Cтраница 1
![]() |
Электронные испарители. [1] |
Испаряемый металл 1 плотно вставляется в керамическую трубку 3 и располагается по оси вольфрамовой спирали 2, находящейся под нулевым потенциалом. [2]
Количество испаряемого металла может быть столь невелико, что не скажется на размерах изделия, но вполне достаточно для количественного спектрального анализа. [3]
![]() |
Растворимость элементов в железе. [4] |
При этом испаряемый металл нагревают до более высокой температуры, чем изделие. [5]
Если загрузка испаряемого металла должна удерживаться на нагревателе, то необходимо, чтобы материалы загрузки и нагревателя обладали небольшой взаимной растворимостью. Например, олово в отличие от золота не удерживается на вольфрамовой проволоке. [6]
Кроме того, испаряемый металл иногда помещают в корытце, чашечку или небольшой тигелек из другого тугоплавкого металла со значительно более высокой температурой плавления, который в свою очередь нагревается либо электрическим током, либо индукционными токами от генератора высокой частоты. [7]
![]() |
Проволочные испарители с кос - лении понимается темпера-венным подогревом. тура, при которой давление. [8] |
При небольших количествах испаряемого металла находят применение Y-образные, W-образные, волнообразные и спиральные испарители. Испаряемый металл в виде загнутых кусочков проволоки или полосок листового материала насаживается на подогреватель. [9]
Куски проволоки из испаряемого металла 3 наматываются между витками вспомогательной спирали на среднюю часть испарителя. При применении этого испарителя необходимо предусматривать компенсацию тепловых деформаций проволоки, так как при жестком креплении концов испаритель изгибается и создается неравномерное напыление по окружности. [10]
Тигель 11 с испаряемым металлом нагревается резистивным методом, хотя может быть применен индукционный или электронно-лучевой нагрев. [11]
Наиболее совершенным способом нагрева испаряемого металла является электронная бомбардировка. При этом способе испаряемый металл, являясь анодом электронной пушки, бомбардируется электронами и нагревается до температуры парообразования. Подложки для напыления вместе с трафаретами ( рисунками микросхемы) располагают вокруг анода. Поскольку подложка имеет более низкую температуру, чем анод, пары металла анода конденсируются на подложке в виде пленки, образуя рисунок микросхемы. [12]
![]() |
Внешний вид испарителей. [13] |
Возможно предварительное гальваническое нанесение испаряемого металла на проволоку подогревателя, что улучшает смачиваемость, например, серебрение вольфрамового или молибденового подогревателя перед завешиванием кусочков серебра. При испарении кадмия используют гальванически кадмированную вольфрамовую проволоку. [14]
Сварочная ванна испытывает реактивное воздействие испаряемого металла, теплового и рентгеновского излучения, воздействие потока электронов, а также давление отдачи вторичных и тепловых электронов. Сила давления испаряемого металла составляет основную часть общего силового воздействия на ванну, ее величина может достигать нескольких граммов. [15]