Очищенный материал

Cтраница 3

Отделяя концы слитка, в которых накапливаются примеси, и проводя снова плавку и направленную кристаллизацию, можно провести дальнейшую очистку. Однако такой процесс дает малый выход очищенного материала и занимает много времени. Поэтому способ направленной кристаллизации применяют только для предварительной очистки германия после восстановления. Дальнейшую очистку производят методом зонной плавки. [31]

Предельное распределение примеси при зонной плавке. [32]

Эффективность первых проходов расплавленной зоны возрастает при увеличении ее длины, так как, чем больше объем расплава, тем медленнее наступает его насыщение оттесненными примесями. Однако при этом объем загрязненной части также возрастает и общий выход очищенного материала снижается. От выбора длины расплавленной зоны, определения числа проходов и своевременного удаления загрязненного конца слитка зависит наибольшая эффективность зонной очистки. [33]

Некоторые характеристики препаративной. [34]

При определении степени необходимой чистоты в препаративной ЖХ следует иметь в виду окончательное использование очищенного материала. [35]

Предельное распределение примеси по длине слитка после многократной зонной плавки при различном коэффициенте распределения. [36]

Увеличение длины зоны также ускоряет достижение предельного распределения. Но само предельное распределение с увеличением длины зоны значительно ухудшается: уменьшаются степень очистки и выход очищенного материала. Поэтому на практике рекомендуется первые проходы делать с длинной зоной, а последующие - с короткой. [37]

Ряд исследователей показали, что эффективность зонной плавки может быть повышена путем изменения длины зоны к процессе проведения очистки. Так увеличение относительной длины зоны при первых проходах приводит к повышению не только степени очистки, но и выхода очищенного материала. [38]

Таким образом, только небольшие куски стекла просеиваются через решетку. Лопатки 3 ритмично поднимают и сбрасывают массу, остающуюся в грохоте, при этом стекло разрушается и постепенно превращается в очищенный материал для переработки. [39]

Расчетные зависимости относительных. концентраций С / С0 очищенного ( а и загрязненного ( б материалов от числа проходов зоны при различных значениях коэффициентов распределения для односекцион-ного аппарата непрерывной зонной перекристаллизации. [40]

Одно из отличий этого процесса от обычной зонной перекристаллизации заключается в том, что отбор материала, содержащего минимальное ( очищенный материал) и максимальное ( загрязненный материал) количества второго компонента проводят при каждом зонном проходе. [41]

Температурная зависимость подвижности в образцах арсенида галлия. [42]

Требования по этим параметрам к материалу предъявляются высокие. Так, подвижность электронов должна составлять ( 4 - 8) 103 см2 / в-сек при комнатных температурах, что достижимо только для хорошо очищенного материала. [43]

Существующие трудности имели не принципиальный, а скорее экспериментальный характер. Действительно, вслед за первыми сообщениями Вудварда и Эшенмозера об успешном использовании современной техники препаративной ЖХ многие исследователи стали применять этот мощный метод быстрого выделения очищенных материалов для их получения и различного дальнейшего использования. В этой главе мы обсудим пути эффективного использования ЖХ для выделения, обогащения и очистки компонентов интересующих образцов. [44]

В настоящее время теллур в США и Канаде производят шесть компаний. В прошлом производство теллура превышало его продажу, что привело к созданию резервного запаса на I января 1960 г. приблизительно 360 т теллура в виде сырья и 45 т в виде очищенного материала. [45]

Страницы: 1 2 3 4 5