Концентрация - носитель - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Правила Гольденштерна. Всегда нанимай богатого адвоката. Никогда не покупай у богатого продавца. Законы Мерфи (еще...)

Концентрация - носитель

Cтраница 1


Концентрация носителей в коллекторной области несколько меньше, чем в области эмиттера, но значительно больше, чем в области базы: ркрэ, РК Б - Вследствие этого с ростом отрицательного напряжения t / KB расширяется коллекторный переход и соответственно сужается база, благодаря чему уменьшается риск пробоя перехода, но повышается вероятность пробоя базы - прокол базы. Эффект сужения базы называется модуляцией базы.  [1]

2 Схема ионно. [2]

Концентрации носителей пир также определяются ф-лой ( 5), но с другим значением Ер. Ер расположен ближе к Ес л в дырочном - к Еу. Ер, то оно не зависит от содержания примесей.  [3]

Концентрация носителей в пленках с га-проводимостью равна 1017 см-3 и приблизительно соответствует уровню легирования материала источника; это означает, что при распылении материал переносится без изменения состава. Подвижность носителей в пленках при 77 К составляет 1930 см2 / в-сек и тоже имеет величину как у соответствующих массивных кристаллов.  [4]

Концентрация носителей является функцией времени и координат.  [5]

Концентрация носителей на поверхности полупроводникового кристалла существенно зависит от концентрации адсорбированных в окисной пленке молекул окислителей или восстановителей, кислот или оснований, а также молекул воды и других полярных веществ. При этом молекулы кислот и окислителей увеличивают концентрацию дырок, а молекулы восстановителей, оснований, воды и других полярных веществ обогащают поверхность полупроводника электронами.  [6]

Концентрация носителей на поверхности кристаллов, выдержанных или прогретых в атмосфере сухого воздуха, близка к собственной.  [7]

8 Изображение р-п перехода с инверсионным слоем п типа. Наверху дан график падения обратного напряжения по длине инверсионного слоя. Стрелками показано направление обратного тока через рабочую часть инверсионного слоя. [8]

Концентрация носителей и скорость рекомбинации на поверхности кристалла должны иметь такие значения, которые обеспечивали бы оптимальные параметры полупроводникового прибора, а именно: низкий уровень обратных токов, высокие пробивные напряжения и большие коэффициенты усиления. Отсюда следует, что окружающая прибор атмосфера должна иметь не только постоянный, но и вполне определенный химический состав. В связи с этим рассмотрим влияние адсорбированных в окис-ной пленке молекул на перечисленные выше параметры.  [9]

Концентрации носителей в приповерхностном слое меньше равновесных; соответственно меняются знак объемного заряда, направление полей, а также направления потоков носителей.  [10]

11 Схема ионного двигателя с объемной ионизацией конструкции Г. Кауфмана. 1 - катод газоразрядной камеры. 2-анод. 3 - магнитная катушка. 4-эмитирующий электрод. 5 - ускоржо-щий электрод. 6-внешний электрод. 1-нейтрализатор. [11]

Концентрация носителей в металлах отлична от нуля даже при абс.  [12]

Концентрация носителей для нижней кривой составляет 2 3 10 м - Верхние кривые соответствуют чистым образцам.  [13]

Концентрация носителей близка к собственной, Г300 К.  [14]

Концентрация носителей на границе р - - перехода определяется напряжением V0, приложенным к р - - переходу.  [15]



Страницы:      1    2    3    4    5