Cтраница 4
Как показано на рис. 6.8, плоскость отражения ( / г / г /) делит угол 28 пополам. Обычно дифрагированный луч получают, устанавливая кристалл в этом положении. Существует несколько способов измерения интенсивности дифрагированного луча. Обычные методы заключаются в том, что вначале углы гониометра устанавливают такими, что нормаль к плоскости ( / г / г /) является биссектрисой утла между падающими и дифрагированными лучами. Затем для регистрации дифрагированного луча кристалл сканируется в окрестностях положения Брэгга. [46]
Описанная методика уже в рамках представлений о мозаичной структуре кристаллитов имеет недостаток: она не учитывает эффект вторичной экстинкции. Видно, что дифрагированный луч от одного блока в пределах того же кристаллита встречает одинаково ориентированный другой блок и испытывает повторное отражение. [47]
![]() |
Схема акустооптиче-ского дефлектора. J - аку-стооитическаа ячейка. 2 - излучатель ультразвука. 3 - фотоприсмное устройство. р - максимальное угловое перемещение луча. [48] |
Использование частотно-модулированных звуковых сигналов ( см. Модуляция колебании) позволяет управлять направлением светового луча. Чтобы изменить направление дифрагированного луча при неизменном угле падения света на АОЯ, необходимо одновременно с частотой менять и направление распространения звуковой волны, так чтобы условно Брэгга выполнялось повсюду внутри интервала А / звуковых частот - т.н. полосы пропускания дефлектора. [49]
![]() |
Схема съемки ( а и воспроизведения ( б гологрзфического фильма методом большой линзы. [50] |
Размер рассеивающего элемента пластинки должен быть очень малым, меньше зрачка человеческого глаза, чтобы зритель не замечал структуру пластинки, а для достижения высокой резкости изображения необходимо, чтобы точность падения дифрагированных лучей на пластинку была очень высокой. Цель, в которую должен попасть дифрагированный луч, должна быть в сотни раз меньше, чем рассеивающий элемент. Для большой аудитории это означает, что аберрации восстановленных лучей должны быть меньше угловой секунды, что на практике достигнуть невозможно. [51]
В светлопольном изображении кристаллической пленки брэгговские пучки обычно отсекаются диафрагмой; следовательно, интенсивность изображения маленького элемента пленки определяетея интенсивностью проходящего пучка на выходной поверхности этого элемента. Подобно этому в темнопольном изображении интенсивность определяется интенсивностью того дифрагированного луча, который может пройти через диафрагму. Уравнение ( 13) связывает интенсивность отражения кристалла с толщиной t и параметром 5афф, учитывающим локальную ориентацию и экстинкционное расстояние. Поля напряжений и дефекты, такие как дефекты упаковки, могут привести к изменению параметра 53фф одного элемента пленки по отношению к соседнему и, таким образом, к локальному изменению отраженных и трансэмиссионных интенсивностей. Контраст, который вызывается такими пространственными изменениями условий дифракции, носит название дифракционного контраста и будет обсуждаться в дальнейшем, в разд. [52]
Необходимо отметить существенное различие между дифракцией света, падающего на плоскую дифракционную решетку, и дифракцией рентгеновских лучей в трехмерном кристалле. В первом случае угол падения не равен углу, под которым выходит дифрагированный луч. В оптике устанавливается связь между этими двумя углами, длиной световой волны Я, и расстоянием между соседними штрихами дифракционной решетки. Поэтому условие наилучшего отражения, по Вульфу - Брэггу, связывает угол падения с длиной волны и расстоянием между соседними параллельными отражающими плоскостями, при этом совершенно не учитывается расположение атомов в отражающей плоскости. [53]
Если мы сможем увидеть такую дифракционную картину и измерить углы 2в между дифрагированными лучами и падающим пучком, то с помощью построения, аналогичного приведенному на рис. 3.8, можно определить поверхностную элементарную ячейку. На рис. 3.8 ддя простоты показан случая квадратной решетки. [54]
Направление и интенсивность лучей, возникающих при дифракции, регистрируют счетчиком рентгеновских квантов или фотографическим способом. При фотографическом способе регистрации на специальной рентгеновской пленке в месте попадания па нее дифрагированного луча возникает ( на негативе) почернение - рефлекс Положение рефлекса на рентгенограмме характеризует направление дифрагированного луча; степень почернения определяется интенсивностью луча. Для расчета направлений дифрагированных лучей применяют уравнение Вульфа - Брэгга. [55]
Направление и интенсивность лучей, возникающих при дифракции, регистрируют счетчиком рентгеновских квантов или фотографическим способом. При фотографическом способе регистрации на специальной рентгеновской пленке в месте попадания па нее дифрагированного луча возникает ( на негативе) почернение - рефлекс Положение рефлекса па рентгенограмме характеризует направление дифрагированного луча; степень почернения определяется интенсивностью луча. Для расчета направлений дифрагированных лучей применяют уравнение Вульфа - Брэгга. [56]
Практически центрирование отражения заключается в регулировании инструментальных углов таким образом, чтобы в результате дифрагированный луч проходил через центр отверстия детектора. [57]
Направление и интенсивность лучей, возникающих при дифракции, регистрируют счетчиком рентгеновских квантов или фотографическим способом. При фотографическом способе регистрации на специальной рентгеновской пленке в месте попадания - на нее дифрагированного луча возникает ( на негативе) почернение - рефлекс. Положение рефлекса на рентгенограмме характеризует направление дифрагированного луча; степень почернения рефлекса определяется интенсивностью луча. Для расчета направлений дифрагированных лучей применяют уравнение Вульфа-Брэгга. [58]
Если сфера Эвальда пройдет через другой узел А обратной решетки, то направление СА есть возможное направление дифрагированного луча данной падающей волны. [59]
Поэтому S - S0 / K gHKL, т.е. для реализации дифракции необходимо, чтобы разность единичных векторов падающего и дифрагированного луча, нормированная к длине волны, была равна радиус-вектору обратной решетки для соответствующего этой дифракции узла. Это обстоятельство восстанавливает для явления дифракции абсолютную систематическую периодическую повторяемость пространства кристалла при изображении его в обратном пространстве. [60]