Очищенный материал

Cтраница 4

Для набивки колонки используют силикагель марки Мерк ( 0 05 - 0 3 мм), обработанный соляной кислотой в течение 12 часов, затем трижды нейтральной дистиллированной водой. От избытка воды освобождаются промыванием метанолом и просушиванием при 120 в течение 12 часов. Очищенный материал в количестве 35 г смешивают с7г 50 % раствора нитрата серебра при встряхивании в течение 5 минут и сушат при 120 в течение 4 часов. [46]

Схема электростатического отделения металлов J122 ]. [47]

На рис. 6.6 показана установка для подготовки комбинированных пленок полистирол-алюминий. Алюминиевые пленки отделяют сначала в электростатическом, а затем в электромагнитном отделителях металлов. В очищенный материал могут быть добавлены красящие концентраты и другие ингредиенты. Материал к экструдеру подают с помощью нагнетательного устройства. [48]

Нам удалось изолировать из фотоеинтезирующих водорослей, после удаления фосфата, чистую, меченную С1 глицериновую кислоту, которая с полной определенностью идентифицирована по ряду ее производных. Такой частично очищенный материал эстерифицировался при помощи бромидов л - фенилфенацила и п-бромфенацила, а полученные эфиры очищались затем последовательной адсорбцией на колонках с кремниевой кислотой. Для проверки структуры эфира / г-фенил фенацила последний окислялся при помощи йодной кислоты; при этом было найдено, как и предполагалось, что на 1 моль эфира приходился 1 моль смежных гидроксилов. Позднее метод разделения на ионно-обменных адсорбентах был улучшен до такой степени, что можно было приготовить аналитически чистый образец глицерата бария. [49]

На рис. 37 показано распределение концентрации компонента в твердой фазе после одного прохода расплавленной зоны. Выход очищенного материала, который определяется крутизной подъема кривой распределения, тем меньше, чем уже расплавленная зона, причем выход материала в этом случае всегда меньше, чем при нормальной направленной кристаллизации. [50]

Очищенный материал имеет концентрацию предельного распределения ( см. гл. Тем самым исключается влияние на состав очищенного материала таких факторов, как число проходов зоны и неравномерность распределения компонентов. Этот метод представляет интерес для физико-химических исследований и в особенности для приготовления эталонов сверхчистых веществ, так как он обеспечивает высокую чистоту и высокую однородность состава получаемых образцов. [51]

Характеристика испытаний по очистке системы. [52]

Для удаления большого количества примесей из вещества дробная кристаллизация из расплава не может гарантировать больших успехов. Прежде всего для этого потребуется бесконечное число стадий перекристаллизации, а в конце процесса будет получено очень мало чистого вещества. Высокие степени очистки в сочетании с высоким выходом очищенного материала могут быть достигнуты с помощью процесса, известного под названием зонная плавка или зонная очистка. [53]

Предельное распределение примеси по длине слитка после многократной зонной плавки при различных коэффициентах распределения. [54]

Как видно из уравнений ( 15) - ( 19), длина зоны является важным параметром, от которого зависит распределение примесей, необходимое число проходов и другие показатели процесса очистки. Увеличение длины зоны также ускоряет достижение предельного распределения. Но само предельное распределение с увеличением длины зоны значительно ухудшается - уменьшается степень очистки и выход очищенного материала. Поэтому на практике рекомендуется первые проходы делать с применением длинной зоны, а последующие - короткой зоны. [55]

Изоляция клапанов турбогенераторов и фланцевых крышек паровых турбин ватой из каовула.| Схема центробежного аппарата для получения тугоплавких волокон фирмы Джонс Мэнвил Корпорейшн. [56]

Важным фактором, влияющим на теплозащитные свойства волокнистого материала, являются отдельные неволокнистые включения, образующиеся в процессе получения волокон. В случае коротковолокнистой массы эти включения легко удаляются обычным просеиванием, однако при получении длинноволокнистой массы процесс удаления этих включений затрудняется. Фирмой Джонс Мэнвил Корпорейшн разработаны способ и оборудование29 для разрыхления спутанной длинноволокнистой массы, удаления неволокнистых включений и переработки очищенного материала в маты. Волокнистый материал по специальному коническому лотку подается скоростным потоком жидкости к перегородке. [57]

Так как многие неорганические лиганды образуют слабые комплексы, то могут потребоваться высокие концентрации лиганда. В исследованиях такого типа часто используются растворы с концентрациями ЗМ или 4М по ионам натрия или перхлората. Однако не всегда удобно использовать высокую концентрацию солевой среды; при этом важными факторами являются стоимость и время приготовления больших количеств высоко очищенного материала. Кроме того, иногда требуется экстраполировать значения стехиометриче-ских констант, измеренных при нескольких значениях ионной среды к бесконечному разбавлению, чтобы получить значения термодинамических констант устойчивости ( см. гл. В); в таких случаях концентрацию фонового электролита целесообразно поддерживать по возможности более низкой при условии соответствующего контроля коэффициентов активности. [58]

В масс-спектре изотопы проявляются не только в тех концентрациях, которые отвечают их природному содержанию; с помощью масс-спектра можно легко обнаружить любой их избыток. В прошлом количество искусственно введенного изотопа определяли всегда после разложения исследуемого соединения до таких низкомолекулярных продуктов, как вода, азот и двуокись углерода, которые затем анализировали масс-спектрометрически, или измеряя их плотности. Эти методики при достаточно тщательном их проведении дают очень точные результаты; однако они требуют продолжительного времени для подготовки пробы, относительно большого количества тщательно очищенного материала, а главное - позволяют узнать только усредненный изотопный состав исследуемого вещества. [59]

Предварительно строят кривые зависимости концентраций очищенного и загрязненного материалов от числа проходов зоны п для различных значений К. Установившийся режим ( предельное распределение) достигается тем быстрее, чем меньше К. Кроме того, этот режим быстрее достигается для загрязненного материала. Вместе с тем состав очищенного материала в значительно большей мере зависит от коэффициента распределения, чем состав загрязненного материала. [60]

Страницы: 1 2 3 4 5