Ионный луч

Cтраница 3

На рис. 2.7 приведена зависимость Dr от угла отклонения ионного луча в магнитном поле. [31]

Наибольшую разрешающую способность имеют статические масс-спектрометры с магнитным разделением ионного луча. [32]

Вид записи при периодической магнитной развертке. [33]

Дальнейшая подготовка заключается в установлении рабочих интенсивностей и проверке стабильности ионного луча. [34]

Наиболее важными факторами, влияющими на чувствительность, являются интенсивность ионного луча, разрешающая способность и условия вакуума анализатора. Максимально достигаемая экспозиция равна 10 - б кул, что позволяет получить относительную чувствительность - п - Ю 7 ат. Абсолютная чувствительность метода достигает 10 11 - 10 - 12 г, поэтому на проведение анализа с предельной чувствительностью расходуется всего несколько миллиграммов вещества. [35]

Влияние объемного заряда [1713] сказывается в изменении положения, при котором ионный луч попадает в фокус первого порядка. Это влияние должно быть учтено при получении наиболее высокого разрешения. [36]

Схема масс-спектрометра Демпстера. [37]

В отличие от масс-спектрографа Астона, в масс-спектрометре Демпстера осуществляется фокусировка ионного луча по направлению, а не по скоростям. [38]

Молекулярный пучок, выходящий из испарителя, направлен вдоль оси источника соосно ионному лучу и перпендикулярно к электронному лучу. [39]

В фокальной плоскости первого анализатора расположена щель переменной ширины для управления ионным лучом, поступающим во второй анализатор. [40]

Локальное внедрение ионов может быть осуществлено и без з-ащитной маски узкосфокусированным ионным лучом, управляемым по заданной программе. [41]

Масс-анализатор обычно представляет собой гнутую металлическую трубу, по форме повторяющую траекторию центрального ионного луча или равновесную траекторию ионнооптической системы в случае неоднородного магнитного поля. Под полюсными наконечниками отклоняющего магнита труба сплюснута. [42]

Один из методов ионной литографии аналогичен рентгенолитографии и основан на облучении коллимированным ионным лучом шаблона, находящегося на небольшом расстоянии от покрытой резистом подложки. [43]

Если ионный пучок малораспространенного изотопа попадает на коллектор через широкую щель, а ионный луч, соответствующий распространенному изотопу, - через щель, отсекающую некоторую часть пика, то при увеличении интенсивности будет наблюдаться изменение отношения ионных токов, и на самописце произойдет сдвиг фиксируемой линии. [44]

Установлено, что интенсивности линий в масс-спектрах К вазидвухзарядных ионов лактамов при дефокусировке основного ионного луча составляют - 1 10 - 2 % от интенсивности линий обычного масс-спектра. [45]

Страницы: 1 2 3 4