Испаряемый материал

Cтраница 2

Для соблюдения на подложке стехиометрии испаряемого материала должно выполняться условие соответствия массы испаряемой частицы порошка количеству материала, необходимого для получения нескольких монослоев на подложке. В-этом случае не имеет значения неодновременность попадания на подложку различных атомов. Скорость подачи испаряемого материала должна быть равна или меньше скорости испарения, в этом случае материал не скапливается на испарителе. Метод требует визуального контроля процесса испарения. [16]

Источники ухудшения вакуума в камере в момент испарения. [17]

Примеси могут находиться на поверхности испаряемого материала. Поэтому необходимо применять заслонку, закрывающую подложку в начальный период испарения. Значительно влияет на состав остаточной атмосферы под колпаком камеры способ откачки и работа насосов. [18]

Поскольку при вакуумном напылении перенос испаряемого материала осуществляется молекулярным потоком, рассмотрим необходимые условия, обеспечивающие заданную плотность этого потока при разогреве материалов в вакууме. [19]

Схема устройства испарителей с косвенным подогревом. а - проволочные испарители. б - ленточные испарители. [20]

Для образования надежного) теплового контакта испаряемый материал должен хорошо смачивать материал подогревателя в расплавленном состоянии. [21]

Поскольку средняя длина свободного пробега молекул испаряемого материала в условиях высокого вакуума значительно превышает размеры колпака, то испаряемый материал распыляется прямолинейно во все стороны от испарителя и конденсируется на поверхности пластин кремния, установленных на приемной площадке. [22]

Ленточные испарители.| Тигельные испарители. [23]

Две сетки 3, расположенные выше уровня испаряемого материала, обеспечивают равномерность испарения. Корпус / и сетки 3 изготавливают из молибдена. [24]

Предпринимаются попытки создания таких установок, в которых испаряемый материал расплавляется вне вакуумной камеры. Так, в описании патента [161] предложена конструкция камеры для нанесения покрытий из алюминия и цинка на металлическую полосу, в которой предусматривается система подачи расплавленного металла в вакуумную камеру из питателя, расположенного вне камеры и соединенного с атмосферой. [25]

Нагреватели накаляются до более высокой температуры, чем испаряемый материал, что ведет к их быстрому изнашиванию. [26]

Некоторые виды испарителей, используемые при получении тонких пленок в вакууме. [27]

Испаритель с радиационным нагревом позволяет избежать непосредственного контакта испаряемого материала с подогревателем, однако загрязнение нагревателя парами осаждающейся пленки все же возможно. Испаритель состоит из тигля, смонтированного на изолирующей подставке ( для уменьшения потерь за счет теплопроводности), и проволочного нагревателя из тугоплавкого металла. Эффективность радиационного нагрева увеличивается при применении отражателя с отверстием в центре, расположенного над нагревателем. [28]

У испарителей второго типа электрический ток пропускается непосредственно через испаряемый материал. Этот метод испарения применяется главным образом для проволочных или ленточных материалов, температура испарения которых ниже температуры плавления. [29]

Фокусирующий электрод в простейшем случае имеет потенциал катода, испаряемый материал имеет нулевой потенциал. Такая конструкция испарителя применяется для испарения металлов, имеющих высокую скорость испарения при температуре плавления. Преимуществами этого устройства являются простота электроннолучевой системы и возможность легкой замены катода. [30]

Страницы: 1 2 3 4