Исходный полупроводниковый материал - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 3
Коэффициент интеллектуального развития коллектива равен низшему коэффициенту участника коллектива, поделенному на количество членов коллектива. Законы Мерфи (еще...)

Исходный полупроводниковый материал

Cтраница 3


Первый элемент-буква или цифра обозначает исходный полупроводниковый материал: Г или 1-германий и его соединения; К или 2 - кремний и его соединения; А или 3 - соединения галлия.  [31]

По этой причине важным свойством исходного полупроводникового материала таких приборов является его радиационная стойкость.  [32]

Первый элемент обозначения полупроводниковых приборов определяет исходный полупроводниковый материал, из которого изготовлен прибор.  [33]

Предотвратить загрязнение особо чистых веществ и исходных полупроводниковых материалов в период с момента их получения до использования в производстве представляет гораздо более трудную задачу, чем достижение первоначальной чистоты. Это связано с тем, что исключить контакт вещества с окружающей средой ( материал контейнера и аппаратуры, атмосфера, реагенты и др.) невозможно. Поэтому в технологии полупроводниковых материалов используют контейнерные материалы, обладающие высокой чистотой и инертностью ( нержавеющая сталь, графит, кварц, фторопласт и др.), высокочистые реактивы ( кислоты, щелочи, органические соединения и др.), газы и воду.  [34]

Вместе с тем, значения электрофизических характеристик исходных полупроводниковых материалов в процессе изготовления полупроводниковых приборов нередко претерпевают значительные изменения в результате термообработки, диффузии примесей и других причин.  [35]

36 Диаграммы, характеризующие тепловую устойчивость транзистора. [36]

Существует два типа силовых транзисторов, различающихся исходным полупроводниковым материалом: германиевые и кремниевые.  [37]

Первый элемент - буква или цифра - обозначает исходный полупроводниковый материал: Г или 1-германий, К или 2 - кремний, А или 3-арсенид галлия.  [38]

Общей чертой всех рассмотренных дефектов, содержащихся в исходном полупроводниковом материале, является то, что при прочих равных условиях вероятность их нахождения в полупроводниковой структуре пропорциональна площади структуры, поэтому снижение общего уровня подобных дефектов в монокристаллах полупроводника способствует увеличению площади транзисторных структур.  [39]

При изготовлении транзисторов по единой технологии в силу разброса электрофизических параметров исходных полупроводниковых материалов, разброса технологических режимов и наличия большого числа случайных факторов изготавливаемые транзисторы, как правило, имеют существенный разброс основных параметров. Поэтому транзисторы классифицируются ( подразделяются на группы) по интервальным значениям параметров или их сочетанию. Параметры, по которым производится такое подразделение, называются классификационными. Система классификационных параметров может быть различной для транзисторов различных функциональных назначений. ГР - аналог ил ( см. § 2.2.4) ( или другие предельно допустимые напряжения), коэффициент передачи тока базы для большого / i2iэ и малого Л2 Э сигналов, постоянный обратный ток коллектора / КБО при разомкнутой цепи база - эмиттер.  [40]

41 Структура точечного. [41]

Для получения достаточно больших значений пробивного напряжения p - n - перехода исходный полупроводниковый материал должен иметь большое удельное сопротивление. Но при этом будет велико и сопротивление растекания ( сопротивление базы точечного диода), что приведет к увеличению прямого напряжения на диоде.  [42]

В основу системы обозначений положен буквенно-цифровой код, первый элемент которого обозначает исходный полупроводниковый материал, на основе которого изготовлен прибор. Четвертый элемент - число, обозначающее порядковый номер разработки технологического типа прибора, пятый элемент - буква, условно определяет классификацию по параметрам приборов, изготовленных по единой технологии.  [43]

В основу системы обозначения положен буквенно-цифровой код, первый элемент которого обозначает исходный полупроводниковый материал, на основе которого изготовлен транзистор.  [44]

В основу системы обозначений положен буквенно-цифровой код, первый элемент которого обозначает исходный полупроводниковый материал, на основе которого изготовлен прибор. Четвертый элемент - число, обозначающее порядковый номер разработки технологического типа прибора, пятый элемент - буква, условно определяет классификацию по параметрам приборов, изготовленных по единой технологии.  [45]



Страницы:      1    2    3    4