Mv со вспомогательным комплексообразую-щим веществом А. [20]
Натриевые соли цинкового и медного комплексов ОПДТА NaaZnL - 2H20 и Na2CuL - 4H20 были получены прибавлением к растворам соответствующих водородных комплексов двух эквивалентов щелочи до рН 5 с последующим выделением препаратов путем упаривания и кристаллизации. [21]
Натриевые соли цинкового и медного комплексов ОПДТА Na2ZnL - 2H20 и Na2CuL - 4H20 были получены прибавлением к растворам соответствующих водородных комплексов двух эквивалентов щелочи до рН 5 с последующим выделением препаратов путем упаривания и кристаллизации. [22]
Для интенсивной адсорбции О2 на поверхности элементарного полупроводника необходимо присутствие некоторого количества водорода ( например, в виде водяного пара), что может свидетельствовать о роли водородных комплексов в этом процессе. Если кислород адсорбируется на поверхности ( 111), предварительно покрытой атомарным водородом, то кинетика адсорбции О2 позволяет количественно выявить роль в адсорбции О2 предварительно адсорбированных атомов водорода. Предполагается [1], что предварительно адсорбированный водород скрывается под поверхностью ( 111) германия, а не удерживается на его поверхности ковалент-ной связью. Сопоставление этих результатов с данными по влиянию водорода на электропроводность и знак носителей заряда в пленках Ge указывают на существование на поверхности германия атомов водорода в виде г и s - атомов. [23]
Исходя из этого, можно отметить, что последовательность в изменении прочности водородных и нормальных комплексов различна. Для водородных комплексов характерна последовательность HA1Y HGaY HInY, для нормальных - A1Y GaY InY, что свидетельствует о разном сродстве этих элементов к кислороду и азоту. [24]
Исходя из этого, можно отметить, что последовательность в изменении прочности водородных и нормальных комплексов различна. Для водородных комплексов характерна последовательность HA1Y HGaY HInY, для нормальных - A1Y GaY InY, что свидетельствует о разном сродстве этих элементов к кислороду и азоту. Для всех этих элементов, и особенно для алюминия, характерно образование полиядерных гидроксокомплексов. [25]
Представляет интерес комплексообразование с уранилом. Прочность его водородных комплексов с фосфорилированными полиаминами очень высока. Повышению избирательности по отношению к РЗЭ и уранилу способствует увеличение жесткости полиметиленозой цепи, соединяющей иминоалкпл-фосфоновые группировки. [26]
Кроме того, специфика поведения исследуемых соединений может быть использована также в аналитической практике и технологии. Так, высокая прочность водородных комплексов позволяет использовать эти комплексоны при работе в сравнительно кислой области. Большая разница в константах устойчивости комплексонатов меди и любого другого металла группы железа создает благоприятные условия для ее отделения от этих элементов. [27]
Устойчивые комплексы с фосфорилированными производными полиаминов образуют легкогидролизующиеся элементы: Fe, Al, In, Ga, Ti, РЗЭ. Примечательна высокая прочность их водородных комплексов, в ряде случаев превосходящая прочность нормальных комплексов соответствующих амино-карбоиовых кислот. Все эти катионы образуют два типа комплексов: малорастворимые полиядерные соединения и растворимые монопротонированные, или нормальные комплексы. Такое существование в комплексах как бы диспропорционированной молекулы воды, вероятно, вообще свойственно соединениям легкогидролизующихся катионов. [28]
Щелочноземельные элементы образуют с ЭДОФГ весьма слабые комплексы, потенциометрическое исследование которых затруднено одновременными реакциями нейтрализации лиганда. При взаимодействии ЭДОФГ с катионами переходных металлов первоначально образуется водородный комплекс MeH2L, в котором фенольные группы не диссоциированы. [29]
В работе Кузьменко [61] показано образование комплексов типа HLnX ( где Ln - La, Ce, Nd) и ЬщХ3 с ГМДТА. Увеличение центрального цикла комплексов приводит к уменьшению прочности нормальных комплексов и незначительному уменьшению прочности водородных комплексов для щелочноземельных металлов. [30]
Страницы: 1 2 3